反射型的顯示裝置及其制造方法制造方法及圖紙

本發明專利技術提供一種反射型的顯示裝置及其制造方法。所述顯示裝置包括：由多個像素單元構成的像素單元陣列，每個像素單元包括由不同顏色的子像素單元構成的子像素單元陣列，每個子像素單元包括：垂直分層排列的至少兩個基底；多個微納米顆粒，能夠反射預定顏色的環境光，分別布置在至少兩個基底的各基底上，基底上設有能使位于其下方的各基底上的微納米顆粒穿過的孔，多個微納米顆粒在位于同一水平面的情況下呈預定晶格形式，在預定晶格形式中相鄰微納米顆粒之間具有預定間距；驅動單元，驅動至少兩個基底的至少一個基底沿預定軌跡移動，使至少一部分相鄰的微納米顆粒之間的間距發生變化，從而改變從所述子像素單元反射的所述預定顏色的環境光的光強。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術提供一種顯示裝置及其制造方法，更具體地講，涉及一種。
技術介紹
隨著科技的發展，為了提高電子設備(例如，手機、平板電腦、智能手表等)的用戶體驗，電子設備的顯示裝置的屏幕越來越大。目前，大多數電子設備的顯示裝置屬于主動發光型的顯示裝置。主動發光型的顯示裝置可通過對RGB(紅色、綠色和藍色)三原色進行混色，從而顯示豐富的色彩。但是，主動發光型的顯示裝置在對相關內容進行顯示時，必須點亮屏幕，從而消耗大量的電力，造成在電池單次充電的情況下，電子設備的使用時間很短。然而，反射型的顯示裝置可通過反射環境光來進行顯示，并且，反射型的顯示裝置只在圖像刷新時才消耗電力，在顯示時不需要消耗電力，因而可極大程度地延長電子設備單次充電的使用時間。目前的反射型顯示裝置通常使用電子墨水顯示技術或Mirasol(向日葵)顯示技術進行顯示。圖1示出使用電子墨水顯示技術的顯示裝置的示例的示圖。如圖1所示，使用電子墨水顯示技術的顯示裝置(如圖1中的(b)所示)，主要由如圖1中的(a)所示的10微米(μπι)左右的封裝了帶有負電的黑色微粒和帶有正電的白色微粒(如圖1中的(a)中所示的“膠囊微粒”)的“微膠囊”構成。圖1中的(a)所示的“微膠囊”中的膠囊微粒可以反射環境光，從而當改變頂部顯示電極和底部電極的極性時，顯示裝置能夠顯示白色或者黑色。另外，當需要顯示彩色圖像時，可采用在“微膠囊”的上方加入濾色鏡的方法或多原色合成的方法來顯示彩色圖像。圖2示出使用Mirasol顯示技術的顯示裝置的示例的示圖。如圖2所示，使用Mirasol顯示技術的顯示裝置可通過移動玻璃基板和反射膜來改變兩者之間的空氣層的厚度，并且當空氣層的厚度為特定厚度時，圖2所示的顯示裝置可反射特定顏色(例如，紅色、綠色或藍色等)的環境光，當空氣層的厚度非常小時，圖2所示的顯示裝置不反射環境光而呈黑色。然而，圖1或圖2所示的反射型的顯示裝置只能顯示有限種特定顏色，因而對色彩的還原能力低。當需要使用圖1或圖2所示的反射型顯示裝置顯示比較豐富的色彩時，就需要增加其它顏色的原色，但是增加原色會占據更多的空間而造成顯示裝置的分辨率的降低。因此，現有的反射型的顯示裝置的顯示效果差。
技術實現思路
本專利技術的示例性實施例在于提供一種。所述顯示裝置及其制造方法能夠克服現有的反射型的顯示裝置顯示效果差的缺陷。根據本專利技術示例性實施例的一方面，提供一種反射型的顯示裝置，包括:由多個像素單元構成的像素單元陣列，其中，每個像素單元包括由不同顏色的子像素單元構成的子像素單元陣列，每個子像素單元包括:垂直分層排列的至少兩個基底；多個微納米顆粒，能夠反射預定顏色的環境光，并分別布置在所述至少兩個基底之中的各個基底上，其中，基底上設有能夠使位于其下方的各基底上的微納米顆粒穿過的孔，并且，所述多個微納米顆粒在位于同一水平面的情況下呈預定晶格形式，在所述預定晶格形式中，相鄰的微納米顆粒之間具有預定間距；驅動單元，驅動所述至少兩個基底的至少一個基底沿預定軌跡移動，以使至少一部分相鄰的微納米顆粒之間的間距發生變化，從而改變從所述子像素單元反射的所述預定顏色的環境光的光強。可選地，各個子像素單元以標準子像素排列形式排列或Pentile排列形式排列。可選地，子像素單元包括:紅色子像素單元、綠色子像素單元和藍色子像素單元。可選地，在紅色子像素單元中，所述預定間距為680納米；在綠色子像素單元中，所述預定間距為520納米；在藍色子像素單元中，所述預定間距為420納米。可選地，所述微納米顆粒的折射率大于1.5。可選地，在紅色子像素單元中，所述微納米顆粒的特征尺寸范圍為;在綠色子像素單元中，所述微納米顆粒的特征尺寸范圍為;在藍色子像素單元中，所述微納米顆粒的特征尺寸范圍為。可選地，所述至少兩個基底之中的每個基底均為透明基底且厚度小于200納米。可選地，所述預定晶格形式為以下項中的任意一個:正方晶格、斜方晶格、長方晶格、六角晶格、準晶排列晶格、分形排列晶格和螺旋排列晶格。可選地，所述預定軌跡為垂直移動軌跡或水平移動軌跡。可選地，所述驅動單元基于熱效應、壓電效應、靜電效應和機械效應之中的至少一項來驅動所述至少一個基底沿預定軌跡移動。根據本專利技術示例性實施例的另一方面，提供一種反射型的顯示裝置的制造方法，包括:在至少兩個硅晶圓上分別使用預定工藝方法形成垂直分層排列的至少兩個基底層，其中，每個基底層包括與每個像素單元中的每個子像素單元一一對應的基底；在每個基底上使用預定方法形成能夠反射預定顏色的環境光的反射層；使用預定刻蝕方法在每個反射層上刻蝕出微納米顆粒陣列，并在相應的基底上刻蝕出能夠使位于其下方的各基底上的微納米顆粒穿過的孔，以使每個子像素單元所對應的所有基底的所有微納米顆粒陣列在位于同一水平面的情況下呈預定晶格形式，并使在所述預定晶格形式中，相鄰的微納米顆粒之間具有預定間距；使用反應離子刻蝕方法去除硅晶圓；將每個子像素單元的至少一個基底與驅動單元連接。可選地，所述預定工藝方法為以下項中的任意一個:電子束沉積法、真空蒸發法、磁控濺射法、溶膠-凝膠法和脈沖激光沉積法。可選地，所述預定方法為以下項中的任意一個:旋轉涂覆法、電子束蒸發法、濺射法、離子輔助沉積法、原子層沉積法和溶膠-凝膠法。可選地，使用預定刻蝕方法在每個反射層上刻蝕出微納米顆粒陣列的步驟包括:使用旋轉涂覆法在每個反射層上形成抗反射層；使用旋轉涂覆法在抗反射層上形成光刻膠層；使用所述預定刻蝕方法在光刻膠層上刻蝕出與所述微納米顆粒陣列一致的刻蝕圖案；使用所述預定刻蝕方法按照所述刻蝕圖案來刻蝕抗反射層和反射層；使用等離子灰化法去除光刻膠層和抗反射層，以暴露出反射層上刻蝕出的所述微納米顆粒陣列。可選地，所述預定刻蝕方法為以下項中的任意一個:干涉光刻法、反應離子刻蝕法、掩膜光刻法、電子束曝光光刻法和聚焦離子束刻蝕法。可選地，所述驅動單元基于熱效應、壓電效應、靜電效應和機械效應之中的至少一項來驅動所述至少一個基底沿預定軌跡移動。在根據本專利技術示例性實施例的中，可通過使至少一個基底沿預定軌跡移動來破壞微納米顆粒的晶格結構，從而改變子像素單元反射的預定顏色的環境光的光強，進而能夠使顯示裝置的像素單元顯示更加豐富的色彩。【附圖說明】通過下面結合示例性地示出實施例的附圖進行的描述，本專利技術示例性實施例的上述和其它目的和特點將會變得更加清楚，其中:圖1示出使用電子墨水顯示技術的顯示裝置的示例的示圖；圖2示出使用Mirasol (向日葵)顯示技術的顯示裝置的示例的示圖；圖3示出根據本專利技術示例性實施例的微納米顆粒的示例的示圖；圖4示出根據本專利技術示例性實施例的當反射型的顯示裝置的子像素單元以標準子像素排列形式排列時像素單元的示例的示圖；圖5示出根據本專利技術示例性實施例的圖4的像素單元的示例的示意圖；圖6示出根據本專利技術示例性實施例的當反射型的顯示裝置的子像素單元以Pentile排列形式排列時像素單元的示例的示意圖；圖7示出根據本專利技術示例性實施例的當反射型的顯示裝置的子像素單元以Pentile排列形式排列時像素單元的另一示例的示意圖；圖8示出根據本專利技術示例性實施例的圖3的像素單元中的子像素單元的示例的示圖；圖9示出根據本專利技術示例性實施例的當圖8的子像素單元為紅色子像素單元時反射的環境光本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種反射型的顯示裝置，包括：由多個像素單元構成的像素單元陣列，其中，每個像素單元包括由不同顏色的子像素單元構成的子像素單元陣列，每個子像素單元包括：垂直分層排列的至少兩個基底；多個微納米顆粒，能夠反射預定顏色的環境光，并分別布置在所述至少兩個基底之中的各個基底上，其中，基底上設有能夠使位于其下方的各基底上的微納米顆粒穿過的孔，并且，所述多個微納米顆粒在位于同一水平面的情況下呈預定晶格形式，在所述預定晶格形式中，相鄰的微納米顆粒之間具有預定間距；驅動單元，驅動所述至少兩個基底的至少一個基底沿預定軌跡移動，以使至少一部分相鄰的微納米顆粒之間的間距發生變化，從而改變從所述子像素單元反射的所述預定顏色的環境光的光強。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：郝銳，馮天華，
申請(專利權)人：廣州三星通信技術研究有限公司，三星電子株式會社，
類型：發明
國別省市：廣東;44