適用于純水壓元件的QPQ鹽浴處理工藝制造技術

本發明專利技術提供了一種適用于純水壓元件的QPQ鹽浴處理工藝。工藝步驟如下：1）清洗，在水基清洗劑的作用下，超聲波清洗將工件表面的污垢剝離脫落；2）預熱，在350-400℃的溫度下，在空氣爐中對工件加熱10-20min；3）鹽浴氮化，溫度420-460℃，時間120-150min，氮化鹽按質量計，配方組成為：尿素30-50%、Na2CO3?4-8%、K2CO3?6-10%、Li2CO3?5-10%、KCNO?12-25%、NaCNO?8-15%、NaCl?5-8%、Na2S?4-8%、K2S?6-10%、LiOH?2-5%；4）鹽浴氧化，溫度400-420℃，時間15~20min；5）冷卻，在空氣下冷卻，機械拋光；6）再氧化，溫度400-420℃，時間5~10min，浸油。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術屬于金屬元件制造加工業
，具體涉及一種適用于純水壓元件的QPQ鹽浴處理工藝。
技術介紹
水壓傳動具有無污染、安全、清潔衛生、結構簡單、效率高等突出優越性，符合清潔生產及可持續發展的要求。但是，水壓技術需要解決諸如密封與潤滑、磨損與腐蝕等關鍵問題。磨損、腐蝕和斷裂是機械零件材料失效的三種主要形式，其中磨損失效是材料失效的主要原因。在水壓元件中，磨損與腐蝕并存，且相互促進。為了解決水壓元件的磨損與腐蝕問題，目前，大多用耐蝕合金、工程陶瓷、高分子及其復合材料、以及表面工程材料等作為水壓元件材料，為水壓元件的生產與使用奠定了基礎。但是，隨著水壓傳動技術的不斷發展，其應用范圍越來越廣泛，對水壓元件材料提出了新的要求。例如，在水壓沖擊器中，沖擊機構的工作條件比較復雜，不僅要求材料具有較好的耐磨性、抗蝕性，而且要求有較高的強度和韌性。
技術實現思路
為了解決純水壓元件的強度和韌性問題，本專利技術提供了一種適用于純水壓元件的QPQ鹽浴處理工藝。加工工藝簡單，經復合處理的水壓元件的耐磨性和防腐蝕性能均大幅度提尚。為了實現上述專利技術目的，本專利技術采用如下的技術方案: 適用于純水壓元件的QPQ鹽浴處理工藝，其特征在于:工藝步驟如下: 1)清洗 在水基清洗劑的作用下，超聲波清洗將工件表面的污垢剝離脫落； 2)預熱 在350-400°C的溫度下，在空氣爐中對工件加熱10-20min ； 3)鹽浴氮化 溫度420-460°C，時間120~150min，目的是形成氮化層和擴散層； 所述的氮化鹽按質量計，配方組成為:尿素30-50%、Na2C03 4-8%, K2C03 6-10%, Li2C035-10%、KCNO 12-25%、NaCNO 8-15%、NaCl 5-8%、Na2S 4-8%、K2S 6-10%、L1H 2-5% ； 優選地，所述的氮化鹽按質量計，配方組成為:尿素30-40%、Na2C03 4-5%, K2C03 6-7%,Li2C03 8-10%、KCNO 15-20%、NaCNO 8-10%、NaCl 5-6%、Na2S 4-5%、K2S 6-8%、L1H 2-3%04)鹽浴氧化 溫度400-420°C，時間15~20min，目的是形成氧化層； 5)冷卻 在空氣下冷卻，機械拋光； 冷卻使滲層均勻致密并增加擴散層深度；同時分解粘附在工件上的CN。6)再氧化 溫度400-420°C，時間5~10min，使工件表層補充含氧量，浸油。浸油的目的是密封滲層孔隙，以獲得更佳的抗蝕能力。在兩個階段中間增加一道拋光工序，去除表層較軟的多孔性疏松層并使其表面光滑。本專利技術所述的鹽浴需要連續通入壓縮空氣，通氣量為400?450L/h，使鹽浴適度翻騰。 優選地，所述的鹽要緩慢分批加入，一次性加入量過多會因反應劇烈而溢鹽。本專利技術所述的超聲波清洗的振動頻率范圍在60?100 kHz，功率密度設定在0.6-lff/Co本專利技術的有益效果在于: 1、本專利技術采用新型氮化鹽，不僅能在400-450°C的較低溫度狀態下保持一定的氮勢，在較高的溫度下穩定，還可有效提高處理層的厚度，提高工件的抗腐蝕性能。2、純水壓工件經本專利技術的QPQ鹽浴復合處理后在金屬表面形成一層鐵氮化合物和致密的鐵氧化膜，經拋光并再次氧化后，使化合層更致密，氧滲入到化合物厚度的一半以上，并且延伸到更深的孔隙處，吸氧的化合物層進一步鈍化，從而使金屬表面有更高的耐蝕性和耐?！揪唧w實施方式】下面結合【具體實施方式】對本專利技術的實質性內容作進一步詳細的描述。實施例1 適用于純水壓元件的QPQ鹽浴處理工藝，工藝步驟如下: 1)清洗 在水基清洗劑的作用下，超聲波清洗將工件表面的污垢剝離脫落； 2)預熱 在350°C的溫度下，在空氣爐中對工件加熱20min ; 3)鹽浴氮化 溫度 420°C，時間 120min; 所述的氮化鹽按質量計，配方組成為:尿素30%、Na2C03 4%、K2C03 6%、Li2C03 5%、KCN012%、NaCNO 8%、NaCl 5%、Na2S 4%、K2S 6%、L1H 2%。4)鹽浴氧化 溫度400。。，時間20min ； 5)冷卻 在空氣下冷卻，機械拋光； 6)再氧化 溫度400°C下，氧化lOmin，氧化完成后，浸油。實施例2 適用于純水壓元件的QPQ鹽浴處理工藝，工藝步驟如下: 1)清洗在水基清洗劑的作用下，超聲波清洗將工件表面的污垢剝離脫落； 2)預熱 在400°C的溫度下，在空氣爐中對工件加熱lOmin ; 3)鹽浴氮化 溫度 460。。，時間 180min; 所述的氮化鹽按質量計，配方組成為:尿素30%、Na2C03 4%、K2C03 6%、Li2C03 8%、KCNO15%、NaCNO 8%、NaCl 5%、Na2S 4%、K2S 6%、L1H 2% ； 4)鹽浴氧化 溫度420°C，時間15min ； 5)冷卻 在空氣下冷卻，機械拋光； 6)再氧化 溫度420 °C下，氧化5min，氧化完成后，浸油。實施例3 適用于純水壓元件的QPQ鹽浴處理工藝，工藝步驟如下: 1)清洗 在水基清洗劑的作用下，超聲波清洗將工件表面的污垢剝離脫落； 2)預熱 在360°C的溫度下，在空氣爐中對工件加熱12min ; 3)鹽浴氮化 溫度 420°C，時間 160min; 所述的氮化鹽按質量計，配方組成為:尿素50%、Na2C03 8%、K2C03 10%、Li2C0310%、KCNO25%、NaCNO 15%、NaCl 8%、Na2S 8%、K2S 10%、L1H 5%。4)鹽浴氧化 溫度410°C，時間16min ； 5)冷卻 在空氣下冷卻，機械拋光； 6)再氧化 溫度410°C下，氧化6min，氧化完成后，浸油。實施例4 適用于純水壓元件的QPQ鹽浴處理工藝，工藝步驟如下: 1)清洗 在水基清洗劑的作用下，超聲波清洗將工件表面的污垢剝離脫落； 2)預熱 在380°C的溫度下，在空氣爐中對工件加熱15min ; 3)鹽浴氮化 溫度 430°C，時間 150min; 所述的氮化鹽按質量計，配方組成為:素35%、Na2C03 4.5%、K2C03 6.5%、Li2C03 9%、KCN016%、NaCNO 9%、NaCl 5.5%、Na2S 4.5%、K2S 7%、L1H 2.5% ； 4)鹽浴氧化 溫度415°C，時間18min ； 5)冷卻 在空氣下冷卻，機械拋光； 6)再氧化 溫度415 °C下，氧化8min，氧化完成后，浸油。實施例5 適用于純水壓元件的QPQ鹽浴處理工藝，工藝步驟如下: 1)清洗 在水基清洗劑的作用下，超聲波清洗將工件表面的污垢剝離脫落； 2)預熱 在380°C的溫度下，在空氣爐中對工件加熱15min ; 3)鹽浴氮化 溫度 440°C，時間 130min; 所述的氮化鹽按質量計，配方組成為:尿素32%、Na2C03 4.5%、K2C03 6.5%、Li2C039%、KCN016%、NaCNO 8%、NaCl 5.5%、Na2S 4%、K2S本文檔來自技高網...

【技術保護點】
適用于純水壓元件的QPQ鹽浴處理工藝，其特征在于：工藝步驟如下：1）清洗在水基清洗劑的作用下，超聲波清洗將工件表面的污垢剝離脫落；2）預熱在350?400℃的溫度下，在空氣爐中對工件加熱10?20min；3）鹽浴氮化溫度420?460℃，時間120~150min;所述的氮化鹽按質量計，配方組成為：尿素30?50%、Na2CO3?4?8%、K2CO3?6?10%、Li2CO3?5?10%、KCNO?12?25%、NaCNO?8?15%、NaCl?5?8%、Na2S?4?8%、K2S?6?10%、LiOH?2?5%；4）鹽浴氧化溫度400?420℃，時間15~20min；5）冷卻在空氣下冷卻，機械拋光；6）再氧化溫度400?420℃，時間5~10min，浸油。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：郭軍，
申請(專利權)人：德陽瑞泰科技有限公司，
類型：發明
國別省市：四川;51