真空泵以及真空泵的制造方法技術

本發明專利技術是關于一種真空泵及真空泵的制造方法，所述真空泵可確實地避免作為高溫部的定子與作為低溫部的基座的接觸。真空泵包括：圓筒狀的轉子圓筒部；圓筒狀的定子(22)，與轉子圓筒部協動而排出氣體；以及筒狀的基座(20)，固定有定子(22)；且定子(22)與基座(20)之間不具有嵌合構造，且以與基座(20)同心的狀態固定于所述基座(20)。此時，徑向間隙(G1)的部分并非嵌合構造，因此，可考慮定子(22)的熱膨脹而設定為足夠大的間隙，從而可確實地防止因熱膨脹而定子(22)與基座(20)接觸的情況。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術是有關于一種真空栗(pump)以及真空栗的制造方法。
技術介紹
以往，在半導體制造裝置或液晶制造裝置等的腔室(chamber)排氣時，使用有渦輪分子栗(turbo-molecular pump)等真空栗。在半導體制造裝置或液晶制造裝置的刻蝕制造過程(etching process)中，會產生反應產物堆積在真空栗的問題。因此，已知有利用加熱單元使栗溫度上升來抑制反應產物的堆積。例如，在專利文獻1中所記載的真空栗中，因為反應產物容易堆積在包含圓筒狀轉子(rotor)與定子(stator)(螺紋定子)的排氣部，所以將加熱器(heater)埋入定子內以直接進行加熱而升溫。日本專利特開2011-80407號公報另外，在相對于定子以微小的間隙(gap)進行轉子高速旋轉的真空栗中，需要將轉子與定子配置成同心狀態。因此，當將定子固定于基座(base)時，在固定部，將定子側的軸部與基座側的孔部設為空隙(c 1 earance)為0.1mm左右的嵌合關系而進行定子的定位。然而，如果如上所述般在定子設置加熱器進行加熱，會有如下問題:因熱膨脹而空隙變小，軸部的整周會接觸于孔部，作為高溫部的定子的熱會逸散到作為低溫部的基座，從而定子溫度下降。
技術實現思路
本專利技術的優選的實施方式的真空栗包括:圓筒狀的轉子；圓筒狀的定子，與所述轉子協動而排出氣體；以及筒狀的基座，固定有所述定子；且所述定子與所述基座之間不具有嵌合構造，且以與所述基座同心狀態固定于該基座。更優選的實施方式中，在所述定子及所述基座分別形成有銷孔(pinhole)，所述銷孔供定位銷嵌入，所述定位銷用于將所述定子及所述基座設為所述同心狀態。更優選的實施方式中，所述定子及所述基座分別具有抵接部，所述抵接部在所述同心狀態下形成有徑向間隙，且當所述定子的徑向位置偏移時相互接觸而阻止所述定子與所述轉子的接觸。本專利技術的優選的實施方式的真空栗包括:圓筒狀的轉子；圓筒狀的定子，與所述轉子協動而排出氣體；以及基座，與所述定子以同心狀態固定；且在所述定子及所述基座分別設置有抵接部，所述抵接部在所述同心狀態下形成有徑向間隙，且當所述定子的徑向位置偏移時相互接觸而阻止所述定子與所述轉子的接觸。本專利技術的優選的實施方式的真空栗的制造方法中，所述真空栗包括:圓筒狀的轉子；圓筒狀的定子，與所述轉子協動而排出氣體；以及筒狀的基座，固定有所述定子；所述真空栗的制造方法的特征在于:使用定位治具(jig)，將所述定子相對于所述基座定位成同心狀態，在所述同心狀態下將所述定子固定于所述基座，且在將所述定子固定于所述基座之后去除所述定位治具。根據本專利技術，可確實地避免作為高溫部的定子與作為低溫部的基座的接觸。【附圖說明】圖1是表示本專利技術的真空栗的一種實施方式的圖，且表示渦輪分子栗的剖面。圖2是從底面側觀察渦輪分子栗所得的圖。圖3是圖1的設置有定子加熱部28的部分的放大圖。圖4是圖1的圖示左側的定子22與基座20的固定部的放大圖。圖5是表示變形例1的圖。圖6是表示變形例2的圖。圖7是表示變形例3的圖。圖8是表示變形例4的圖。圖9是表示變形例5的圖。圖10是表示可適用間隙G2的定位構造的另一例的圖。圖11是對間隙G2的效果進行說明的圖。圖12 (a)、圖12 (b)是表示在定子22與隔熱構件24之間形成間隙G2的情況的圖。【主要元件符號說明】1:渦輪分子栗10:轉子11:轉子軸12:旋轉葉片13:轉子圓筒部20:基座20d、43b、43c:凸部21:固定葉片22:定子22a:平面部22b:臺階部22c、201 a、201、400、421、430:內周面23:栗殼24:隔熱構件26:排氣端口27、280:加熱器28:定子加熱部29、210:間隔件30:殼體32:徑向磁軸承33:軸向磁軸承34:馬達35a、35b:機械軸承40?44:定位構件42a、43a:貫通孔42c:環狀凸部44a:平板部44b:圓筒部44c:圓柱部200、205、221、286:銷孔202:環狀部203:溫度傳感器209、222、282:螺栓211、223:墊圈220、28 lb:凸緣部220a、401、420、431、440:外周面220c:環狀卡合部281:加熱器部件281a:孔部283:密封塞284:密封構件G、GO、Gl、G2、G3:間隙【具體實施方式】以下，參照圖對用以實施本專利技術的方式進行說明。圖1是表示本專利技術的真空栗的一種實施方式的圖，且表示渦輪分子栗的剖面。渦輪分子栗1包括轉子10，所述轉子10形成有多段旋轉葉片12及轉子圓筒部13。在栗殼(pump casing) 23的內側，與多段旋轉葉片12相應地以層疊的方式配置有多段固定葉片21。沿栗軸向層疊的多段固定葉片21分別隔著間隔件(spacer) 29而配置于基座20上。旋轉葉片12及固定葉片21分別包含沿周向配置的多個禍輪(turbine)葉片。在轉子圓筒部13的外周側，隔著間隙而配置有圓筒形狀的定子22。本實施方式中，基座20為筒狀的構件，定子22配置于基座20的內周側，且螺固于基座20的上端面。在轉子圓筒部13的外周面或定子22的內周面的任一面形成有螺紋槽，由轉子圓筒部13與定子22構成螺紋槽栗。利用旋轉葉片12及固定葉片21而排出的氣體分子經螺紋槽栗部進一步壓縮，最終從設于基座20的排氣端口(port) 26排出。在轉子10固定有轉子軸(shaft) 11，該轉子軸11由徑向(radial)磁軸承32及軸向(axial)磁軸承33支撐，且由馬達(motor) 34旋轉驅動。當磁軸承32、磁軸承33未動作時，轉子軸11由機械軸承(mechanical bearing) 35a、機械軸承35b支撐。徑向磁軸承32、軸向磁軸承33、馬達34及機械軸承35b收納在殼體(housing) 30內，所述殼體30固定于基座20。另外，在現有的渦輪分子栗中，也有將基座20與殼體30 —體地形成而制成基座的構成，但在任一構成中均為在筒狀的基座的內周側配置定子22的構成。在基座20設置有加熱器27及溫度傳感器(sensor) 203，所述加熱器27用以對基座20進行加熱，所述溫度傳感器203對基座20的溫度進行檢測。本實施方式的渦輪分子栗1可用于產生大量反應產物的工藝，在定子22的下部外周面，固定有對定子22進行加熱的專用的定子加熱部28。圖2是從底面側觀察渦輪分子栗所得的圖，且將一部分以破斷面表示。定子加熱部28是以將基座20的周面內外貫通的方式而設置。也可設置兩個以上的定子加熱部28。圖3是圖1的設置有定子加熱部28的部分的放大圖。如圖3所示，定子加熱部28是在加熱器部件(heater block) 281安裝有加熱器280。加熱器部件281利用螺栓(bolt) 282而固定于定子22的外周面。在配置有螺栓282的孔部281a，設置有用以密封該孔部281a的密封塞283。而且，在加熱器部件281的軸部(貫通基座20的部分)，設置有密封(seal)構件284作為真空密封件。利用該密封構件284而將貫通基座20的加熱器部件281的軸部與基座20的間隙密封。如圖2所示，在定子22的外周面的一部分形成有平面部22a，使形成于加熱器部件281的前端的平面接觸于該平面部22a本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種真空泵，其特征在于包括：圓筒狀的轉子；圓筒狀的定子，與所述轉子協動而排出氣體；以及筒狀的基座，固定有所述定子；且所述定子與所述基座之間不具有嵌合構造，且以與所述基座同心狀態固定于所述基座。

【技術特征摘要】
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【專利技術屬性】
技術研發人員：坪川徹也，
申請(專利權)人：株式會社島津制作所，
類型：發明
國別省市：日本;JP