隔熱擋板及反應(yīng)腔室制造技術(shù)

本發(fā)明專(zhuān)利技術(shù)提供了一種隔熱擋板及反應(yīng)腔室，隔熱擋板設(shè)置于冷泵口，用于遮擋光源或反射光對(duì)冷泵口的輻射，包括第一擋板和固定件，第一擋板的數(shù)量為至少兩個(gè)，至少兩個(gè)第一擋板在豎直方向上依次疊置，且在豎直方向上相鄰的兩個(gè)第一擋板之間存在垂直間距；并且，固定件用于固定至少兩個(gè)第一擋板。本發(fā)明專(zhuān)利技術(shù)提供的隔熱擋板，其可以提高熱量的遮擋效率，從而可以避免冷卻裝置的冷卻效率低和再生頻率高，進(jìn)而可以提高工藝過(guò)程的穩(wěn)定性和持續(xù)性。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
隔熱擋板及反應(yīng)腔室
本專(zhuān)利技術(shù)屬于半導(dǎo)體設(shè)備制造
，具體涉及一種隔熱擋板及反應(yīng)腔室。
技術(shù)介紹
物理氣相沉積（PhysicalVaporDeposition，以下簡(jiǎn)稱PVD）技術(shù)是微電子領(lǐng)域常用的加工技術(shù)，主要用于鋁、銅等金屬薄膜的沉積，以獲得金屬接觸、金屬互連線等。PVD設(shè)備的工藝腔室為真空環(huán)境，通常工藝腔室需要達(dá)到高真空，例如，工藝腔室需要達(dá)到10-8Torr的本底真空。為了實(shí)現(xiàn)工藝腔室的高真空，借助冷卻裝置（例如，冷泵）吸附工藝腔室內(nèi)的氣體以提高真空度。圖1為現(xiàn)有的工藝腔室的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為圖1中擋板的俯視圖。請(qǐng)一并參閱圖1和圖2，冷卻裝置設(shè)置在工藝腔室10的下方，且與工藝腔室10相連通；冷卻裝置包括一級(jí)冷板11、二級(jí)冷板12和擋板13。其中，一級(jí)冷板11設(shè)置在冷卻裝置與工藝腔室10相連通的位置處，其溫度一般在80～100K，主要用來(lái)冷凝工藝腔室10內(nèi)的水蒸氣；二級(jí)冷板12位于一級(jí)冷板11的下方，主要用于冷凝工藝腔室10內(nèi)的經(jīng)由一級(jí)冷板11上的排氣口111朝向二級(jí)冷板12的氮?dú)狻鍤夂脱鯕猓⑶遥诙?jí)冷板12上還設(shè)置有活性炭，主要用于吸附工藝腔室10內(nèi)的經(jīng)由一級(jí)冷板11上的排氣口111朝向二級(jí)冷板12的氫氣、氦氣和氖氣，借助一級(jí)冷板11和二級(jí)冷板12對(duì)工藝腔室10內(nèi)氣體進(jìn)行冷凝，從而可以實(shí)現(xiàn)工藝腔室10的高真空；擋板13設(shè)置在工藝腔室10內(nèi)，且設(shè)置在冷卻裝置和工藝腔室10相連通的位置處的正上方，用以遮擋一級(jí)冷板11和二級(jí)冷板12以避免其受到光源的直接輻射。在實(shí)際應(yīng)用中，當(dāng)進(jìn)行低溫（<300℃）沉積工藝時(shí)，擋板13在光源的照射下溫度相對(duì)較低，這使得該擋板13作為輻射源可實(shí)現(xiàn)一級(jí)冷板11和二級(jí)冷板12的溫度不會(huì)上升較高，可以在一定程度上避免一級(jí)冷板11和二級(jí)冷板12上冷凝的水蒸汽、氬氣等氣體重新進(jìn)入工藝腔室10內(nèi)，從而可以提高冷卻裝置的冷卻效率和減小冷卻裝置的再生頻率。然而，當(dāng)在進(jìn)行高溫（>300℃）沉積工藝時(shí)，擋板13在光源的照射下溫度相對(duì)較高，這使得該擋板13作為輻射源可實(shí)現(xiàn)一級(jí)冷板11和二級(jí)冷板12的溫度上升較高，造成一級(jí)冷板11和二級(jí)冷板12上冷凝的水蒸汽、氬氣等氣體重新進(jìn)入工藝腔室10內(nèi)，從而造成冷卻裝置的冷卻效率低和冷卻裝置的再生頻率高。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專(zhuān)利技術(shù)旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題，提供了一種隔熱擋板及反應(yīng)腔室，其可以提高熱量的遮擋效率，因而可以避免冷卻裝置的冷卻效率低和再生頻率高，從而可以提高工藝過(guò)程的穩(wěn)定性和持續(xù)性；而且，該隔熱擋板不僅可以適用于低溫工藝過(guò)程，而且可以適用于高溫工藝過(guò)程，從而可以提高隔熱擋板的適用性。為解決本專(zhuān)利技術(shù)的問(wèn)題提供了一種隔熱擋板，設(shè)置于冷泵口，用于遮擋光源或反射光對(duì)所述冷泵口的輻射，包括第一擋板和固定件，所述第一擋板的數(shù)量為至少兩個(gè)，至少兩個(gè)所述第一擋板在豎直方向上依次疊置，且在豎直方向上相鄰的兩個(gè)所述第一擋板之間存在垂直間距；并且，所述固定件用于固定至少兩個(gè)所述第一擋板。優(yōu)選地，還包括第二擋板，所述第二擋板與所述第一擋板成垂直角度設(shè)置，所述第二擋板的上端固定在所述第一擋板的外側(cè)壁上，所述第二擋板用于阻擋熱量自所述第一擋板的側(cè)壁外側(cè)輻射至所述第一擋板的正下方。其中，所述第二擋板的數(shù)量至少為兩個(gè)，每個(gè)所述第二擋板的上端固定在所述第一擋板的外側(cè)壁上，并且至少兩個(gè)所述第二擋板在水平方向上依次排列，且在水平方向上相鄰的兩個(gè)所述第二擋板之間存在水平間距。優(yōu)選地，在相鄰的兩個(gè)所述第一擋板之間，且在所述垂直間距形成的間隙內(nèi)還設(shè)置有隔熱板，用以減小相鄰的兩個(gè)所述第一擋板之間的熱傳遞。其中，在每個(gè)所述第二擋板上設(shè)置有多個(gè)通孔，且相鄰兩個(gè)所述第二擋板的所述通孔的中心線不在同一條直線上，以防止熱量自所述通孔輻射至所述第一擋板的正下方。其中，所述垂直間距的范圍在5～10mm。其中，所述水平間距的范圍在5～10mm。優(yōu)選地，每個(gè)所述第一擋板和/或所述第二擋板采用具有單面鏡的不銹鋼材料制成，并且所述第一擋板和/或所述第二擋板的所述單面鏡位于其靠近熱源的表面上。本專(zhuān)利技術(shù)還提供了一種反應(yīng)腔室，包括冷卻裝置、隔熱擋板和固定裝置，所述冷卻裝置在所述反應(yīng)腔室的底壁與所述反應(yīng)腔室相連通，用以冷凝所述反應(yīng)腔室內(nèi)的氣體以提高反應(yīng)腔室的真空度；所述隔熱擋板設(shè)置在所述反應(yīng)腔室內(nèi)，用以遮擋所述冷卻裝置以防止熱量輻射至所述冷卻裝置；所述固定裝置用于將所述隔熱擋板固定在所述冷卻裝置與所述反應(yīng)腔室相連通位置處的正上方；所述隔熱擋板采用本專(zhuān)利技術(shù)提供的上述隔熱擋板。優(yōu)選地，所述隔熱擋板的所述第二擋板的下端與所述反應(yīng)腔室的底壁之間存在預(yù)設(shè)間距。其中，所述預(yù)設(shè)間距的范圍為不小于10mm。本專(zhuān)利技術(shù)具有下述有益效果：本專(zhuān)利技術(shù)提供的隔熱擋板，其在豎直方向上依次疊置的至少兩個(gè)第一擋板，且相鄰的兩個(gè)第一擋板在豎直方向上存在垂直間距，相鄰的兩個(gè)第一擋板需要經(jīng)過(guò)該垂直間距形成的間隙進(jìn)行熱傳遞，使得二者熱傳遞效率不高，這使得自最靠近熱源的第一擋板至最遠(yuǎn)離熱源的第一擋板的熱量逐漸減少，即，使得最遠(yuǎn)離熱源（即，最靠近位于隔熱擋板下方冷卻裝置）的第一擋板的熱量最少，該最遠(yuǎn)離熱源的第一擋板作為輻射源向冷卻裝置輻射的熱量較小，不會(huì)使得冷卻裝置冷凝的水蒸汽、氬氣等氣體重新進(jìn)入工藝腔室內(nèi)，因此，這與現(xiàn)有技術(shù)相比，可以提高熱量的遮擋效率，因而可以避免冷卻裝置的冷卻效率低和再生頻率高，從而可以提高工藝過(guò)程的穩(wěn)定性和持續(xù)性；而且，該隔熱擋板不僅可以適用于低溫工藝過(guò)程，而且可以適用于高溫工藝過(guò)程，從而可以提高隔熱擋板的適用性。本專(zhuān)利技術(shù)提供的反應(yīng)腔室，其通過(guò)采用本專(zhuān)利技術(shù)提供的隔熱擋板，可以避免冷卻裝置的冷卻效率低和再生頻率高，從而不僅可以提高反應(yīng)腔室真空化的效率，而且可以提高工藝過(guò)程的穩(wěn)定性和持續(xù)性。附圖說(shuō)明圖1為現(xiàn)有的工藝腔室的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖1中擋板的俯視圖；圖3為本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例提供的隔熱擋板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為圖3中至少兩個(gè)第一擋板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為圖3中至少兩個(gè)第二擋板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖6為本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例提供的反應(yīng)腔室的結(jié)構(gòu)示意圖；以及圖7為圖6中固定的隔熱擋板的結(jié)構(gòu)示意圖。具體實(shí)施方式為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本專(zhuān)利技術(shù)的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖對(duì)本專(zhuān)利技術(shù)提供的隔熱擋板及反應(yīng)腔室進(jìn)行詳細(xì)描述。圖3為本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例提供的隔熱擋板的結(jié)構(gòu)示意圖。圖4為圖3中至少兩個(gè)第一擋板的結(jié)構(gòu)示意圖。圖5為圖3中至少兩個(gè)第二擋板的結(jié)構(gòu)示意圖。請(qǐng)一并參閱圖3、圖4和圖5，本實(shí)施例提供的隔熱擋板設(shè)置于冷泵口，用于遮擋光源或反射光對(duì)冷泵口的輻射，包括第一擋板10、固定件11、第二擋板12和隔熱板13。其中，第一擋板10的數(shù)量為至少兩個(gè)，在本實(shí)施例中，第一擋板10的數(shù)量為三個(gè)，包括第一擋板101、第一擋板102和第一擋板103，至少兩個(gè)第一擋板10在豎直方向上依次疊置，且在豎直方向上相鄰的兩個(gè)第一擋板10之間存在垂直間距H，如圖4所示；并且，固定件11用于固定至少兩個(gè)第一擋板10，在本實(shí)施例中，固定件11為螺柱，并且，為實(shí)現(xiàn)相鄰的兩個(gè)第一擋板10之間存在垂直間距H，在相鄰的兩個(gè)第一擋板10之間設(shè)置有墊塊（圖中未示出），在實(shí)際應(yīng)用中，固定件11也可以采用其他方式固定，以及采用其他的方式實(shí)現(xiàn)相鄰的兩個(gè)第一擋板10之間存在垂直間距H。優(yōu)選地，垂直間距H的范圍在5～1本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種隔熱擋板，設(shè)置于冷泵口，用于遮擋光源或反射光對(duì)所述冷泵口的輻射，其特征在于，包括第一擋板和固定件，所述第一擋板的數(shù)量為至少兩個(gè)，至少兩個(gè)所述第一擋板在豎直方向上依次疊置，且在豎直方向上相鄰的兩個(gè)所述第一擋板之間存在垂直間距；并且，所述固定件用于固定至少兩個(gè)所述第一擋板。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種隔熱擋板，設(shè)置于冷泵口，用于遮擋光源或反射光對(duì)所述冷泵口的輻射，其特征在于，包括第一擋板和固定件，所述第一擋板的數(shù)量為至少兩個(gè)，至少兩個(gè)所述第一擋板在豎直方向上依次疊置，且在豎直方向上相鄰的兩個(gè)所述第一擋板之間存在垂直間距；并且，所述固定件用于固定至少兩個(gè)所述第一擋板。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的隔熱擋板，其特征在于，還包括第二擋板，所述第二擋板與所述第一擋板呈垂直角度設(shè)置，所述第二擋板的上端固定在所述第一擋板的外側(cè)壁上，所述第二擋板用于阻擋熱量自所述第一擋板的側(cè)壁外側(cè)輻射至所述第一擋板的正下方。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的隔熱擋板，其特征在于，所述第二擋板的數(shù)量至少為兩個(gè)，每個(gè)所述第二擋板的上端固定在所述第一擋板的外側(cè)壁上，并且至少兩個(gè)所述第二擋板在水平方向上依次排列，且在水平方向上相鄰的兩個(gè)所述第二擋板之間存在水平間距。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的隔熱擋板，其特征在于，在相鄰的兩個(gè)所述第一擋板之間，且在所述垂直間距形成的間隙內(nèi)還設(shè)置有隔熱板，用以減小相鄰的兩個(gè)所述第一擋板之間的熱傳遞。5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的隔熱擋板，其特征在于，在每個(gè)所述第二擋板上設(shè)置有多個(gè)通孔，且相鄰兩個(gè)所述第二擋板的所述通孔的中心線不在同一條直線上，以防止熱量自所述通孔輻射至所述第一擋板的正下方。6.根據(jù)權(quán)利要求1...

【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：張軍，武學(xué)偉，董博宇，
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人：北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司，
類(lèi)型：發(fā)明
國(guó)別省市：北京;11