一種電磁吸盤充返磁控制器制造技術(shù)

本實用新型專利技術(shù)公開了一種電磁吸盤充返磁控制器，包括可控硅整流單元，可控硅整流單元包括有并聯(lián)連接的第一可控硅整流器組和第二可控硅整流器組，各可控硅整流器組由2個反并聯(lián)連接的可控硅整流器構(gòu)成，各可控硅整流器分別通過繼電器串聯(lián)連接有電磁吸盤；本實用新型專利技術(shù)在使用時可根據(jù)導(dǎo)通角和充退磁時間控制兩組反并聯(lián)的可控硅的通斷，從而同時控制兩組電磁吸盤的充磁和退磁輸出電流，實現(xiàn)最佳的充退磁效果。

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

本技術(shù)涉及電氣控制領(lǐng)域，具體涉及一種電磁吸盤充返磁控制器。
技術(shù)介紹
許多機床(如磨床、鏡床等)在加工工件時都需要用電磁吸盤將工件吸附固定在工作臺面上。此時需要電磁吸盤充返磁控制器來對電磁吸盤進行充、返磁控制。充磁時，電磁吸盤充返磁控制器可根據(jù)加工工件的形狀、大小的需要為電磁吸盤提供不同的勵磁電流；返磁時，電磁吸盤充返磁控制器需輸出方向交替變換、幅值逐漸減小的返磁電流。常規(guī)的電磁吸盤充返磁控制器是將交流電源整流成直流以后，用接觸器等有觸點開關(guān)切換勵磁電流的方向進行充返磁控制，這種電路的觸電容易燒蝕，縮短使用壽命；另一種電磁吸盤充返磁控制器是先把交流電源整流成直流，再用逆變電路轉(zhuǎn)換成方向可變的直流電源，這種電路較為復(fù)雜，故障率高。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本技術(shù)所要解決的技術(shù)問題是提供一種簡單可靠、且調(diào)節(jié)操作方便的電磁吸盤充返磁控制器。為解決上述問題，本技術(shù)所采取的技術(shù)方案如下:—種電磁吸盤充返次磁控制器，包括可控硅整流單元，其特征在于:所述可控硅整流單元包括有并聯(lián)連接的第一可控硅整流器組和第二可控硅整流器組，所述各可控硅整流器組由2個反并聯(lián)連接的可控硅整流器構(gòu)成，所述各可控硅整流器分別通過繼電器串聯(lián)連接有電磁吸盤。優(yōu)選的，所述交流電源一端設(shè)置有繼電器。本技術(shù)針對電磁吸盤的工作特點，在使用時可根據(jù)導(dǎo)通角和充退磁時間控制兩組反并聯(lián)的可控硅的通斷，從而同時控制兩組電磁吸盤的充磁和退磁輸出電流，實現(xiàn)最佳的充退磁效果。【附圖說明】圖1為本技術(shù)電路原理圖。【具體實施方式】如圖1所示，一種電磁吸盤充返磁控制器，其主要由可控硅整流電路、5個繼電器K1-K5、及4個電磁吸盤YH1-YH4組成，其中可控硅整流電路由第一可控硅整流器SCRl和第三可控硅整流器SCR3、第二可控硅整流器SCR2和第四可控硅整流器SCR4相互反并聯(lián)連接組成，各可控硅整流器SCR1-SCR4分別通過4個繼電器K1-K4與4個電磁吸盤YH1-YH4串聯(lián)接入交流電源U、V兩端，交流電源V端還設(shè)置有繼電器K5。工作時，閉合繼電器K5，該電磁吸盤充返磁控制器兩組相互反并聯(lián)連接的可控硅整流器形成兩個輸出通道，每個通道有兩路負載電磁吸盤YH1、YH3及YH2、YH4。當(dāng)選擇其中某一路，如:當(dāng)繼電器K1、K3閉合，充磁時，在交流輸入的正半周，可控硅整流器SCR2導(dǎo)通，電磁吸盤YHl負載通電，在交流輸入的負半周，可控硅整流器SCR4導(dǎo)通，電磁吸盤ΥΗ3負載通電，此時電磁吸盤YHl和電磁吸盤ΥΗ3中流過的都是正向電流；退磁時，可控硅整流器SCR2、可控硅整流器SCR4和可控硅整流器SCR1、可控硅整流器SCR3交替通導(dǎo)，當(dāng)可控硅整流器SCR2、可控硅整流器SCR4通導(dǎo)時，電磁吸盤ΥΗ2和電磁吸盤ΥΗ4中流過的都是正向電流，同理，當(dāng)可控硅整流器SCR1、可控硅整流器SCR3通導(dǎo)時，電磁吸盤YHl和電磁吸盤ΥΗ3中流過的都是負向電流，即負載中流過的是正負交替變化，幅度逐漸衰減的電流信號。【主權(quán)項】1.一種電磁吸盤充返磁控制器，包括可控硅整流單元，其特征在于:所述可控硅整流單元包括有并聯(lián)連接的第一可控硅整流器組和第二可控硅整流器組，所述各可控硅整流器組均由2個反并聯(lián)連接的可控硅整流器構(gòu)成，所述各可控硅整流器分別通過繼電器串聯(lián)連接有電磁吸盤。【專利摘要】本技術(shù)公開了一種電磁吸盤充返磁控制器，包括可控硅整流單元，可控硅整流單元包括有并聯(lián)連接的第一可控硅整流器組和第二可控硅整流器組，各可控硅整流器組由2個反并聯(lián)連接的可控硅整流器構(gòu)成，各可控硅整流器分別通過繼電器串聯(lián)連接有電磁吸盤；本技術(shù)在使用時可根據(jù)導(dǎo)通角和充退磁時間控制兩組反并聯(lián)的可控硅的通斷，從而同時控制兩組電磁吸盤的充磁和退磁輸出電流，實現(xiàn)最佳的充退磁效果。【IPC分類】H02P13/00【公開號】CN204761353【申請?zhí)枴緾N201520215586【專利技術(shù)人】袁鑫, 劉偉, 賈黨峰 【申請人】西吉電工（蘭州）有限公司【公開日】2015年11月11日【申請日】2015年4月10日本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】
一種電磁吸盤充返磁控制器，包括可控硅整流單元，其特征在于：所述可控硅整流單元包括有并聯(lián)連接的第一可控硅整流器組和第二可控硅整流器組，所述各可控硅整流器組均由2個反并聯(lián)連接的可控硅整流器構(gòu)成，所述各可控硅整流器分別通過繼電器串聯(lián)連接有電磁吸盤。

【技術(shù)特征摘要】

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：袁鑫，劉偉，賈黨峰，
申請(專利權(quán))人：西吉電工蘭州有限公司，
類型：新型
國別省市：甘肅;62