線圈構(gòu)件及電子電路制造技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)提供線圈構(gòu)件和電子電路。該線圈構(gòu)件在利用樹(shù)脂密封時(shí)防止氣泡在內(nèi)部滯留，該電子電路安裝有該線圈構(gòu)件。線圈構(gòu)件(10)包括：柱狀芯，其具有以大于周圍卷繞有繞線的軸部的直徑的直徑形成的凸緣部(210)；以及環(huán)狀芯，其具有供柱狀芯貫穿的開(kāi)口部(110)。凸緣部(210)的內(nèi)側(cè)凸緣面的外緣包括位于比開(kāi)口部(110)的內(nèi)表面靠徑向外側(cè)的位置的外側(cè)延伸區(qū)域(211、212、213、214)和位于比開(kāi)口部(110)的內(nèi)表面靠徑向內(nèi)側(cè)的位置的內(nèi)側(cè)延伸區(qū)域(215、216、217、218)。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
線圈構(gòu)件及電子電路
本專利技術(shù)涉及線圈構(gòu)件及包括該線圈構(gòu)件的電子電路。
技術(shù)介紹
以往以來(lái)，公知有一種線圈構(gòu)件，該線圈構(gòu)件以覆蓋卷繞有繞線的鼓形芯的外側(cè)的方式配置環(huán)形芯，利用鼓形芯和環(huán)形芯放大在繞線產(chǎn)生的磁場(chǎng)，從而使電感增大。作為這種線圈構(gòu)件，例示下述的專利文獻(xiàn)1中的線圈構(gòu)件。在專利文獻(xiàn)1中，記載有一種線圈構(gòu)件：在上述那樣的結(jié)構(gòu)的線圈構(gòu)件中，在鼓形芯上涂敷聚酰亞胺系的絕緣涂料，利用該絕緣涂料的層設(shè)置芯間隙，從而實(shí)現(xiàn)較佳的電感值和直流疊加特性。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2003-257741號(hào)公報(bào)在利用樹(shù)脂來(lái)密封線圈構(gòu)件時(shí)，有時(shí)氣泡與樹(shù)脂一起被封入到線圈構(gòu)件的內(nèi)部。若這樣地封入氣泡，則可能因老化而導(dǎo)致線圈構(gòu)件的品質(zhì)大幅度地下降。但是，在利用樹(shù)脂封入專利文獻(xiàn)1那樣的結(jié)構(gòu)的線圈構(gòu)件的情況下，鼓形芯的凸緣部的緣在整周的范圍內(nèi)載置于環(huán)形芯，從而自上表面將該環(huán)形芯的凹部封閉。因此，可能導(dǎo)致氣泡殘留在環(huán)形芯的內(nèi)部，而從線圈構(gòu)件的耐用性的觀點(diǎn)來(lái)看存在品質(zhì)改善的余地。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
專利技術(shù)要解決的問(wèn)題本專利技術(shù)即是鑒于上述的課題而做成的，其目的在于提供在利用樹(shù)脂來(lái)進(jìn)行密封時(shí)防止氣泡在內(nèi)部滯留的線圈構(gòu)件及安裝有該線圈構(gòu)件的電子電路。用于解決問(wèn)題的方案根據(jù)本專利技術(shù)，提供一種線圈構(gòu)件，其中，該線圈構(gòu)件包括：柱狀芯，其具有周圍卷繞有繞線的軸部和在上述軸部的至少一端部以大于上述軸部的直徑的直徑形成的凸緣部；以及環(huán)狀芯，其具有供上述柱狀芯貫穿的開(kāi)口部和用于容納自上述開(kāi)口部貫穿的上述柱狀芯的容納部，上述凸緣部的內(nèi)側(cè)凸緣面的外緣包括位于比上述開(kāi)口部的內(nèi)表面靠徑向外側(cè)的位置的外側(cè)延伸區(qū)域和位于比上述開(kāi)口部的內(nèi)表面靠徑向內(nèi)側(cè)的位置的內(nèi)側(cè)延伸區(qū)域。根據(jù)本專利技術(shù)，提供將上述的線圈構(gòu)件和其它的電子構(gòu)件安裝于基板且至少上述線圈構(gòu)件被樹(shù)脂密封的電子電路。專利技術(shù)的效果采用本專利技術(shù)，能夠提供在利用樹(shù)脂來(lái)進(jìn)行密封時(shí)防止氣泡在內(nèi)部滯留的線圈構(gòu)件及安裝有該線圈構(gòu)件的電子電路。附圖說(shuō)明圖1是本專利技術(shù)的實(shí)施方式的線圈構(gòu)件的立體圖。圖2是自頂面觀察線圈構(gòu)件而得到的俯視圖。圖3是圖2中的III-III截面處的剖視圖。圖4是圖2中的IV-IV截面處的剖視圖。圖5是從底面觀察線圈構(gòu)件而得到的俯視圖。圖6是在基板上安裝有線圈構(gòu)件的電子電路的示意圖。圖7是自頂面觀察本專利技術(shù)的變形例的線圈構(gòu)件而得到的俯視圖。附圖標(biāo)記說(shuō)明10、50：線圈構(gòu)件；100：環(huán)狀芯；110、510：開(kāi)口部；111～114：間隙；120～124、515～518：凹部；131～134：電極部；131a～131e：鍍金面；135～138：分離面；140：容納部；141～144、511～514：槽；150：內(nèi)側(cè)角部；170：頂面；180：底面；200：柱狀芯；210、220、520：凸緣部；211～214、525～528：外側(cè)延伸區(qū)域；215～218、521～524：內(nèi)側(cè)延伸區(qū)域；230：角部；231～234：缺口；240：中心軸線；250：軸部；260：內(nèi)側(cè)凸緣面；300：繞線；310、330：引線；311、331：接合部位；400：電子電路；410：基板；412：電極；420：電子構(gòu)件；430：樹(shù)脂。具體實(shí)施方式以下，使用附圖說(shuō)明本專利技術(shù)的實(shí)施方式。另外，在所有的附圖中，對(duì)相同的結(jié)構(gòu)要素標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記并適當(dāng)?shù)厥÷哉f(shuō)明。關(guān)于線圈構(gòu)件10以下，使用圖1～圖6說(shuō)明本專利技術(shù)的實(shí)施方式的線圈構(gòu)件10和電子電路400。圖1是本專利技術(shù)的實(shí)施方式的線圈構(gòu)件10的立體圖。圖2是從頂面170觀察線圈構(gòu)件10而得到的俯視圖。圖3是圖2中的III-III截面處的剖視圖。圖4是圖2中的IV-IV截面處的剖視圖。圖5是從底面180觀察線圈構(gòu)件10而得到的俯視圖。圖6是在基板410上安裝有線圈構(gòu)件10的電子電路400的示意圖。在本實(shí)施方式的線圈構(gòu)件10中，將在安裝于基板410時(shí)面向該基板410側(cè)的一面稱為底面180，將與其相反的一側(cè)的一面稱為頂面170。只要沒(méi)有特別的說(shuō)明，則將頂面170的方向稱為“上”“上方”，將底面180的方向稱為“下”“下方”。線圈構(gòu)件10包括柱狀芯200和環(huán)狀芯100。柱狀芯200為所謂的鼓形芯，包括周圍卷繞有繞線300的軸部250、在軸部250的至少一端部以大于軸部250的直徑的直徑形成的凸緣部210。環(huán)狀芯100為所謂的環(huán)形芯，包括供柱狀芯200貫穿的開(kāi)口部110、用于容納自開(kāi)口部110貫穿的柱狀芯200的容納部140。凸緣部210的內(nèi)側(cè)凸緣面260(參照?qǐng)D3至圖5)的外緣包括位于比開(kāi)口部110的內(nèi)表面靠徑向外側(cè)的位置的外側(cè)延伸區(qū)域211、212、213、214和位于比開(kāi)口部110的內(nèi)表面靠徑向內(nèi)側(cè)的位置的內(nèi)側(cè)延伸區(qū)域215、216、217、218。即，在從上方觀察線圈構(gòu)件10時(shí)，外側(cè)延伸區(qū)域211、212、213、214以與環(huán)狀芯100的形成有開(kāi)口部110的壁面重疊的方式延伸，內(nèi)側(cè)延伸區(qū)域215、216、217、218自開(kāi)口部110的內(nèi)表面分離從而構(gòu)成間隙111、112、113、114(參照?qǐng)D2)。由于線圈構(gòu)件10具有上述這樣的特征，因此，在利用樹(shù)脂來(lái)封入線圈構(gòu)件10時(shí)，樹(shù)脂流入到該間隙111、112、113、114。因此，能夠抑制殘留在線圈構(gòu)件10的內(nèi)部的氣泡的量。另外，線圈構(gòu)件10能夠以環(huán)狀芯100(開(kāi)口部110的壁面)與柱狀芯200(凸緣部210的一部分)相重疊的部位為基準(zhǔn)來(lái)調(diào)整柱狀芯200和環(huán)狀芯100的相對(duì)位置。線圈構(gòu)件10為包括以環(huán)狀或螺旋狀卷繞導(dǎo)線而成的線圈(例如繞線300)的構(gòu)件(元件)，是指能夠在利用流經(jīng)線圈的電流而形成的磁場(chǎng)中儲(chǔ)存能量的無(wú)源元件。更具體而言，線圈構(gòu)件10為在微模塊組件中使用的表面安裝型線圈。微模塊是指在一個(gè)基板上或在被堆疊且相互連接的同一形狀的多個(gè)基板上搭載電子構(gòu)件而構(gòu)成的電子電路。微模塊組件是指利用樹(shù)脂對(duì)構(gòu)成微模塊的多個(gè)構(gòu)件進(jìn)行密封成型從而作為一個(gè)組件(單元構(gòu)件)稱呼時(shí)的名稱。以下說(shuō)明包括線圈構(gòu)件10的微模塊。如圖6所示，該微模塊是將線圈構(gòu)件10和其它的電子構(gòu)件420安裝于基板410且至少線圈構(gòu)件10被樹(shù)脂430密封的電子電路400。在基板410的表面設(shè)有多個(gè)電極412，線圈構(gòu)件10和其它的電子構(gòu)件420分別接合于電極412。線圈構(gòu)件10包括柱狀芯200和環(huán)狀芯100。柱狀芯200包括周圍卷繞有繞線300的軸部250、在軸部250的至少一端部以大于軸部250的直徑的直徑形成的凸緣部210。環(huán)狀芯100包括供柱狀芯200貫穿的開(kāi)口部110、用于容納自開(kāi)口部110貫穿的柱狀芯200的容納部140。凸緣部210的內(nèi)側(cè)凸緣面260的外緣包括位于比開(kāi)口部110的內(nèi)表面靠徑向外側(cè)的位置的外側(cè)延伸區(qū)域211、212、213、214和位于比開(kāi)口部110的內(nèi)表面靠徑向內(nèi)側(cè)的位置的內(nèi)側(cè)延伸區(qū)域215、216、217、218。如圖6所示，優(yōu)選的是，線圈構(gòu)件10和其它的電子構(gòu)件420一同被樹(shù)脂430密封。更詳細(xì)而言，優(yōu)選的是，線圈構(gòu)件10和其它的電子構(gòu)件420被相同種類的樹(shù)脂430密封成一個(gè)系列。密封成型所使用的樹(shù)脂能夠列舉出例如環(huán)氧樹(shù)脂等。所謂的環(huán)狀芯100呈環(huán)狀，是指在俯視時(shí)環(huán)狀芯100呈包圍平面上的恒定區(qū)域的形狀(圓形或方形等)、或包圍平面上的恒定區(qū)域且輪廓局部欠缺的形狀(C形或日文コ本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種線圈構(gòu)件，其中，該線圈構(gòu)件包括：柱狀芯，其具有周圍卷繞有繞線的軸部和在上述軸部的至少一端部以大于上述軸部的直徑的直徑形成的凸緣部；以及環(huán)狀芯，其具有供上述柱狀芯貫穿的開(kāi)口部和用于容納自上述開(kāi)口部貫穿的上述柱狀芯的容納部，上述凸緣部的內(nèi)側(cè)凸緣面的外緣包括位于比上述開(kāi)口部的內(nèi)表面靠徑向外側(cè)的位置的外側(cè)延伸區(qū)域和位于比上述開(kāi)口部的內(nèi)表面靠徑向內(nèi)側(cè)的位置的內(nèi)側(cè)延伸區(qū)域。

【技術(shù)特征摘要】
2014.05.12 JP 2014-0985181.一種線圈構(gòu)件，其中，該線圈構(gòu)件包括：柱狀芯，其具有周圍卷繞有繞線的軸部和在上述軸部的至少一端部以大于上述軸部的直徑的直徑形成的凸緣部；以及環(huán)狀芯，其具有供上述柱狀芯貫穿的開(kāi)口部和用于容納自上述開(kāi)口部貫穿的上述柱狀芯的容納部，上述凸緣部的內(nèi)側(cè)凸緣面的外緣包括位于比上述開(kāi)口部的內(nèi)表面靠徑向外側(cè)的位置的外側(cè)延伸區(qū)域和位于比上述開(kāi)口部的內(nèi)表面靠徑向內(nèi)側(cè)的位置的內(nèi)側(cè)延伸區(qū)域，上述外緣將相鄰的上述外側(cè)延伸區(qū)域和上述內(nèi)側(cè)延伸區(qū)域設(shè)為一組，且使各組以大致均勻的間隔交替地重復(fù)，上述內(nèi)側(cè)延伸區(qū)域的周向上的長(zhǎng)度大于上述外側(cè)延伸區(qū)域的周向上的長(zhǎng)度。2.一種線圈構(gòu)件，其中，該線圈構(gòu)件包括：柱狀芯，其具有周圍卷繞有繞線的軸部和在上述軸部的至少一端部以大于上述軸部的直徑的直徑形成的凸緣部；以及環(huán)狀芯，其具有供上述柱狀芯貫穿的開(kāi)口部和用于容納自上述開(kāi)口部貫穿的上述柱狀芯的容納部，上述凸緣部的內(nèi)側(cè)凸緣面的外緣包括位于比上述開(kāi)口部的內(nèi)表面靠徑向外側(cè)的位置的外側(cè)延伸區(qū)域和位于比上述開(kāi)口部的內(nèi)表面靠徑向內(nèi)側(cè)的位置的內(nèi)側(cè)延伸區(qū)域，上述凸緣部形成為大致矩形，上述開(kāi)口部以大致圓形開(kāi)口，上述開(kāi)口部的內(nèi)徑大于上述凸緣部的一邊的長(zhǎng)度，且小于上述凸緣部的對(duì)角線的長(zhǎng)度。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的線圈構(gòu)件，其中，上述環(huán)狀芯在形成有上述開(kāi)口部的一面設(shè)有凹部，上述外側(cè)延伸區(qū)域嵌合于上述凹部。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的線圈構(gòu)件，其中，形成于上述凸緣部的側(cè)端的角部位于上述外側(cè)延伸區(qū)域，在上述凹部的局部形成有與上述角部的形狀對(duì)應(yīng)的內(nèi)側(cè)角部，通過(guò)使上述角部嵌合于上述內(nèi)...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：山口喬之，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：勝美達(dá)集團(tuán)株式會(huì)社，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：日本;JP