本發(fā)明專利技術(shù)是有關(guān)于一種刻劃工具。在密封材的正上及正下的位置形成刻劃線的情況下，提供一種能夠在基板形成足夠的深度的裂紋的刻劃工具。刻劃工具30、40具備：保持具303、403；槽303a、403a，形成于保持具303、403與保持具303a、403a的下面；一對槽303b、403b，以夾持槽303a、403a的方式形成于保持具304、404的下面；刻劃輪301、401，在槽303a、403a可旋轉(zhuǎn)地裝設(shè)；一對輥302、402，在一對槽303b、403b分別可旋轉(zhuǎn)地裝設(shè)；刻劃輪301、401的軸301a、401a與輥302、402的軸302a、402a在刻劃方向僅互相分離既定距離。本發(fā)明專利技術(shù)提供的技術(shù)方案可在密封材的正上以及正下的位置形成刻劃線的情形，能夠在基板形成充分的深度的裂紋。
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)是關(guān)于一種刻劃工具，用于在將刻劃線形成于基板時。
技術(shù)介紹
以往，玻璃基板等脆性材料基板的分?jǐn)嗍墙栌捎诨灞砻嫘纬煽虅澗€的刻劃步驟，以及沿著被形成的刻劃線而在基板表面施加既定之力的裂斷步驟而進(jìn)行。在刻劃步驟中，刻劃輪的刀尖，是一面壓抵于基板表面，一面沿著既定之線而被移動。在刻劃線的形成中，使用具備刻劃頭的刻劃裝置。下述的專利文獻(xiàn)1中，記載有用于自母基板將液晶面板切除的方法。此方法中，借由將形成有薄膜晶體管(TFT)的基板及形成有濾色片(CF)的基板通過密封材貼合而形成母基板。借由此母基板的分?jǐn)喽@得各個液晶面板。密封材，是以兩個基板貼合的狀態(tài)保留形成液晶注入?yún)^(qū)域的空間的方式配置。將上述的構(gòu)成的母基板進(jìn)行分?jǐn)嗟那樾危軌蚴褂孟率龇椒?使用兩個刻劃頭，在母基板的兩面，同時形成刻劃線的方法(例如，參照專利文獻(xiàn)2)。此情形，兩個刻劃頭以夾持母基板的方式配置。兩個刻劃輪被定位于俯視基板時的相同位置。此狀態(tài)中，兩個刻劃輪在相同方向同時地被移動而在基板的各表面形成刻劃線。日本特開2006-137641號公報日本特開2012-241902號公報如上述專利文獻(xiàn)1所示，在現(xiàn)有習(xí)知的母基板中，在相鄰的液晶注入?yún)^(qū)域間，存在有無介入密封材的區(qū)域。故，在借由如上述的兩個刻劃頭而在母基板的兩面同時形成刻劃線的情形，在無介入密封材的區(qū)域，能夠形成刻劃線。若如此方式形成刻劃線而將母基板分?jǐn)啵瑒t在液晶面板于液晶注入?yún)^(qū)域的周圍殘留有既定寬度的邊緣區(qū)域。但是，近年來，尤其是在手機用液晶面板，使上述邊緣區(qū)域極致地狹窄逐漸成為主流。為了因應(yīng)此需求，在母基板省略無介入密封材的區(qū)域，且相鄰的液晶注入?yún)^(qū)域，需要以僅借由密封材分隔的方式構(gòu)成。此情形，刻劃線成為，形成于密封材的正下以及正下。然而，經(jīng)本案專利技術(shù)者們確認(rèn)有如下問題:若如此方式在密封材的正上以及正下的位置形成刻劃線，則無法在兩個玻璃基板充分地產(chǎn)生裂紋。若在如此裂紋不充分的狀態(tài)實行裂斷步驟，則裂斷后的基板的端緣產(chǎn)生細(xì)微龜裂或破損而有玻璃基板強度低下之虞。
技術(shù)實現(xiàn)思路
鑒于此課題，本專利技術(shù)是以提供一種刻劃工具做為目的，在密封材的正上以及正下的位置形成刻劃線的情形，能夠在基板形成充分深度的裂紋。本案專利技術(shù)者們反復(fù)的嘗試錯誤，發(fā)現(xiàn)在密封材的正上以及正下的位置形成刻劃線的情形，借由將在母基板的上面及下面的各刻劃位置在刻劃方向僅移動既定距離，產(chǎn)生較各基板深的裂紋。本專利技術(shù)是關(guān)于一種刻劃工具，能夠在母基板的上面及下面的各刻劃位置僅在刻劃方向移動既定距離，并且與刻劃輪的相反側(cè)的面由輥按壓。本專利技術(shù)的主樣態(tài)是關(guān)于一種刻劃工具，在將第一基板與第二基板借由密封材貼合而成的母基板形成刻劃線時使用。本樣態(tài)的刻劃工具具備:保持具；第一槽，形成于前述保持具的下面；一對第二槽，以夾持前述第一槽的方式形成于前述保持具的下面；刻劃輪，在前述第一槽可旋轉(zhuǎn)地裝設(shè)；一對輥，在前述一對第二槽分別可旋轉(zhuǎn)地裝設(shè)。前述刻劃輪的旋轉(zhuǎn)軸與前述輥的旋轉(zhuǎn)軸在刻劃方向僅互相分離既定距離。借由使用本樣態(tài)的刻劃工具，能夠在母基板的上面及下面的各刻劃位置僅在刻劃方向移動既定距離，并且與刻劃輪的相反側(cè)的面由輥按壓。借此，裂紋的深度變深，并且能夠使裂紋的形成狀況安定化。本樣態(tài)的刻劃工具，是能夠以前述一對輥的一部分夾持前述刻劃輪的一部分的方式配置前述刻劃輪與前述一對輥。借由此構(gòu)成，能夠使刻劃輪與輥之間的距離在刻劃方向上縮小。在本樣態(tài)的刻劃工具，前述保持具是由磁性材料構(gòu)成，且能夠得到將圓柱的側(cè)面斜切除而形成傾斜面的形狀。若以此方式，則借由在裝設(shè)有刻劃頭的保持具的孔設(shè)置磁石，能夠圓滑地將刻劃工具裝設(shè)于刻劃頭。又，借由在該孔配置抵接于前述傾斜面的銷，能夠?qū)⒖虅澒ぞ叨ㄎ挥诔Ｒ?guī)位置。此情形，前述第一槽與前述第二槽在前述保持具的兩個側(cè)面連通而形成，且前述傾斜面設(shè)于前述第一槽與前述第二槽連通的兩個前述側(cè)面中的一方的側(cè)面，且前述刻劃輪與前述一對輥，是以前述刻劃輪較前述一對輥靠近形成有前述傾斜面的前述側(cè)面的方式形成。或者，前述第一槽與前述第二槽在前述保持具的兩個側(cè)面連通而形成，且前述傾斜面設(shè)于前述第一槽與前述第二槽連通的兩個前述側(cè)面中的一方的側(cè)面，且前述刻劃輪與前述一對輥，是以前述一對輥較前述刻劃輪靠近形成有前述傾斜面的前述側(cè)面的方式形成。這樣一來，刻劃輪與一對輥的排列順序以傾斜面做為基準(zhǔn)，預(yù)先準(zhǔn)備互相相異的2種類的刻劃工具，借此，僅由分別裝設(shè)與將母基板上下夾持的一對刻劃頭相異的種類的刻劃工具，可使上側(cè)的刻劃輪與下側(cè)的輥互相對向，又，可使下側(cè)的刻劃輪與上側(cè)的輥互相對向。在本樣態(tài)的刻劃工具，理想為將前述既定距離設(shè)定為0.5mm以上。若如此，能夠有效的加深裂紋的深度。又，在本樣態(tài)的刻劃工具，前述刻劃輪，是能夠在圓板的外周形成V字形的刀尖并且在前述刀尖的棱線以既定間隔具有槽而形成。在以下所示的實施例，借由此種刻劃輪進(jìn)行實驗，確認(rèn)深入形成裂紋。如上所述，根據(jù)本專利技術(shù)，能夠提供一種刻劃工具，在密封材的正上以及正下的位置形成刻劃線的情形，能夠在基板形成充分的深度的裂紋。本專利技術(shù)的效果至意義，借由以下所示的實施例的說明進(jìn)一步明確。但是，以下所示的實施例，當(dāng)然只是本專利技術(shù)進(jìn)行實施化時的一個例示，本專利技術(shù)并非限制在以下的實施例所記載。【附圖說明】圖1 (a)和圖1 (b)是以示意表示實施例的刻劃裝置的構(gòu)成的圖。圖2是表示實施例的刻劃頭的構(gòu)成的分解立體圖。圖3是表示實施例的刻劃頭的構(gòu)成的立體圖。圖4 (a)?圖4 (c)是說明刻劃方法1的圖。圖5(a)?圖5(e)是表示刻劃方法1進(jìn)行的實驗結(jié)果的圖。圖6 (a)和圖6 (b)是說明實施例的刻劃方法2的圖。圖7(a)?圖7(e)是表示實施例的另一刻劃方法2進(jìn)行的實驗結(jié)果的圖。圖8 (a)和圖8 (b)是表示實施例的刻劃工具的構(gòu)成的立體圖。圖9 (a)?圖9 (c)是表示實施例的刻劃工具的構(gòu)成的立體圖。圖10(a)?圖10(c)是表示實施例的刻劃工具的構(gòu)成的立體圖。圖11 (a)和圖11 (b)是以示意表示實施例的刻劃工具的安裝方法的圖。圖12(a)?圖12(d)是以示意表示變更例的刻劃工具的構(gòu)成的圖。【主要元件符號說明】30,40:刻劃工具301、401:刻劃輪302、402:輥303、403:保持具303a、403a:槽(第一槽)303b^403b:槽(第二槽)303c、403c:傾斜面【具體實施方式】以下，關(guān)于本專利技術(shù)的實施例，參照圖面進(jìn)行說明。再者，在各圖，方便起見，注記有互相正交的X軸、Y軸及Z軸。X-Y平面與水平面平行，Z軸方向為鉛直方向。<刻劃裝置>圖1 (a)、圖1 (b)是以示意表示刻劃裝置1的構(gòu)成的圖。圖1 (當(dāng)前第1頁1 2 3 4 本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點】
一種刻劃工具，在將第一基板與第二基板借由密封材貼合而成的母基板形成刻劃線時使用，其特征在于，具備：保持具；第一槽，形成于前述保持具的下面；一對第二槽，以夾持前述第一槽的方式形成于前述保持具的下面；刻劃輪，在前述第一槽能旋轉(zhuǎn)地裝設(shè)；一對輥，在前述一對第二槽分別能旋轉(zhuǎn)地裝設(shè)；前述刻劃輪的旋轉(zhuǎn)軸與前述輥的旋轉(zhuǎn)軸在刻劃方向僅互相分離既定距離。
【技術(shù)特征摘要】
...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：江島谷彰，高松生芳，森亮，
申請(專利權(quán))人：三星鉆石工業(yè)股份有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：日本;JP
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