量測系統技術方案

一種量測系統，量測待測物的待測光線，包括：光空間分布單元、色散分光單元以及量測單元。光空間分布單元設置于待測物的一側，以接收待測光線并形成多個點光源。色散分光單元設置于光空間分布單元的一側，以接收這些點光源并產生分光信號。量測單元設置于色散分光單元的一側，以接收分光信號并產生待測光線的光場分布。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種量測系統，特別涉及一種光場分布的量測系統。
技術介紹
近年來，隨著制程與材料方面的不斷改良，各種不同的光源，例如:發光二極管(Light Emitting D1de ；LED)不斷地被開發出來。由于制程的關系，每一顆光源或是每一個光學組件都擁有自己獨特的光場分布，而且LED易有空間中色彩分布不均的問題，光學設計者需要了解其光場分布與空間中色彩分布才能進行精密設計與光學仿真，進而符合光學產品的規格。因此，對于各種不同的光源或是光學組件都需量測其頻譜與光場分布。在公知的技術中，是使用配光曲線儀來量測頻譜與光場分布，而一般配光曲線儀多為測角光度計，其需要多次單點掃描，因此，量測時間相當長。因此，如何提供一種量測系統，可取代公知的配光曲線儀，而快速地量測光源或光學組件在空間中的頻譜與光場分布，已成為現今重要課題之一。
技術實現思路
有鑒于上述課題，本專利技術提供一種量測系統，可取代公知的配光曲線儀，而快速地量測光源或光學組件在空間中的頻譜與光場分布。為了達到上述目的，本專利技術提供一種量測系統，量測待測物的待測光線，包括:光空間分布單元、色散分光單元以及量測單元。光空間分布單元設置于待測物的一側，以接收待測光線并形成多個點光源。色散分光單元設置于光空間分布單元的一側，以接收這些點光源并產生分光信號。量測單元設置于色散分光單元的一側，以接收分光信號并產生待測光線的光場分布。在實施例中，光空間分布單元為屏幕，屏幕上具有多個孔洞。在實施例中，所述屏幕為平面結構或曲面結構。在實施例中，屏幕包含屏幕本體及碳粉層或印刷層，碳粉層或印刷層位于屏幕本體鄰近于待測物的表面。在實施例中，光空間分布單元的材質為布、黑絨布、紙、黑絨布紙、玻璃、纖維或塑料。 在實施例中，光空間分布單元為透鏡陣列、面鏡陣列或其組合。在實施例中，透鏡陣列為凸透鏡陣列、凹透鏡陣列、菲涅耳透鏡陣列或漸變式折射率透鏡陣列。在實施例中，面鏡陣列為凹面鏡陣列、凸面鏡陣列或平面鏡陣列。在實施例中，待測物為發光組件或光學組件。在實施例中，色散分光單兀為三菱鏡、光柵、全像光學組件、布萊勒光柵或由多個光學組件組成的分光器。在實施例中，量測單元為輝度計、照度計、功率計、照相機或光譜儀。在實施例中，光場分布為空間中光線強度分布或空間中光線頻譜分布。在實施例中，量測單元與待測物位于光空間分布單元的同一側。在實施例中，量測單元與待測物位于光空間分布單元的不同側。在實施例中，進一步包括保持單元，保持待測物、光空間分布單元、色散分光單元及量測單元四者的相對距離。在實施例中，進一步包括罩體，其具有容置空間，待測物、光空間分布單元、色散分光單元、量測單元設置于容置空間中。在實施例中，進一步包括收光單元，設置于光空間分布單元與色散分光單元之間，以讓這些點光源在所述收光單元上顯示光場圖樣。在實施例中，光空間分布單元與色散分光單元整合為單一構件。為了達到上述目的，本專利技術提供一種量測系統，量測待測物的待測光線，包括色散分光單元、光空間分布單元以及量測單元。色散分光單元設置于待測物的一側，以接收待測光線并形成分光信號。光空間分布單元設置于色散分光單元的一側，以接收分光信號并產生多個點光源。量測單元設置于光空間分布單元的一側，以接收這些點光源并產生待測光線的光場分布。在實施例中，光空間分布單元為透鏡陣列。在實施例中，進一步包括收光單元，設置于光空間分布單元與量測單元之間，接收這些點光源，并產生多個收光信號，量測單元接收這些收光信號并產生待測光線的光場分布。在實施例中，色散分光單元與光空間分布單元整合為單一構件。承上所述，本專利技術的量測系統用于量測待測物的待測光線，其中，光空間分布單元接收待測光線并形成多個空間中不同位置的點光源，色散分光單元接收這些點光源并產生分光信號，量測單元接收分光信號以產生關于待測光線的頻譜與光場分布。借助本專利技術的量測系統，僅需進行一次的量測步驟，即可量測待測物于空間的頻譜與光場分布，不必如公知的配光曲線儀需進行多次單點量測，因此本專利技術的量測系統具有成本低、量測速度快與可量測空間中頻譜分布等優點。【附圖說明】圖1為本專利技術的第一實施例的一種量測系統的意圖。圖2A為本專利技術的第二實施例的一種量測系統的示意圖。圖2B為圖2A所示的量測系統的側視圖。圖3A為本專利技術的第三實施例的一種量測系統的示意圖。圖3B為圖3A所示的量測系統的側視圖。圖4A為本專利技術的第四實施例的一種量測系統的示意圖。圖4B為圖4A所示的量測系統的側視圖。圖5為本專利技術的第五實施例的一種量測系統的不意圖。圖6為本專利技術的第六實施例的一種量測系統的示意圖。圖7A為本專利技術的第七實施例的一種量測系統的示意圖。圖7B為圖7A所示的量測系統的側視圖。圖8A為本專利技術的第八實施例的一種量測系統的示意圖。圖8B為圖8A所示的量測系統的側視圖。圖9A為本專利技術的第九實施例的一種量測系統的示意圖。圖9B為圖9A所示的量測系統的側視圖。圖10A為本專利技術的第十實施例的一種量測系統的示意圖。圖10B為圖10A所示的量測系統的側視圖。圖11為本專利技術的第十實施例的一種量測系統的示意圖。圖12為本專利技術的第十二實施例的一種量測系統的示意圖。【具體實施方式】以下將參照相關圖式，說明依本專利技術優選實施例的一種量測系統，其中相同的組件將以相同的參照符號加以說明。圖1為本專利技術實施例的一種量測系統的示意圖，請參照圖1，量測系統S1用以量測待測物的待測光線，且量測系統S1包括光空間分布單元11、色散分光單元12、量測單元13。需特別說明的是，待測物可例如是光源或光學組件。光源可例如是發光二極管、有機發光二極管、冷陰極熒光燈管、熱陰極熒光燈管或其它各種光源。光學組件可例如是擴散片、增亮膜、菱鏡片或其它各種光學組件。在本實施例中，待測物以發光二極管dl為例，發光二極管dl可以借助載具支撐及固定，且發光二極管dl內部具有驅動電路以驅動其發光，而發光二極管dl所發出的光線即為待測光。[當前第1頁1 2 3 本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種量測系統，量測待測物的待測光線，所述量測系統包括：光空間分布單元，設置于所述待測物的一側，以接收所述待測光線并形成多個點光源；色散分光單元，設置于所述光空間分布單元的一側，以接收這些點光源并產生分光信號；以及量測單元，設置于所述色散分光單元的一側，以接收所述分光信號并產生所述待測光線的光場分布。

【技術特征摘要】
...

【專利技術屬性】
技術研發人員：孫慶成，余業緯，林廷瑋，林哲巨，
申請(專利權)人：中央大學，
類型：發明
國別省市：中國臺灣;71