本發明專利技術涉及用于涂覆氧化物陶瓷、金屬或合金的包含氧化銣的硅酸鋰玻璃陶瓷和硅酸鋰玻璃的用途。
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】【專利說明】包含氧化挪的娃酸裡玻璃陶瓷和娃酸裡玻璃 本專利技術涉及硅酸鋰玻璃陶瓷和硅酸鋰玻璃，所述硅酸鋰玻璃陶瓷和硅酸鋰玻璃包 含氧化銣并且其特征在于在特別是9. 0至14. 0 *10 6K 1的寬范圍內可調節的線性熱膨脹系 數，因此其主要適合于在牙科領域中用于鑲飾氧化物陶瓷修復體和金屬修復體。 在牙科學中，通常使用陶瓷層來鑲飾牙科修復體以使修復體的外觀與天然牙齒的 外觀匹配。這樣的經鑲飾的修復體也被稱為飾面陶瓷。為了避免在待鑲飾的修復體材料與 陶瓷層之間的應力，必須使陶瓷材料的熱膨脹系數適應修復體材料的熱膨脹系數。 過去，玻璃陶瓷早已被用于涂覆或鑲飾氧化物陶瓷，如氧化鋯陶瓷。這些包括長石 基陶瓷或氟磷灰石玻璃陶瓷。 焦硅酸鋰玻璃陶瓷也是已知的，由于其高的半透明度和非常好的機械性能，其被 特別用于牙科領域并且主要用于生產牙冠和小的齒橋。已知的硅酸鋰玻璃陶瓷通常包含 Si0 2、Li20、A1203、Na20或K 20作為主要組分，和成核劑如P205。 EP 0 885 855 A2和EP 0 885 856 A2描述了含有磷灰石的玻璃陶瓷，所述含有 磷灰石的玻璃陶瓷具有卓越的光學和化學性能并且強度在1 lOMPa左右，其適合于鑲飾Zr02 框架。 W0 2004/021921 A1描述了用于鑲飾Zr02的玻璃，但該玻璃僅具有低的強度。 EP 1 253 116 A1描述了用于鑲飾金屬框架的硅酸鋰玻璃與白榴石晶體的混合 物。該玻璃也僅具有不足的強度。 W0 2012/082156 A1描述了用于鑲飾金屬框架的硅酸鋰產品，該產品的膨脹系數 CTE1Q。4贓為I 2至I3. 5 ? 10 6K 1并且其強度高達3〇OMPa〇 EP 2 377 831 A1描述了含有Zr02的硅酸鋰玻璃陶瓷。所述玻璃陶瓷的膨脹系數 不適于鑲飾金屬框架。 為了使牙科玻璃陶瓷能夠被用于鑲飾全部范圍的慣用修復體材料，如從牙科金屬 和合金到氧化物陶瓷，其膨脹系數必須在寬范圍內可調節。此外，玻璃陶瓷就它們的光學和 機械性能而言必須滿足高要求，特別是必須具有非常高的強度。 已知的玻璃陶瓷和玻璃通常不滿足對在寬范圍內可調節的熱膨脹系數和對足夠 強度的要求。此外，對于已知的玻璃陶瓷，堿土金屬氧化物BaO以及堿金屬氧化物K 20和/ 或Na20通常作為必要組分存在，所述必要組分在此對于生產玻璃陶瓷，特別是對于形成通 常尋求的焦硅酸鋰主晶相是明顯需要的。 因此，需要這樣的硅酸鋰玻璃陶瓷，其中線性熱膨脹系數CTE1M4arc在寬范圍內， 特別是在9.0至14. 0 ? 10 l1范圍內，優選地在9. 6至12. 8 ? 10 l1范圍內是可調節的。 此外，它們還應能夠在沒有之前被認為是必要的堿金屬氧化物1(20或Na 20的情況下，以及特 別是在沒有堿土金屬氧化物Ba0的情況下制備，并且主要基于它們的光學和機械性能，它們 特別適合于鑲飾包括氧化物陶瓷修復體和金屬修復體的牙科修復體。 該目的通過使用根據權利要求1至14中任一項所述的硅酸鋰玻璃陶瓷或硅酸鋰 玻璃來實現。本專利技術的主題還為根據權利要求15至20所述的方法、根據權利要求21所述 的復合材料、根據權利要求22所述的硅酸鋰玻璃陶瓷和根據權利要求23所述的硅酸鋰玻 璃。 根據本專利技術的用途的特征在于，使用硅酸鋰玻璃陶瓷或硅酸鋰玻璃涂覆選自氧化 物陶瓷、金屬和合金的基底，所述硅酸鋰玻璃陶瓷或硅酸鋰玻璃包含以下組分： 已經出人意料地顯示出，根據本專利技術的硅酸鋰玻璃陶瓷具有在特別是9.0至 14. 0 ? 10 l1，優選為9. 6至12. 8 ? 10 l1的寬范圍內可容易地調節的線性熱膨脹系數 CTE1M 4are，并且另外具有卓越的光學和機械性能，如高強度和斷裂韌性。因此，該玻璃陶瓷 既適合于涂覆氧化物陶瓷，又適合于涂覆金屬和合金。特別出人意料的是，即使在沒有對于 常規玻璃陶瓷而言認為是必要的各種組分，如特別是K 20、Na20和BaO的情況下，也成功形成 了以硅酸鋰和/或焦硅酸鋰作為主晶相的玻璃陶瓷。根據本專利技術的玻璃陶瓷的形成也可以 通過使用根據本專利技術的硅酸鋰玻璃來實現，所述硅酸鋰玻璃相當于硅酸鋰玻璃陶瓷的前體 并且可以在施加至基底之前、期間或之后被轉變成硅酸鋰玻璃陶瓷。 優選的是，根據本專利技術使用的硅酸鋰玻璃陶瓷和根據本專利技術使用的硅酸鋰玻璃包 含給定量的至少一種并且優選地全部以下組分： 其中所述過渡金屬氧化物選自釔的氧化物、原子序數為41至79的過渡金屬的氧 化物以及這些氧化物的混合物。 優選地，所述硅酸鋰玻璃陶瓷和硅酸鋰玻璃包含58. 0至72. 0,特別是60. 0至 71. 0 以及優選為 63. 0 至 70.0 wt. -% 的 Si02。 還優選的是，所述硅酸鋰玻璃陶瓷和硅酸鋰玻璃包含14. 4至17. 5,特別是14. 5至 17. 0以及特別優選為14. 8至16. Owt. -%的Li20。 在一個優選的實施方案中，3102與Li 20的摩爾比為2. 0至3. 0,特別是2. 2至2. 6， 優選為2. 3至2. 5以及特別優選為約2. 4。在另一個優選的實施方案中，5102與Li 20的摩 爾比小于2. 0,特別是1. 5至1. 9,優選為1. 6至1. 8以及特別優選為約1. 7。 優選的是，所述硅酸鋰玻璃陶瓷和硅酸鋰玻璃包含3. 7至7. 7wt. -%，特別是5. 1 至7. 7wt. -%以及優選為6. 1至7. 4wt. -%的Rb20。 還優選的是，所述硅酸鋰玻璃陶瓷和硅酸鋰玻璃包含2. 5至4. Owt. - %，特別是 3. 0 至 3. 5wt. - % 以及優選為 3. 2 至 3. 4wt. - % 的 A1203。 優選地，Rb20與A1203的摩爾比為至少0. 1，特別是0. 2至2. 0,優選為0. 25至1. 25 以及特別優選為0.5至1.0。 優選地，所述玻璃和玻璃陶瓷包含3. 2至4. 5wt. -%，特別是3. 4至4. Owt. -%的 PA作為成核劑。 此外，根據本專利技術使用的硅酸鋰玻璃陶瓷和根據本專利技術使用的硅酸鋰玻璃還可以 包含附加組分，所述附加組分特別選自另外的一價元素的氧化物、二價元素的氧化物、另外 的三價元素的氧化物、另外的四價元素的氧化物、另外的五價元素的氧化物、六價元素的氧 化物、熔融加速劑、著色劑和熒光劑。在一個優選實施方案中，所述硅酸鋰玻璃陶瓷和硅酸 鋰玻璃包含的附加組分的量為〇至20.0 wt. -%，特別是0. 1至10.0 wt. -%，優選為0. 5至 7. 5wt. -%以及最優選為1. 0至5. Owt. -%。 術語"另外的一價元素的氧化物"是指除了 Li20和Rb20以外的一價元素的氧化物， 特別是堿金屬氧化物。適合的另外的一價元素的氧化物的實例為Na 20、K20、Cs20及其混合 物，特別是Na20、K 20及其混合物。 在一個實施方案中，所述硅酸鋰玻璃陶瓷和硅酸鋰玻璃包含0. 1至2. Owt. -%，特 別是0. 2至1. 5wt. -%，優選為0. 3至1. 4wt. -%以及特別優選為0. 5至1. Owt. -%的Na20。 在另一實施方案中，所述硅酸鋰玻璃陶瓷和硅酸鋰玻璃包含本文檔來自技高網...
【技術保護點】
硅酸鋰玻璃陶瓷或硅酸鋰玻璃在涂覆基底中的用途，所述硅酸鋰玻璃陶瓷或硅酸鋰玻璃包含以下組分：所述基底選自氧化物陶瓷、金屬和合金。
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...
【專利技術屬性】
技術研發人員：V·萊因伯格爾，M·拉姆夫，M·迪特默，C·里茨伯格，W·霍蘭德，M·施魏格爾，
申請(專利權)人：義獲嘉偉瓦登特公司，
類型：發明
國別省市：列支敦士登;LI
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