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    層積體制造技術

    技術編號:12669852 閱讀:154 留言:0更新日期:2016-01-07 14:25
    本發明專利技術涉及一種層積體,其包含基材和層積于該基材上的表層;該表層中,在與該基材側相反一側的表面形成有微細凹凸結構;該表層是使活性能量射線固化性組合物固化而得的固化物;該活性能量射線固化性組合物是含有以下顆粒的活性能量射線固化性組合物:當將該微細凹凸結構的相鄰凸部間的平均間隔設為100%時,顆粒的平均粒徑為該間隔的80%以上。

    【技術實現步驟摘要】
    【國外來華專利技術】
    本專利技術涉及具有微細凹凸結構的層積體和使用該層積體的防反射物品、影像裝置 以及觸摸屏。 本申請要求基于2013年5月21日在日本申請的特愿2013-106734號的優先權,在這 里引用其內容。 在各種顯示器、透鏡、櫥窗等與空氣接觸的界面(表面)存在由太陽光或照明等在 表面反射所引起的可視性下降這樣的問題。作為用于減少反射的方法,已知如下的方法:層 積折射率不同的多層膜,使在膜表面的反射光與在膜與基材的界面的反射光通過干涉而消 除。這些膜通常是以濺射、蒸鍍和涂布等方法來制造的。然而,這樣的方法中,即使增加膜 的層積數,要降低反射率和反射率的波長依賴性,也存在界限。另外,為了消減制造成本而 減少層積數,需要具有更低折射率的材料。 為了降低材料的折射率,用任一方法向材料中導入空氣都是有效的,但作為使膜 表面的折射率下降的方法之一,例如,在膜表面上形成微細凹凸結構的方法是眾所周知的。 根據這些方法,形成有微細凹凸結構的表面層整體的折射率取決于空氣與形成微細凹凸結 構的材料之間的體積比,因而,能大幅降低折射率。其結果是,即使層積數少,也能降低折射 率。 另外,提出了在玻璃基板上形成的防反射膜中,在整個膜上連續形成角錐狀的凸 部的防反射膜(例如,參照專利文獻2)。如專利文獻2所記載,對于形成有角錐狀的凸部 (微細凹凸結構)的防反射膜,由于在膜面方向上進行切斷時的截面積連續變化,折射率從 空氣側朝向基板側慢慢增大,因而,成為有效的防反射手段。此外,該防反射膜顯示出不能 被其它方法所取代的優良光學性能。 對于由如上所述的微細凹凸結構所構成的防反射膜,優選在外觀上具有均勻厚 度。作為呈現均勻厚度的方法,已知的是在形成表層的組合物中添加顆粒而賦予觸變性的 方法(例如,參照專利文獻1)。 作為賦予耐擦傷性的方法,提出了具有以下特征的層積體(參照專利文獻2): 微細突起是等效球直徑為10~50nm的顆粒和組合物構成的同時,以重量比計算,所述 顆粒的添加量為20~60%。 現有技術文獻 專利文獻 專利文獻1 :日本專利特表2001-520683號公報 專利文獻2 :日本專利特開2009-20355號公報
    技術實現思路
    專利技術要解決的問題 如專利文獻1和2所記載,在形成表層的組合物中添加平均粒徑為50nm以下的 顆粒,能得到具有均勻膜厚的層積體,但存在顆粒進入微細凹凸結構的凸部而變得硬脆,因 此,耐擦傷性下降的情況。 本專利技術的課題在于得到表層具有均勻膜厚且耐擦傷性優良的層積體。 解決問題的手段 本專利技術的一實施方式涉及一種層積體,其特征在于,所述層積體設有表層,所述表 層具有形成了微細凹凸結構的表面;所述表層是活性能量射線固化性組合物的固化物;所 述活性能量射線固化性組合物含有平均粒徑為微細凹凸結構的相鄰凸部間的間隔的80% 以上的顆粒。 本專利技術的一形式為設有所述層積體的防反射物品。 本專利技術的一形式為設有所述層積體的圖像顯示裝置(也稱為影像裝置)。 本專利技術的一形式為設有所述層積體的觸摸屏。 也就是說,本專利技術涉及以下方面。 一種層積體,其包含基材和層積于所述基材上的表層; 所述表層中,在與所述基材側相反一側的表面形成有微細凹凸結構; 所述表層是使活性能量射線固化性組合物固化而得的固化物; 所述活性能量射線固化性組合物是含有以下顆粒的活性能量射線固化性組合物: 當將所述微細凹凸結構的相鄰凸部間的平均間隔設為100%時,顆粒的平均粒徑為所 述平均間隔的80%以上。 如記載的層積體,其中,當將所述微細凹凸結構的相鄰凸部間的平均間隔設為 100%時,所述平均粒徑為所述平均間隔的100~1200%。 如記載的層積體,其中,所述微細凹凸結構的相鄰凸部間的平均間隔為25nm以 上、400nm以下。 如記載的層積體,其中,所述平均粒徑為80~2200nm,所述相鄰凸部間的平均 間隔為100~250nm。 如~記載的層積體,其中,所述顆粒為選自由二氧化硅(Si02)、二氧化鈦 (TiO2)以及聚合物構成的群中的至少一種;所述聚合物包含選自由甲基丙烯酸甲酯和苯乙 烯構成的群中的至少一種。 如~記載的層積體,其中,所述微細凹凸結構的凸部形狀具有以下結構: 從所述微細凹凸結構的凸部頂端部一側朝向基材一側,在垂直于所述層積體高度方向 的方向上切斷所述微細凹凸結構的凸部時,其截面積占有率連續增大。 如~記載的層積體,其中,相對于所述活性能量射線固化性組合物100質 量份,所述顆粒的含量為1~70質量份。 如~記載的層積體,其中,當將所述活性能量射線固化性組合物的聚合性 成分的合計量設為100質量份時,所述活性能量射線固化性組合物中,3官能團以上的多官 能團(甲基)丙烯酸酯的含量為10質量份以上、60質量份以下,雙官能團(甲基)丙烯酸 酯的含量為40質量份以上、90質量份以下。 一種防反射物品,其包含記載的層積體。 -種影像裝置,其包含記載的層積體。 一種觸摸屏,其包含記載的層積體。 專利技術效果 根據本專利技術,可提供一種表層具有均勻膜厚的層積體。另外,根據本專利技術,還可得 到相對于布等摩擦的耐擦傷性優良的層積體。【附圖說明】 圖1是顯示作為本專利技術一實施方式的層積體的構成的一例示意截面圖。 圖2是顯示作為本專利技術一實施方式的層積體的構成的一例示意截面圖。 圖3是顯示作為本專利技術一實施方式的包含層積體的防反射物品的一例示意圖。 圖4是顯示作為本專利技術一實施方式的包含層積體的影像裝置的一例示意圖。 圖5是顯示作為本專利技術一實施方式的包含層積體的觸摸屏的一例示意圖。 符號說明 10 :層積體 11 :基材 12 :表層 13 :凸部 14 :凹部 15 :透明粘合層 16 :透明玻璃體 17 :影像顯示構件 18 :空隙部 19 :透明電極層積構件 20 :觸摸屏構件 21 :支撐構件【具體實施方式】 以下,對本專利技術進行詳細說明。 圖1是顯示作為本專利技術一實施方式的層積體10的構成的一例示意截面圖。圖1中,層 積體10具有以下結構:在具有光透過性的基材11上層積有表層12,其中,表層12是由使活 性能量射線固化性組合物固化而得的固化物所構成。層積體10中,在表層12的表面(即 表層12中,與接觸基材11的面為相反側的一面)上形成有微細凹凸結構。 層積體10中,優選在表層12的整個表面形成有微細凹凸結構,但也可在表層12 的一部分表面上形成有微細凹凸結構。另外,層積體10具有膜形狀時,可在基材11的兩面 上層積形成有微細凹凸結構的表層。優選使用以自組織化形成微細凹凸結構的壓模來形成 表層表面的微細凹凸結構。 作為本專利技術一實施方式的層積體中,表層是由使活性能量射線固化性組合物固化 而得的固化物所構成;所述活性能量射線固化性組合物包含以下的顆粒:當將在所述表層 表面上形成的微細凹凸結構的相鄰凸部間的平均間隔設為100%時,顆粒的平均粒徑為該 平均間隔的80%以上、8000%以下。優選包含2000%以下的顆粒。通過包含所述顆粒,能 憑借所述顆粒的分子間相互作用而賦予觸變性,能在基材上以均勻的膜厚涂布活性能量射 線固化性組合物,因此,在表層固化后,能得到具有均勻膜厚的層積體。另外,通過使所述活 性能量射線固化性組合物中所含顆粒的平均粒徑在經固化所述活性能量射線固化性組合 本文檔來自技高網
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    【技術保護點】
    一種層積體,其包含基材和層積于所述基材上的表層;所述表層中,在與所述基材側相反一側的表面形成有微細凹凸結構;所述表層是使活性能量射線固化性組合物固化而得的固化物;所述活性能量射線固化性組合物是含有以下顆粒的活性能量射線固化性組合物:當將所述微細凹凸結構的相鄰凸部間的平均間隔設為100%時,顆粒的平均粒徑為所述平均間隔的80%以上。

    【技術特征摘要】
    【國外來華專利技術】...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:藤山恒祐地紙哲哉中井祐介守誠一朗大谷剛
    申請(專利權)人:三菱麗陽株式會社
    類型:發明
    國別省市:日本;JP

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