顯微共聚焦熒光系統技術方案

本實用新型專利技術給出一種顯微共聚焦熒光系統，包括激光器、第一透鏡、第一狹縫板、第二透鏡、顯微物鏡、樣品臺、第一半反半透鏡、濾波片、第二半反半透鏡、CCD相機、第三透鏡、第二狹縫板、第四透鏡、光柵光譜儀、探測器以及計算機；本實用新型專利技術的顯微共聚焦熒光系統能夠對樣品的光致發光進行測量，得到光譜圖，從而可以對光致發光峰進行分析，進而得到物質的特征電子躍遷，粒子是否有表面缺陷發光，樣品的發光性能、能級結構和表面狀態等信息。（*該技術在2024年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】
【專利摘要】本技術給出一種顯微共聚焦熒光系統，包括激光器、第一透鏡、第一狹縫板、第二透鏡、顯微物鏡、樣品臺、第一半反半透鏡、濾波片、第二半反半透鏡、CCD相機、第三透鏡、第二狹縫板、第四透鏡、光柵光譜儀、探測器以及計算機；本技術的顯微共聚焦熒光系統能夠對樣品的光致發光進行測量，得到光譜圖，從而可以對光致發光峰進行分析，進而得到物質的特征電子躍遷，粒子是否有表面缺陷發光，樣品的發光性能、能級結構和表面狀態等信息。【專利說明】顯微共聚焦熒光系統
本技術涉及光致發光測量領域，尤其涉及一種顯微共聚焦熒光系統。
技術介紹
光致發光(Photoluminescence,PL),即指當外界光源照射物體時,物體吸收光子，電子從基態躍遷到激發態，當處于激發態的電子以輻射躍遷的方式返回基態時，能量以光的形式發出的現象。紫外輻射、可見光及紅外輻射均可引起光致發光。光致發光可以提供有關材料的結構、成分及環境原子排列的信息，例如，在光致發光譜中，發光峰的峰位標明了某個具有相互作用的能級間的能量間隔；光譜結構的始端對應最低光子能量，標志著一種躍遷閾值；而光譜形狀則是這種躍遷概率或是能態分布的表征。對于半導體納米材料的光學性質研究，是十分有用的一種實驗技術。通過研究實驗中所得的光致發光譜，通過對發光譜中峰位、半高寬等的分析，可以得出材料帶隙、缺陷、雜質級能以及復合機制等信息。本技術提出一種顯微共聚焦熒光系統對光致發光進行測量和分析。
技術實現思路
有鑒于此，本技術提供了一種顯微共聚焦熒光系統，包括激光器、第一透鏡、第一狹縫板、第二透鏡、顯微物鏡、樣品臺、第一半反半透鏡、濾波片、第二半反半透鏡、CXD相機、第三透鏡、第二狹縫板、第四透鏡、光柵光譜儀、探測器以及計算機；所述激光器的激光發射方向依次設置有第一透鏡、第一狹縫板、第二透鏡、第一半反半透鏡；所述第一半反半透鏡將反射的激光通過顯微物鏡投射到樣品臺，并通過所述顯微物鏡收集樣品臺上樣品由激光激發產生的光致發光的熒光；所述第一半反半透鏡將收集的樣品熒光一路透射至濾波片、第二半反半透鏡至CCD相機；另一路透射至第三透鏡、第二狹縫板、第四透鏡至光柵光譜儀，所述探測器對光柵光譜儀聚焦的光進行探測，并將光信號轉化為電信號后傳輸給計算機。 所述光柵光譜儀設置有第三狹縫板、第一球面反射鏡、光柵、第二球面反射鏡，所述第四透鏡將光透射至第三狹縫板，經過狹縫入射至第一球面反射鏡，第一球面反射鏡將光通過光柵射向第二球面反射鏡，第二球面反射鏡將光反射至探測器。 【專利附圖】【附圖說明】 為了更清楚地說明本技術實施例或現有技術中的方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作一簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本技術的一些實施例，對于本領域普通技術人員而言，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。 圖1為本技術一實施例提供的顯微共聚焦熒光系統的結構示意圖。 【具體實施方式】 為使本技術實施例的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合本技術實施例中的附圖，對本技術實施例中的技術方案進行清楚、完整的描述，顯然，所描述的實施例是本技術一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本技術中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本技術保護的范圍。 圖1為本技術一實施例提供的顯微共聚焦熒光系統的結構示意圖，如圖1所不，本實施例的顯微共聚焦突光系統包括激光器1、第一透鏡2、第一狹縫板3、第二透鏡4、顯微物鏡5、樣品臺6、第一半反半透鏡7、濾波片8、第二半反半透鏡9、(XD相機10、第三透鏡11、第二狹縫板12、第四透鏡13、光柵光譜儀14、探測器15以及計算機16 ;所述激光器I的激光發射方向依次設置有第一透鏡2、第一狹縫板3、第二透鏡4、第一半反半透鏡7 ;所述第一半反半透鏡7將反射的激光通過顯微物鏡5投射到樣品臺6，并通過所述顯微物鏡5收集樣品臺6上樣品由激光激發產生的光致發光的熒光；所述第一半反半透鏡7將收集的樣品熒光一路透射至濾波片8、第二半反半透鏡9至CXD相機10 ;另一路透射至第三透鏡11、第二狹縫板12、第四透鏡13至光柵光譜儀14，所述探測器15對光柵光譜儀14聚焦的光進行探測，并將光信號轉化為電信號后傳輸給計算機16。 本實施例的顯微共聚焦熒光系統中的激光器I出射激光經由外部光路(第一透鏡 2、第一狹縫板3、第二透鏡4、一半反半透鏡7)進入顯微物鏡5照射到樣品上，樣品受到激光的激發，產生光致發光，樣品發出的熒光由顯微物鏡進行收集，經過第一半反半透鏡7變成平行光，使得樣品所發熒光分為兩部分，一部分通過濾波片8、第二半反半透鏡9進入CCD相機10進行成像，一部分經由第三透鏡11、第二狹縫板12、第四透鏡13進入光柵光譜儀14，經光柵分光后聚焦至探測器15。探測器15將光信號轉化為電信號后傳輸給計算機，根據所探測的樣品發光波長不同選擇合適的探測器。通過計算機顯示相應的光致發光譜圖。同時也可以通過計算機對光柵光譜儀狹縫的大小、曝光時間、所要探測波長等一系列參數進行控制。 通過顯微共聚焦熒光系統得到的光譜圖可以對光致發光峰進行分析，進而得到物質的特征電子躍遷，粒子是否有表面缺陷發光，樣品的發光性能、能級結構和表面狀態等信肩、O 最后應說明的是:以上實施例僅用以說明本技術的技術方案，而非對其限制；盡管參照前述實施例對本技術進行了詳細的說明，本領域的普通技術人員應當理解:其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分技術特征進行等同替換，而這些修改或者替換，并不使相應技術方案的本質脫離本技術各實施例技術方案的精神和范圍。【權利要求】1.一種顯微共聚焦突光系統，包括激光器、第一透鏡、第一狹縫板、第二透鏡、顯微物鏡、樣品臺、第一半反半透鏡、濾波片、第二半反半透鏡、C⑶相機、第三透鏡、第二狹縫板、第四透鏡、光柵光譜儀、探測器以及計算機；其特征在于，所述激光器的激光發射方向依次設置有第一透鏡、第一狹縫板、第二透鏡、第一半反半透鏡；所述第一半反半透鏡將反射的激光通過顯微物鏡投射到樣品臺，并通過所述顯微物鏡收集樣品臺上樣品由激光激發產生的光致發光的熒光；所述第一半反半透鏡將收集的樣品熒光一路透射至濾波片、第二半反半透鏡至CCD相機；另一路透射至第三透鏡、第二狹縫板、第四透鏡至光柵光譜儀，所述探測器對光柵光譜儀聚焦的光進行探測，并將光信號轉化為電信號后傳輸給計算機O2.根據權利要求1所述的一種顯微共聚焦熒光系統，其特征在于，所述光柵光譜儀設置有第三狹縫板、第一球面反射鏡、光柵、第二球面反射鏡，所述第四透鏡將光透射至第三狹縫板，經過狹縫入射至第一球面反射鏡，第一球面反射鏡將光通過光柵射向第二球面反射鏡，第二球面反射鏡將光反射至探測器。【文檔編號】G01N21/64GK204044069SQ201420344033【公開日】2014年12月24日 申請日期:2014年6月18日 優先權日:2014年6月18日 【專利技術者】勵春亞 申請人:象山星旗電器科技有限公司本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種顯微共聚焦熒光系統，包括激光器、第一透鏡、第一狹縫板、第二透鏡、顯微物鏡、樣品臺、第一半反半透鏡、濾波片、第二半反半透鏡、CCD相機、第三透鏡、第二狹縫板、第四透鏡、光柵光譜儀、探測器以及計算機；其特征在于，所述激光器的激光發射方向依次設置有第一透鏡、第一狹縫板、第二透鏡、第一半反半透鏡；所述第一半反半透鏡將反射的激光通過顯微物鏡投射到樣品臺，并通過所述顯微物鏡收集樣品臺上樣品由激光激發產生的光致發光的熒光；所述第一半反半透鏡將收集的樣品熒光一路透射至濾波片、第二半反半透鏡至CCD相機；另一路透射至第三透鏡、第二狹縫板、第四透鏡至光柵光譜儀，所述探測器對光柵光譜儀聚焦的光進行探測，并將光信號轉化為電信號后傳輸給計算機。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：勵春亞，
申請(專利權)人：象山星旗電器科技有限公司，
類型：新型
國別省市：浙江;33