本發(fā)明專(zhuān)利技術(shù)的課題在于提供親水性、耐磨性的均衡性優(yōu)異、因水而導(dǎo)致的親水性的降低少、而且耐氣候性也優(yōu)異的固化物(例如膜)、可得到該固化物的聚合物及聚合物組合物。本發(fā)明專(zhuān)利技術(shù)的聚合物為在分子內(nèi)具有含磺酸基團(tuán)、環(huán)氧基、及特定的烷氧基甲硅烷基的特定的共聚物(i)。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來(lái)華專(zhuān)利技術(shù)】共聚物及包含該共聚物的親水性材料
本專(zhuān)利技術(shù)涉及具有防霧性、防污性、防靜電性、并且耐磨性、耐氣候性優(yōu)異的親水性的共聚物、含有該共聚物的組合物、及由它們得到的固化物(例如膜)、以及它們的用途。
技術(shù)介紹
近年來(lái),針對(duì)在塑料表面、玻璃表面等基材表面產(chǎn)生的起霧、污垢進(jìn)行改善的要求,日趨強(qiáng)烈。作為解決起霧問(wèn)題的方法,提出了向丙烯酸系低聚物中添加反應(yīng)性表面活性劑的防霧涂料,認(rèn)為由該防霧涂料得到的固化物(膜)的親水性和吸水性提高(非專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。另外,作為解決污垢問(wèn)題的方法,例如,具有自清潔性(防污染性)的防污染材料受到關(guān)注,所述防污染材料使表面的親水性提高,通過(guò)降雨或?yàn)⑺仁垢街谕獗诘壬系奈酃?外界氣體疏水性物質(zhì)等)上浮而有效地將其除去(非專(zhuān)利文獻(xiàn)2、3)。作為用于解決上述“起霧”及“污垢”的課題的方案,本專(zhuān)利技術(shù)的專(zhuān)利技術(shù)人們提出了使陰離子性親水基團(tuán)向表面傾斜(集中化)的固化物(單層膜)(專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。通過(guò)該專(zhuān)利技術(shù)得到的固化物(膜)透明且親水性高,防霧性、防污性、防靜電性、速干性(附著水的干燥速度快)、及耐藥品性優(yōu)異,并且,硬且擦傷性也優(yōu)異。然而,通過(guò)本專(zhuān)利技術(shù)的專(zhuān)利技術(shù)人們的研究發(fā)現(xiàn),在耐磨性及耐氣候性方面存在改善的余地。通常,作為提高基材表面的耐氣候性及耐磨性的方法,已知在基材表面上涂覆無(wú)機(jī)化合物的方法。作為代表例,可舉出利用溶膠凝膠反應(yīng)將二氧化硅化合物硬涂布在眼鏡透鏡上的方法(非專(zhuān)利文獻(xiàn)4)。二氧化硅化合物的硬涂層由于結(jié)構(gòu)致密,所以非常硬,其磨耗性與玻璃相仿,但另一方面,該硬涂層存在容易破裂、染色困難、容易起霧、污垢容易附著而且容易固著這樣的課題等。作為解決這些問(wèn)題的方法,以往提出了多種方案。例如,作為賦予染色性及韌性的方法,提出了以下方法:向二氧化硅中配合三聚氰胺多元醇縮合物和具有環(huán)氧基的硅烷化合物的方法(專(zhuān)利文獻(xiàn)2),向二氧化硅中配合環(huán)氧化合物和鋁絡(luò)合物的方法(專(zhuān)利文獻(xiàn)3),向二氧化硅中配合具有羥基的丙烯酸系聚合物的方法(專(zhuān)利文獻(xiàn)4)。作為賦予防霧性的方法,提出了向二氧化硅中配合苯乙烯系磺酸聚合物的方法(專(zhuān)利文獻(xiàn)5)。此外,作為鋼板涂裝用水分散性樹(shù)脂組合物,已知有向下述共聚物樹(shù)脂(A)中配合鋯化合物(B)和硅烷偶聯(lián)劑(C)而成的組合物,所述共聚物樹(shù)脂(A)是將具有環(huán)氧基的聚合性不飽和單體、具有磺酸基等酸基的聚合性不飽和單體、具有羥基的聚合性不飽和單體、和具有水解性甲硅烷基的聚合性不飽和單體以相對(duì)于單體總量分別為0.1~10wt%的使用量范圍進(jìn)行乳液聚合而得到的(專(zhuān)利文獻(xiàn)6)。同樣地,作為金屬表面用水分散性樹(shù)脂處理劑,已知有向下述核殼型樹(shù)脂(A)中配合鋯化合物(B)和硅烷偶聯(lián)劑(C)而成的處理劑,所述核殼型樹(shù)脂(A)是將不含有環(huán)氧基、酸基及羥基的聚合性不飽和單體、具有環(huán)氧基的聚合性不飽和單體、具有磺酸基等酸基的聚合性不飽和單體、具有羥基的聚合性不飽和單體、具有水解性甲硅烷基的聚合性不飽和單體、和具有特定結(jié)構(gòu)的環(huán)狀脲基的聚合性不飽和單體以相對(duì)于單體總量分別為0.1~5wt%的使用量的范圍進(jìn)行乳液聚合而得到的(專(zhuān)利文獻(xiàn)7)。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)1:國(guó)際公開(kāi)第2007/064003號(hào)專(zhuān)利文獻(xiàn)2:日本特開(kāi)昭56-22365號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)3:日本特開(kāi)昭61-166824號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)4:日本特開(kāi)平06-166847號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)5:日本特開(kāi)平11-021512號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)6:日本特開(kāi)2006-342221號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)7:日本特開(kāi)2006-089589號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)非專(zhuān)利文獻(xiàn)1:東亞合成研究年報(bào),TREND1999年2月號(hào),39~44頁(yè)非專(zhuān)利文獻(xiàn)2:高分子,44(5),307頁(yè),1995年非專(zhuān)利文獻(xiàn)3:未來(lái)材料,2(1),36-41頁(yè),2002年非專(zhuān)利文獻(xiàn)4:塑料透鏡的技術(shù)和應(yīng)用,165-166頁(yè),CMC出版,2003年6月30日發(fā)行
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
專(zhuān)利技術(shù)所要解決的課題上述專(zhuān)利文獻(xiàn)5中記載的方案是親水性容易提高的理想方案,但經(jīng)本專(zhuān)利技術(shù)的專(zhuān)利技術(shù)人們研究發(fā)現(xiàn):該方案存在聚合物容易從膜脫離,由于水而導(dǎo)致親水性降低的傾向(例如膜厚越小越顯著),并存在在實(shí)際要求防霧性及防污性(利用雨水等的自清潔)的場(chǎng)所難以耐于使用這樣的課題。本專(zhuān)利技術(shù)的目的在于提供親水性、耐磨性的均衡性優(yōu)異、因水而導(dǎo)致的親水性的降低少、并且耐氣候性也優(yōu)異的固化物(例如膜)、可得到該固化物的聚合物及聚合物組合物。用于解決課題的手段本專(zhuān)利技術(shù)的專(zhuān)利技術(shù)人們?yōu)榱私鉀Q上述課題而反復(fù)進(jìn)行了研究,結(jié)果發(fā)現(xiàn),由在分子內(nèi)具有含磺酸基團(tuán)、環(huán)氧基、及烷氧基甲硅烷基的共聚物(i)、及含有這些共聚物(i)的組合物得到的固化物(例如膜)的親水性、耐磨性的均衡性優(yōu)異,因水而導(dǎo)致的親水性的降低少,并且耐氣候性也優(yōu)異,從而完成了本專(zhuān)利技術(shù)。即,本專(zhuān)利技術(shù)涉及以下的[1]~[10]。[1]一種共聚物(i),其包含下述通式(1)、(2)及(3)所示的結(jié)構(gòu)單元。(上述式(1)、(2)及(3)中,a、b、及c表示各結(jié)構(gòu)單元的結(jié)構(gòu)單元比,a=0.998~0.001,b=0.001~0.998,c=0.001~0.998,并且a+b+c=1,A1表示單鍵、碳原子數(shù)1~10的2價(jià)的烴基、下述式(1-1)所示的基團(tuán)、或下述式(1-2)所示的基團(tuán),A2表示單鍵、碳原子數(shù)1~10的2價(jià)的烴基、下述式(2-1)所示的基團(tuán)、或下述式(2-2)所示的基團(tuán),A3表示單鍵、碳原子數(shù)1~10的2價(jià)的烴基、下述式(3-1)所示的基團(tuán)、或下述式(3-2)所示的基團(tuán),R1、R2、及R3獨(dú)立地表示氫原子或甲基,R4獨(dú)立地表示氫原子、甲基、乙基、丙基、或丁基,R10表示氫原子、甲基、乙基、丙基、丁基、甲氧基、乙氧基、丙氧基、或丁氧基,M表示氫原子、堿金屬離子、1/2價(jià)的堿土金屬離子、銨離子、或胺離子;下述式(1-1)、(1-2)、(2-1)、(2-2)、(3-1)、及(3-2)中,n及n2獨(dú)立地為1~10的整數(shù),n1為0~10的整數(shù),m為1~6的整數(shù),m1為0~6的整數(shù),1為0~4的整數(shù),R5及R6獨(dú)立地表示氫原子或甲基,*表示與SO3M鍵合側(cè)的端部,**表示與環(huán)氧基鍵合側(cè)的端部,***表示與Si原子鍵合側(cè)的端部。)[2]如項(xiàng)[1]所述的共聚物(i),其中,通式(1)、(2)及(3)所示的結(jié)構(gòu)單元分別包含下述通式(4)、(5)及(6)所示的結(jié)構(gòu)單元。(上述式(4)、(5)及(6)中,a、b、及c表示各結(jié)構(gòu)單元的結(jié)構(gòu)單元比,a=0.998~0.001,b=0.001~0.998,c=0.001~0.998,并且a+b+c=1,n1為0~10的整數(shù),n為1~10的整數(shù),R1、R2、R3、R5、及R6獨(dú)立地表示氫原子或甲基,R4獨(dú)立地表示氫原子、甲基、乙基、丙基、或丁基,R10表示氫原子、甲基、乙基、丙基、丁基、甲氧基、乙氧基、丙氧基、或丁氧基,M表示氫原子、堿金屬離子、1/2價(jià)的堿土金屬離子、銨離子、或胺離子。)[3]如項(xiàng)[1]或[2]所述的共聚物(i),其中,上述共聚物(i)的利用GPC測(cè)得的重均分子量為500~3,000,000。[4]一種組合物,其含有項(xiàng)[1]~[3]中任一項(xiàng)所述的共聚物(i)。[5]如項(xiàng)[4]所述的組合物,其中,還含有下述通式(7)所示的硅烷化合物(ii)。(上述式(7)中,X1及X2各自獨(dú)立地表示羥基、碳原子數(shù)1~4的烷氧基、或本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種共聚物(i),其包含下述通式(1)、(2)及(3)所示的結(jié)構(gòu)單元,所述式(1)、(2)及(3)中,a、b、及c表示各結(jié)構(gòu)單元的結(jié)構(gòu)單元比,a=0.998~0.001,b=0.001~0.998,c=0.001~0.998,并且a+b+c=1,A1表示單鍵、碳原子數(shù)1~10的2價(jià)的烴基、下述式(1-1)所示的基團(tuán)或下述式(1-2)所示的基團(tuán),A2表示單鍵、碳原子數(shù)1~10的2價(jià)的烴基、下述式(2-1)所示的基團(tuán)或下述式(2-2)所示的基團(tuán),A3表示單鍵、碳原子數(shù)1~10的2價(jià)的烴基、下述式(3-1)所示的基團(tuán)或下述式(3-2)所示的基團(tuán),R1、R2及R3獨(dú)立地表示氫原子或甲基,R4獨(dú)立地表示氫原子、甲基、乙基、丙基或丁基,R10表示氫原子、甲基、乙基、丙基、丁基、甲氧基、乙氧基、丙氧基或丁氧基,M表示氫原子、堿金屬離子、1/2價(jià)的堿土金屬離子、銨離子或胺離子;下述式(1-1)、(1-2)、(2-1)、(2-2)、(3-1)及(3-2)中,n及n2獨(dú)立地為1~10的整數(shù),n1為0~10的整數(shù),m為1~6的整數(shù),m1為0~6的整數(shù),l為0~4的整數(shù),R5及R6獨(dú)立地表示氫原子或甲基,*表示與SO3M鍵合側(cè)的端部,**表示與環(huán)氧基鍵合側(cè)的端部,***表示與Si原子鍵合側(cè)的端部,...
【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來(lái)華專(zhuān)利技術(shù)】2013.04.12 JP 2013-0839141.一種組合物,其含有共聚物(i)和下述通式(7)所示的硅烷化合物(ii),所述共聚物(i)包含下述通式(1)、(2)及(3)所示的結(jié)構(gòu)單元,所述式(1)、(2)及(3)中,a、b、及c表示各結(jié)構(gòu)單元的結(jié)構(gòu)單元比,a=0.998~0.001,b=0.001~0.998,c=0.001~0.998,并且a+b+c=1,A1表示單鍵、碳原子數(shù)1~10的2價(jià)的烴基、下述式(1-1)所示的基團(tuán)或下述式(1-2)所示的基團(tuán),A2表示單鍵、碳原子數(shù)1~10的2價(jià)的烴基、下述式(2-1)所示的基團(tuán)或下述式(2-2)所示的基團(tuán),A3表示單鍵、碳原子數(shù)1~10的2價(jià)的烴基、下述式(3-1)所示的基團(tuán)或下述式(3-2)所示的基團(tuán),R1、R2及R3獨(dú)立地表示氫原子或甲基,R4獨(dú)立地表示氫原子、甲基、乙基、丙基或丁基,R10表示氫原子、甲基、乙基、丙基、丁基、甲氧基、乙氧基、丙氧基或丁氧基,M表示氫原子、堿金屬離子、1/2價(jià)的堿土金屬離子、或銨離子;下述式(1-1)、(1-2)、(2-1)、(2-2)、(3-1)及(3-2)中,n及n2獨(dú)立地為1~10的整數(shù),n1為0~10的整數(shù),m為1~6的整數(shù),m1為0~6的整數(shù),l為0~4的整數(shù),R5及R6獨(dú)立地表示氫原子或甲基,*表示與SO3M鍵合側(cè)的端部,**表示與環(huán)氧基鍵合側(cè)的端部,***表示與Si原子鍵合側(cè)的端部,所述式(7)中,X1及X2各自獨(dú)立地表示羥基、碳原子數(shù)...
【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:岡崎光樹(shù),
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人:三井化學(xué)株式會(huì)社,
類(lèi)型:發(fā)明
國(guó)別省市:日本;JP
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