本發(fā)明專利技術公開了一種用于試條電極預處理的等離子處理裝置和方法，其中，試條電極預處理方法包括以下步驟：設定初始位置，并在初始位置開始對反應區(qū)進行等離子處理；沿反應區(qū)的延伸方向對反應區(qū)進行等離子處理，將反應區(qū)的表面潤濕特性改為親水性；設定終止位置，并在終止位置停止對反應區(qū)進行等離子處理。本發(fā)明專利技術所提供的方法，通過對碳糊電極的反應區(qū)進行等離子處理，在高電壓電場作用下，使工作氣體電離，最終產生等離子氣體，對碳糊電極進行咬蝕，大大提高碳糊電極表面的親水性，去除電極表面異物，同時在碳糊電極表面產生羧基、羥基等親水性基團，利于酶液在電極表面完全均勻地擴散，保證試條電極的穩(wěn)定性，并且生產效率較高。
【技術實現(xiàn)步驟摘要】
一種用于試條電極預處理的等離子處理裝置和方法
本專利技術涉及血糖試紙電極加工領域，特別是涉及一種用于試條電極預處理的等離子處理裝置和方法。
技術介紹
在電化學生物傳感器中，一般采用由碳糊電極制成的試條電極，試條電極包括基材、電化學電極和薄膜層，其中電化學電極包括工作電極、參比電極及對電極，薄膜層包括酶、聚合物支持物及PH緩沖物等，薄膜層涂覆在電化學電極區(qū)域。當待測樣品與上述電極接觸時，會發(fā)生化學反應，利用試條電極產生的電化學信號確定待測樣品的濃度。現(xiàn)有技術中，試條電極的制作流程可大體分為三步：第一步：印刷制作碳糊電極；第二步：將酶液覆于碳糊電極上；第三步：對電極進行封裝。碳糊電極由聚酯類等聚合物和分散其中的碳粉組成，因此其表面潤濕特性表現(xiàn)為疏水性，即以水為溶劑的酶液無法在其表面有效擴散開，因此，在第二步涂覆酶液之前，需要調整碳糊電極的表面特性，以保證酶液在電極表面均勻且完全覆蓋電極區(qū)域。現(xiàn)有技術中，在涂覆酶液之前，先在電極上預先涂覆一層親水性極強的聚合物，將電極表面的疏水性調整為親水性，現(xiàn)有技術中的方法，存在加工流程長、產品質量不夠穩(wěn)定的缺陷。因此，如何提高試條電極的穩(wěn)定性，是本領域技術人員目前需要解決的技術問題。
技術實現(xiàn)思路
本專利技術的目的是提供一種用于試條電極預處理的等離子處理裝置和方法，用于提高試條電極的穩(wěn)定性，同時提高生產效率。為解決上述技術問題，本專利技術提供如下技術方案：一種用于試條電極預處理的等離子處理裝置，包括：等離子槍，用于對碳糊電極的反應區(qū)進行等離子處理，提升所述碳糊電極的表面親水性；支撐桿，用于安裝所述等離子槍，并帶動所述等離子槍沿平行于所述反應區(qū)的延伸方向移動。優(yōu)選的，所述等離子槍的個數等于所述反應區(qū)的個數。優(yōu)選的，還包括用于放置所述碳糊電極的基臺，所述基臺的兩側各設有一個導軌架，所述導軌架上端安裝有與所述反應區(qū)的延伸方向平行的導軌，兩個所述導軌分別與所述支撐桿的兩端滑動連接。優(yōu)選的，還包括用于控制所述等離子槍移動的驅動裝置，所述驅動裝置與所述等離子槍個數相同并且一一對應。優(yōu)選的，所述等離子槍的功率為300-800W。優(yōu)選的，所述等離子槍的槍口直徑為10-15mm。一種試條電極預處理方法，包括以下步驟：設定初始位置，并在所述初始位置開始對所述反應區(qū)進行等離子處理；沿所述反應區(qū)的延伸方向對所述反應區(qū)進行等離子處理，將所述反應區(qū)的表面潤濕特性改為親水性；設定終止位置，并在所述終止位置停止對所述反應區(qū)進行等離子處理。優(yōu)選的，對所述反應區(qū)進行等離子處理的速度為60-100mm/min。優(yōu)選的，在對所述反應區(qū)進行等離子處理步驟之前還包括步驟：將等離子處理的功率調整為300-800W。優(yōu)選的，在對所述反應區(qū)進行等離子處理步驟之前還包括步驟：將用于等離子處理的等離子束直徑調整為10-15mm，離子氣流量調整為10-20SLM。本專利技術所提供的試條電極預處理方法，通過對碳糊電極的反應區(qū)進行等離子處理，在高電壓電場作用下，使工作氣體電離，最終產生等離子氣體，對碳糊電極進行咬蝕，大大提高碳糊電極表面的親水性，去除電極表面異物，同時在碳糊電極表面產生羧基、羥基等親水性基團，利于酶液在電極表面完全均勻地擴散，保證試條電極的穩(wěn)定性，并且生產效率較高。附圖說明為了更清楚地說明本專利技術實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本專利技術的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本專利技術所提供的試條電極預處理方法的流程圖；圖2為本專利技術所提供的等離子處理裝置的結構示意圖；圖3為圖2所示碳糊電極的結構示意圖；其中：支撐桿-1、等離子槍-2、碳糊電極-3、導軌架-4、基臺-5、反應區(qū)-6、絕緣區(qū)-7。具體實施方式本專利技術的核心是提供一種用于試條電極預處理的等離子處理裝置和方法，用于提高試條電極的穩(wěn)定性，并且提高生產效率。為了使本
的人員更好地理解本專利技術方案，下面結合附圖和具體實施方式對本專利技術作進一步的詳細說明。請參考圖1至圖3，圖1為本專利技術所提供的試條電極預處理方法的流程圖，圖2為本專利技術所提供的等離子處理裝置的結構示意圖，圖3為圖2所示碳糊電極的結構示意圖。本實施例所提供的等離子處理裝置，用于試條電極的預處理，此處所指試條電極為血糖試條電極，該裝置包括等離子槍2和用于安裝等離子槍2的支撐桿1。等離子槍2中通有加工氣體，用于對碳糊電極3的反應區(qū)6進行等離子處理，將碳糊電極3的表面潤濕特性改為親水性，使得酶液在碳糊電極3表面有效的擴散開，保證酶液覆蓋反應區(qū)6的全部位置。支撐桿1可以帶動等離子槍2沿平行于反應區(qū)6的延伸方向移動，以實現(xiàn)對反應區(qū)6的電暈過程。碳糊電極3在制作時，一般包括多個反應區(qū)6，反應區(qū)6的寬度較小，呈長條狀，反應區(qū)6通過寬度較大的絕緣區(qū)7隔開，絕緣區(qū)7的作用是保護電極、控制反應區(qū)寬度以及貼合標簽。當反應區(qū)6的個數較多時，為了保證每個反應區(qū)6都能夠經過等離子處理，等離子槍2的個數等于反應區(qū)6的個數。當然，為了保證不同反應區(qū)6等離子處理的均勻性，多個等離子槍2在支撐桿1的作用下，同時移動。另外，該裝置還可以包括用于放置碳糊電極3的基臺5，基臺5的兩側各設有一個導軌架4，導軌架4上端安裝有與反應區(qū)6的延伸方向平行的導軌，兩個導軌與支撐桿1的兩端滑動連接。導軌與支撐桿1滑動連接，支撐桿1的延伸方向垂直于反應區(qū)6的延伸方向，導軌的延伸方向平行于反應區(qū)6的延伸方向。等離子槍2安裝在支撐桿1上，支撐桿1在導軌上滑動，進而帶動等離子槍2移動。這里需要說明的是，在進行等離子處理前，等離子槍2應該對準碳糊電極3的反應區(qū)6，以保證反應區(qū)6的等離子氣體充分的咬蝕電極，提高反應區(qū)6表面的親水性。另外，該裝置還包括與等離子槍2個數相同并且一一對應的驅動裝置，驅動裝置用于控制等離子槍2移動。驅動裝置可以在三個方向控制等離子槍2移動，首先，驅動裝置可以驅動等離子槍2沿平行于反應區(qū)6的延伸方向移動，即沿導軌架4上的導軌移動，以完成對反應區(qū)6的等離子處理。其次，驅動裝置可以控制等離子槍2的槍頭靠近或遠離碳糊電極3的表面，改變槍頭與碳糊電極3之間的間距，使等離子束能完全覆蓋到與之對應的反應區(qū)6。再次，當等離子槍2的個數為多個時，由于不同電極的絕緣區(qū)7寬度不同，即反應區(qū)6的間距不同，驅動裝置可以用于調整相鄰等離子槍2之間的間距，以適應反應區(qū)6的間距，使得等離子槍2與反應區(qū)6的位置一一對應，具體的，等離子槍2安裝在支撐桿1的底部，并且與支撐桿1之間同樣采用滑動連接。因此，驅動裝置與等離子槍2的個數相同并且一一對應，可以實現(xiàn)對每個等離子槍2的單獨控制，有效的拓寬該等離子處理裝置的適用性。當然，當該等離子處理裝置只加工一種規(guī)格的電極，即無需調整等離子槍2之間的間距時，所有等離子槍2可以由同一個驅動裝置控制。本專利技術還提供了一種試條電極預處理方法，在試條電極預處理之前包括：步驟S1：制作碳糊電極3，并印刷絕緣漆形成絕緣區(qū)7和反應區(qū)6；具體的，步驟如下：在PET、PVC等塑料碳糊電極3上通過絲網印刷的方式制作碳糊電極3，接著在碳糊電極3上以同樣的方式印刷一層絕緣漆，形成絕緣區(qū)7，該層絕緣漆并沒有完全覆蓋碳糊電極本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種用于試條電極預處理的等離子處理裝置，其特征在于，包括：等離子槍，用于對碳糊電極的反應區(qū)進行等離子處理，提升所述碳糊電極的表面親水性；支撐桿，用于安裝所述等離子槍，并帶動所述等離子槍沿平行于所述反應區(qū)的延伸方向移動。
【技術特征摘要】
1.一種用于試條電極預處理的等離子處理裝置，其特征在于，包括：等離子槍，用于對碳糊電極的反應區(qū)進行等離子處理，提升所述碳糊電極的表面親水性；支撐桿，用于安裝所述等離子槍，并帶動所述等離子槍沿平行于所述反應區(qū)的延伸方向移動；還包括用于控制所述等離子槍移動的驅動裝置，所述驅動裝置與所述等離子槍個數相同并且一一對應；所述驅動裝置可在三個方向控制所述等離子槍移動，所述驅動裝置可驅動所述等離子槍沿平行于所述反應區(qū)的延伸方向移動；驅動裝置可以控制所述等離子槍的槍頭靠近或遠離所述碳糊電極的表面，改變槍頭與所述碳糊電極之間的間距，使等離子束能完全覆蓋到與之對應的所述反應區(qū)；所述驅動裝置可用于調整相鄰所述等離子槍之間的間距，以適應所述反應區(qū)的間距，使得所述等離子槍與所述反應區(qū)的位置一一對應。2.根據權利要求1所述的等離子處理裝置，其特征在于，所述等離子槍的個數等于所述反應區(qū)的個數。3.根據權利要求1所述的等離子處理裝置，其特征在于，還包括用于放置所述碳糊電極的基臺，所述基臺的兩側各設有一個導軌架，所述導軌架上端安裝有與所述反應區(qū)的延伸方向平行的導軌，兩個所述導軌分別與所述支撐桿的兩端滑動連接。4.根據權利要求1所述的等離子處理裝置，其特征在于，所述等離子槍的功率為300-800W。5.根據權利要...
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：黃勇，楊如樹，
申請(專利權)人：三諾生物傳感股份有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：湖南;43
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