本發(fā)明專利技術(shù)提供一種輻射敏感樹脂組合物,其含有:粘合劑樹脂(A)、輻射敏感化合物(B)、交聯(lián)劑(C)、不含硫的半受阻酚類抗氧化劑和/或不含硫的少受阻酚類抗氧化劑(D)、含硫的酚類抗氧化劑(E)。根據(jù)本發(fā)明專利技術(shù),可提供能夠獲得曝光靈敏度高、燒制后的形狀保持性優(yōu)異、在氧化性氣體氛圍中燒制后也具有高透明性的樹脂膜的輻射敏感樹脂組合物。
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術(shù)】
本專利技術(shù)設(shè)及福射敏感樹脂組合物、W及具備由該福射敏感樹脂組合物形成的樹脂 膜的電子部件,更具體而言,設(shè)及能夠獲得曝光靈敏度高、燒制后的形狀保持性優(yōu)異、在氧 化性氣體氛圍中燒制后也具有高透明性的樹脂膜的福射敏感樹脂組合物、W及具備由該福 射敏感樹脂組合物形成的樹脂膜的電子部件。
技術(shù)介紹
在有機化元件、液晶顯示元件等各種顯示元件、集成電路元件、固體攝像元件、濾 色器、黑矩陣等電子部件中,作為用于防止其劣化及損傷的保護膜、用于使元件表面、布線 實現(xiàn)平坦化的平坦化膜、用于保持電絕緣性的電絕緣膜等,設(shè)置有各種樹脂膜。另外,在有 機化元件中,為了將發(fā)光體部分離而設(shè)置有作為像素分離膜的樹脂膜,此外,在薄膜晶體 管型液晶用顯示元件、集成電路元件等元件中,為了使配置成層狀的布線之間絕緣,設(shè)置有 作為層間絕緣膜的樹脂膜。W往,作為用于形成該些樹脂膜的樹脂材料,常用的是環(huán)氧樹脂等熱固性樹脂材 料。但隨著近年來布線、器件的高密度化,對于該些樹脂材料,也要求開發(fā)出低介電性等電 氣特性優(yōu)異的新型的樹脂材料。 為了滿足該些要求,例如,專利文獻1中公開了含有環(huán)狀締姪類聚合物、交聯(lián)劑、 福射敏感化合物、酪類防老劑及非酪類防老劑的福射敏感樹脂組合物。然而,根據(jù)該專利 文獻1中記載的福射敏感樹脂組合物,盡管能夠得到在氧化性氣體氛圍中燒制后也具有高 透明性的樹脂膜,但所得樹脂膜對于放射線的曝光靈敏度低,因此,從改善生產(chǎn)性的觀點來 看,還有待改善。 現(xiàn)有技術(shù)文獻 專利文獻 專利文獻1 ;日本特開2005-292278號公報
技術(shù)實現(xiàn)思路
[000引專利技術(shù)要解決的問題 本專利技術(shù)的目的在于提供能夠獲得曝光靈敏度高、燒制后的形狀保持性優(yōu)異、在氧 化性氣體氛圍中燒制后也具有高透明性的樹脂膜的福射敏感樹脂組合物,W及具有由該樣 的福射敏感樹脂組合物形成的樹脂膜的電子部件。 解決問題的方法 本專利技術(shù)人等為了達成上述目的而進行了深入研究,結(jié)果發(fā)現(xiàn),通過在配合粘合劑 樹脂、福射敏感化合物及交聯(lián)劑的同時,配合特定的2種抗氧化劑,具體是將不含硫的半受 阻酪類抗氧化劑和/或不含硫的少受阻酪類抗氧化劑、與含硫的酪類抗氧化劑組合使用, 可W達成上述目的,進而完成了本專利技術(shù)。 即,根據(jù)本專利技術(shù),可提供: -種福射敏感樹脂組合物,其含有;粘合劑樹脂(A)、福射敏感化合物炬)、交 聯(lián)劑(C)、不含硫的半受阻酪類抗氧化劑和/或不含硫的少受阻酪類抗氧化劑值)、含硫的 酪類抗氧化劑巧); 上述所述的福射敏感樹脂組合物,其還含有具有酸性基團或熱潛在性酸 性基團的化合物(巧; 上述或所述的福射敏感樹脂組合物,其中,上述含硫的酪類抗氧化劑 巧)為選自含有硫原子的受阻酪類抗氧化劑、含有硫原子的半受阻酪類抗氧化劑、及含有硫 原子的少受阻酪類抗氧化劑中的至少一種; 上述~巧]中任一項所述的福射敏感樹脂組合物,其中,相對于上述粘合 劑樹脂(A) 100重量份,上述不含硫的半受阻酪類抗氧化劑和/或不含硫的少受阻酪類抗氧 化劑值)的含量為0. 1~20重量份,相對于上述粘合劑樹脂(A) 100重量份,上述含硫的酪 類抗氧化劑巧)的含量為0. 1~15重量份;~中任一項所述的福射敏感樹脂組合物,其中,上述福射敏感化 合物炬)為疊氮化合物; -種電子部件,其具備由上述~[引中任一項所述的福射敏感樹脂組合物 形成的樹脂膜;W及, 上述所述的電子部件,其是經(jīng)由下述工序制造的:形成由上述福射敏感樹 脂組合物形成的樹脂膜,對上述樹脂膜進行圖案化,然后在氧化氣體氛圍中進行燒制。 專利技術(shù)的效果 根據(jù)本專利技術(shù),可提供能夠獲得曝光靈敏度高、燒制后的形狀保持性優(yōu)異、在氧化性 氣體氛圍中燒制后也具有高透明性的樹脂膜的福射敏感樹脂組合物、W及具備由該福射敏 感樹脂組合物形成的樹脂膜的電子部件。【具體實施方式】 本專利技術(shù)的福射敏感樹脂組合物含有:粘合劑樹脂(A)、福射敏感化合物炬)、交聯(lián) 劑(C)、不含硫的半受阻酪類抗氧化劑和/或不含硫的少受阻酪類抗氧化劑值)、含硫的酪 類抗氧化劑巧)。[002引(粘合劑樹脂(A))作為本專利技術(shù)中使用的粘合劑樹脂(A),沒有特殊限定,優(yōu)選為具有質(zhì)子性極性基團 的環(huán)狀締姪聚合物(A1)、丙締酸樹脂(A2)、卡多(Cardo)樹脂(A3)、聚硅氧烷(A4)或聚酷 亞胺(A5),其中,特別優(yōu)選為具有質(zhì)子性極性基團的環(huán)狀締姪聚合物(A1)。該些粘合劑樹 脂(A)可W分別單獨使用,也可W將2種W上組合使用。 作為具有質(zhì)子性極性基團的環(huán)狀締姪聚合物(A1) (W下簡稱為"環(huán)狀締姪聚合物 (A1)"),可列舉1種或2種W上環(huán)狀締姪單體的聚合物、或1種或2種W上環(huán)狀締姪單體與 能夠與其共聚的單體的共聚物,在本專利技術(shù)中,作為用W形成環(huán)狀締姪聚合物(A1)的單體, 優(yōu)選使用至少具有質(zhì)子性極性基團的環(huán)狀締姪單體(a)。 該里,所述質(zhì)子性極性基團,指的是含有在屬于周期律表第15族或第16族的原子 上直接鍵合氨原子而成的原子團的基團。在屬于元素周期律表第15族或第16族的原子中, 優(yōu)選屬于元素周期律表第15族或第16族的第1或第2周期的原子,更優(yōu)選為氧原子、氮原 子或硫原子,特別優(yōu)選為氧原子。 作為該樣的質(zhì)子性極性基團的具體例,可列舉;哲基、駿基(哲基幾基)、橫酸基、 磯酸基等具有氧原子的極性基團;伯氨基、仲氨基、伯酷胺基、仲酷胺基(酷亞胺基)等具有 氮原子的極性基團;硫哲基等具有硫原子的極性基團;等等。該些中,優(yōu)選具有氧原子的極 性基團,更優(yōu)選為駿基。在本專利技術(shù)中,對于具有質(zhì)子性極性基團的環(huán)狀締姪樹脂上鍵合的質(zhì) 子性極性基團的個數(shù)沒有特殊限定,另外,也可W包含不同種類的質(zhì)子性極性基團。 作為具有質(zhì)子性極性基團的環(huán)狀締姪單體(a)(W下,適當(dāng)稱為"單體(a)")的 具體例,可列舉;2-哲基幾基雙環(huán)化2. 1]庚-5-締、2-甲基-2-哲基幾基雙環(huán)巧.2. 1] 庚-5-締、2-駿基甲基-2-哲基幾基雙環(huán)化2. 1]庚-5-締、2-哲基幾基-2-甲氧基幾 基甲基雙環(huán)化2.1]庚-5-締、2-哲基幾基-2-己氧基幾基甲基雙環(huán)化2.1]庚-5-締、 2- 哲基幾基-2-丙氧基幾基甲基雙環(huán)化2. 1]庚-5-締、2-哲基幾基-2-了氧基幾基甲 基雙環(huán)化2.1]庚-5-締、2-哲基幾基-2-戊氧基幾基甲基雙環(huán)化2.1]庚-5-締、2-哲 基幾基-2-己氧基幾基甲基雙環(huán)化2. 1]庚-5-締、2-哲基幾基-2-環(huán)己氧基幾基甲基 雙環(huán)化2.1]庚-5-締、2-哲基幾基-2-苯氧基幾基甲基雙環(huán)化2.1]庚-5-締、2-哲 基幾基-2-蒙氧基幾基甲基雙環(huán)化2. 1]庚-5-締、2-哲基幾基-2-聯(lián)苯氧基幾基甲基 雙環(huán)化2.1]庚-5-締、2-哲基幾基-2-節(jié)氧基幾基甲基雙環(huán)化2.1]庚-5-締、2-哲 基幾基-2-哲基己氧基幾基甲基雙環(huán)化2. 1]庚-5-締、2, 3-二哲基幾基雙環(huán)巧.2. 1] 庚-5-締、2-哲基幾基-3-甲氧基幾基雙環(huán)化2. 1]庚-5-締、2-哲基幾基-3-己氧基幾 基雙環(huán)化2. 1]庚-5-締、2-哲基幾基-3-丙氧基幾基雙環(huán)化2. 1]庚-5-締、2-哲基 幾基-3- 了氧基幾基雙環(huán)化2. 1]庚-5-締、2-哲基幾基-3-戊氧基幾基雙環(huán)巧.2. 1] 庚-5-締、2-哲基幾基-3-己氧基幾基雙環(huán)本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護點】
一種輻射敏感樹脂組合物,其含有:粘合劑樹脂(A)、輻射敏感化合物(B)、交聯(lián)劑(C)、不含硫的半受阻酚類抗氧化劑和/或不含硫的少受阻酚類抗氧化劑(D)、含硫的酚類抗氧化劑(E)。
【技術(shù)特征摘要】
【國外來華專利技術(shù)】...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:阿部聰,堤隆志,
申請(專利權(quán))人:日本瑞翁株式會社,
類型:發(fā)明
國別省市:日本;JP
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