本實用新型專利技術具體公開一種減震按摩鞋墊，包括鞋墊本體，鞋墊本體上端面與腳后跟相對應位置處設有第一凹槽，第一凹槽內適配裝設有第一膠墊，第一膠墊的上端面上設有多個半球形凸粒，且半球形凸粒相對鞋墊本體上端面向上凸出；第一膠墊為一密閉腔室，密閉腔室的上內面設有多個上凸柱，上凸柱的底面呈向上彎曲的弧面，密閉腔室的下內面設有多個下凸柱，下凸柱與對應的上凸柱之間留有間距。本實用新型專利技術由于在鞋墊本體上端面后跟對應位置處設有第一凹槽，第一凹槽內適配裝設有第一膠墊，利用第一膠墊的受壓變形及良好回彈性能而提供不俗的減震能力，同時利用半球形凸粒對腳后跟進行柔性刺激，促進血液循環，具有按摩保健功效。
【技術實現步驟摘要】
本技術涉及鞋類
，特別是涉及一種減震按摩鞋墊。
技術介紹
鞋墊，作為置于鞋底之上用于承載腳部的運動鞋重要組成部分，現有的鞋墊功能性要求集中在透氣性及柔軟度上，一般是由EVA材質加上功能布料組成。然而，根據足部生物力學研究表明，大部分人是以腳后跟先著地的，而著地初期地面給予足部尤其是腳后跟的沖擊力是非常強大的，容易導致腳后跟疲勞損傷，為此鞋墊后跟部位上的減震功能性要求也應加強。而且，由于鞋墊上端面是直接與腳底接觸的，一般的鞋墊并不具有對腳底柔性刺激按摩的功能。
技術實現思路
本技術要解決的是現有鞋墊的減震性能和按摩功能差的問題。本技術采用的技術解決方案是:一種減震按摩鞋墊，包括鞋墊本體，所述鞋墊本體上端面與腳后跟相對應位置處設有第一凹槽，所述第一凹槽內適配裝設有第一膠墊，所述第一膠墊的上端面上設有多個半球形凸粒，且所述半球形凸粒相對所述鞋墊本體上端面向上凸出。采用該技術方案的有益效果:由于在鞋墊本體上端面后跟對應位置處設有第一凹槽，第一凹槽內適配裝設有第一膠墊，利用第一膠墊的受壓變形及良好回彈性能而提供不俗的減震能力，降低運動過程中地面對腳后跟的沖擊力，同時利用半球形凸粒對腳后跟進行柔性刺激，促進血液循環，具有按摩保健功效。優選地，所述第一膠墊為一密閉腔室，所述密閉腔室的上內面向下凸設有多個上凸柱，所述上凸柱的底面呈向上彎曲的弧面，所述密閉腔室的下內面向上凸設有多個分別與所述上凸柱相對立設置的下凸柱，所述下凸柱與對應的所述上凸柱之間留有間距。采用該進一步方案的有益效果:上凸柱和下凸柱之間留有間隔，上凸柱的底面為向上彎曲的弧面，一方面保證第一膠墊的變形空間和變形能力，另一方面當上凸柱受壓抵接于下凸柱時又可借助弧面進一步緩沖變形，提高第一膠墊的減震能力。優選地，所述下凸柱的頂面呈向下彎曲的弧面。采用該進一步方案的有益效果:進一步提升第一膠墊的減震能力。優選地，所述下凸柱與對應的所述上凸柱之間的間距為5mm。優選地，所述半球形凸粒與所述第一膠墊同一材料一體成型。采用該進一步方案的有益效果:保證對腳底進行柔性刺激，不會產生刺痛感。優選地，所述鞋墊本體與足弓內側相對應位置處設有足弓墊。采用該進一步方案的有益效果:為足弓提供良好的支撐，提高穿著舒適度。優選地，所述鞋墊本體下端面與前腳掌相對應位置處設有第二凹槽，所述第二凹槽內適配裝設有第二膠墊，所述第二膠墊的底面與所述鞋墊本體下端面相齊平；所述鞋墊本體上端面與前腳掌相對應位置處向上凸設有多個按摩顆粒。優選地，所述第二膠墊為實心硅膠片。采用該進一步方案的有益效果:進一步提升鞋墊本體的減震能力和按摩保健功效。【附圖說明】圖1為本技術實施例俯視圖。圖2為沿圖1中所示A-A處的剖視圖。圖3為本技術鞋墊本體在第一凹槽處的寬度方向剖視圖。圖4為沿圖1中所示B-B處的剖視圖。附圖標記說明:10、鞋墊本體；11、第一凹槽；12、第二凹槽；13、足弓墊；14、按摩顆粒；20、第一膠墊；21、上凸柱；22、下凸柱；23、半球形凸粒；30、第二膠墊。【具體實施方式】下面結合附圖對本技術作進一步說明:如圖1-3所示，本實施例提供一種減震按摩鞋墊，包括鞋墊本體10，所述鞋墊本體10上端面與腳后跟相對應位置處設有第一凹槽11，所述第一凹槽11內適配裝設有第一膠墊20，所述第一膠墊20的上端面上設有多個半球形凸粒23，所述半球形凸粒23與所述第一膠墊20同一材料一體成型，且所述半球形凸粒23相對所述鞋墊本體10上端面向上凸出。在本實施例中，所述第一膠墊20為一密閉腔室，所述密閉腔室的上內面向下凸設有多個上凸柱21，所述上凸柱21的底面呈向上彎曲的弧面，所述密閉腔室的下內面向上凸設有多個分別與所述上凸柱21相對立設置的下凸柱22，所述下凸柱22與對應的所述上凸柱21之間留有間距，進一步地，所述下凸柱22的頂面呈向下彎曲的弧面，所述下凸柱22與對應的所述上凸柱21之間的間距為5mm。在本實施例中，所述鞋墊本體10與足弓內側相對應位置處設有足弓墊13。在上述技術方案的基礎上，本實施例還可作出如下進一步改進:如圖4所示，所述鞋墊本體10下端面與前腳掌相對應位置處設有第二凹槽12，所述第二凹槽12內適配裝設有第二膠墊30，所述第二膠墊30可為實心硅膠片，其底面與所述鞋墊本體10下端面相齊平。所述鞋墊本體10上端面與前腳掌相對應位置處向上凸設有多個按摩顆粒14。本技術不局限于上述最佳實施方式，任何人應該得知在本技術的啟示下作出的結構變化，凡是與本技術具有相同或相近的技術方案，均落入本技術的保護范圍之內。【主權項】1.一種減震按摩鞋墊，其特征在于，包括鞋墊本體，所述鞋墊本體上端面與腳后跟相對應位置處設有第一凹槽，所述第一凹槽內適配裝設有第一膠墊，所述第一膠墊的上端面上設有多個半球形凸粒，且所述半球形凸粒相對所述鞋墊本體上端面向上凸出。2.根據權利要求1所述的減震按摩鞋墊，其特征在于，所述第一膠墊為一密閉腔室，所述密閉腔室的上內面向下凸設有多個上凸柱，所述上凸柱的底面呈向上彎曲的弧面，所述密閉腔室的下內面向上凸設有多個分別與所述上凸柱相對立設置的下凸柱，所述下凸柱與對應的所述上凸柱之間留有間距。3.根據權利要求2所述的減震按摩鞋墊，其特征在于，所述下凸柱的頂面呈向下彎曲的弧面。4.根據權利要求2所述的減震按摩鞋墊，其特征在于，所述下凸柱與對應的所述上凸柱之間的間距為5mm。5.根據權利要求1所述的減震按摩鞋墊，其特征在于，所述半球形凸粒與所述第一膠墊同一材料一體成型。6.根據權利要求1所述的減震按摩鞋墊，其特征在于，所述鞋墊本體與足弓內側相對應位置處設有足弓墊。7.根據權利要求1至6任一項所述的減震按摩鞋墊，其特征在于，所述鞋墊本體下端面與前腳掌相對應位置處設有第二凹槽，所述第二凹槽內適配裝設有第二膠墊，所述第二膠墊的底面與所述鞋墊本體下端面相齊平；所述鞋墊本體上端面與前腳掌相對應位置處向上凸設有多個按摩顆粒。8.根據權利要求7所述的減震按摩鞋墊，其特征在于，所述第二膠墊為實心硅膠片。【專利摘要】本技術具體公開一種減震按摩鞋墊，包括鞋墊本體，鞋墊本體上端面與腳后跟相對應位置處設有第一凹槽，第一凹槽內適配裝設有第一膠墊，第一膠墊的上端面上設有多個半球形凸粒，且半球形凸粒相對鞋墊本體上端面向上凸出；第一膠墊為一密閉腔室，密閉腔室的上內面設有多個上凸柱，上凸柱的底面呈向上彎曲的弧面，密閉腔室的下內面設有多個下凸柱，下凸柱與對應的上凸柱之間留有間距。本技術由于在鞋墊本體上端面后跟對應位置處設有第一凹槽，第一凹槽內適配裝設有第一膠墊，利用第一膠墊的受壓變形及良好回彈性能而提供不俗的減震能力，同時利用半球形凸粒對腳后跟進行柔性刺激，促進血液循環，具有按摩保健功效。【IPC分類】A43B17/02, A61H39/04【公開號】CN204838242【申請號】CN201520637557【專利技術人】賴世沛, 鄧福高 【申請人】福建美明達鞋業發展有限公司【公開日】2015年12月9日【申請日】2015年8月24日本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種減震按摩鞋墊，其特征在于，包括鞋墊本體，所述鞋墊本體上端面與腳后跟相對應位置處設有第一凹槽，所述第一凹槽內適配裝設有第一膠墊，所述第一膠墊的上端面上設有多個半球形凸粒，且所述半球形凸粒相對所述鞋墊本體上端面向上凸出。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：賴世沛，鄧福高，
申請(專利權)人：福建美明達鞋業發展有限公司，
類型：新型
國別省市：福建;35
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