一種大培養皿常壓低溫等離子體處理裝置制造方法及圖紙

本實用新型專利技術公開了一種大培養皿常壓低溫等離子體處理裝置，包括柜體，還包括設置于柜體內部的低溫等離子電源、電路配電柜、步進電機、低溫等離子體上電極和下電極、設置觸摸屏、低溫等離子體電極基臺和冷卻風扇，還包括設置于柜體后部的集風金屬罩，所述集風金屬罩內設置有金屬管、排氣管和風機。本實用新型專利技術操作簡便、可控性強、處理成本低；可根據處理試件的幅面尺寸及處理效果要求，靈活調整裝置尺寸及處理工藝，且在常壓空氣中處理，處理成本低廉、效率高。

【技術實現步驟摘要】

本技術公開了一種大培養皿常壓低溫等離子體處理裝置，涉及等離子體實驗設備

技術介紹
等離子體是一種高能量的物質聚集態，其中含有大量的電子、離子、激發態的原子、分子、光子和自由基等活性粒子。利用等離子體對材料進行處理可引起材料表面的物理變化（如刻蝕、解吸、濺射、注入、激發和電離等）和化學變化（如氧化、分解、交聯、聚合和接枝等），以達到改變材料表面特性（包括親水性、疏水性、粘合性、阻燃性、防腐性、防靜電性以及生物適應性）的目的。低溫等離子體的電子能量一般約為幾個到幾十個電子伏特，高于聚合物中常見的化學鍵能。因此，等離子體可以有足夠的能量引起聚合物內的各種化學鍵發生斷裂或重組。表現在大分子的降解，材料表面和外來氣體、單體在等離子體作用下發生反應。近年來，等離子體表面改性技術在醫用材料改性上的應用已成為等離子體技術的一個研究熱點。低溫等離子處理分為等離子體聚合和等離子體表面處理。等離子體聚合是利用放電把有機類氣態單體等離子化，使其產生各類活性物質，由這些活性物質之間或活性物質與單體之問進行加成反應形成聚合膜。而等離子體表面處理是利用非聚合性無機氣體(Ar2、N2、H2、O2等)的等離子體進行表面反應，通過表面反應在表面引入特定官能團，產生表面侵蝕，形成交聯結構層或生成表面自由基，在經等離子體活化而成的表面自由基位置，能進一步反應產生特定官能團，如氫過氧化物。較為普遍的是在高分子材料表面導人含氧官能團。如-OH、-OOH等。還有人在材料表面引入了胺基。在材料表面生成自由基或引入官能團后，就可與其他高分子單體反應進行接枝(即材料表面形成的自由基或官能團引發單體分子與之發生作用)或聚合，或直接在材料表面固定生物活性分子。在低溫等離子中由于存在離子和自由電子、自由基，其提供了常規化學反應器中所沒有的化學反應條件，既能使原氣體中的分子分解，又可以使許多有機物單體產生聚合反應。合成高分子材料無法完全滿足作為生物醫用材料所需要的生物相容性和高度的生物功能要求。為解決這些問題，采用低溫等離子體表面改性技術以其特有的優點在生物醫用材料中已經被廣泛的應用。通過等離子體處理后，能夠在高分子材料表面固定生物活性分子，達到作為生物醫用材料的目的。現有技術中，在常壓空氣中很難獲得均勻的（大面積的）低溫等離子體，并且現有技術中培養皿的表面處理后親水性不足，且生產效率低下。
技術實現思路
本技術所要解決的技術問題是：針對現有技術的缺陷，提供一種大培養皿常壓低溫等離子體處理裝置，采用差分饋電方式的介質阻擋放電低溫等離子體裝置。本技術為解決上述技術問題采用以下技術方案：一種大培養皿常壓低溫等離子體處理裝置，包括柜體，還包括設置于柜體內部的低溫等離子電源、電路配電柜、步進電機、低溫等離子體上電極和下電極、設置觸摸屏、低溫等離子體電極基臺和冷卻風扇，還包括設置于柜體后部的集風金屬罩，所述集風金屬罩內設置有金屬管、排氣管和風機，其中，所述下電極基臺由配置的金屬基模和鋁制齒塊構成，所述金屬基模與大培養皿的形狀相適應，所述鋁制齒塊與金屬基模固定連接，所述冷卻風扇設置于金屬基模的下方；所述低溫等離子體上電極與步進電機相連接；所述設置觸摸屏分別與低溫等離子電源、步進電機、冷卻風扇相連接，進行人機交互控制；所述低溫等離子體電源通過低溫等離子體上電極和下電極，使其中間區域產生低溫等離子體放電區；所述集風金屬罩內，風機向柜體外部抽風，排出柜體內反應產生的臭氧并進一步通過金屬管和排氣管對上、下電極進行外部冷卻。作為本技術的進一步優選方案，所述低溫等離子電源為差分激勵電源。作為本技術的進一步優選方案，所述低溫等離子體上、下電極為一對平行平板式電極。作為本技術的進一步優選方案，所述低溫等離子體上、下電極為金屬板或者金屬網，且電極表面覆蓋陶瓷介質或者石英介質。本技術采用以上技術方案與現有技術相比，具有以下技術效果：本技術操作簡便、可控性強、處理成本低；可根據處理試件的幅面尺寸及處理效果要求，靈活調整裝置尺寸及處理工藝，且在常壓空氣中處理，處理成本低廉、效率高。附圖說明圖1是本技術中，大培養皿常壓等離子體處理裝置的立體結構前視圖；圖2是本技術中，大培養皿常壓等離子體處理裝置的立體結構后視圖；其中：1、底腳，2、低溫等離子體電源，3、步進電機，4、低溫等離子體上電極，5、設置觸摸屏，6、低溫等離子體電極基臺，7、冷卻風扇，8、電路配電柜，9、集風金屬罩。具體實施方式下面詳細描述本技術的實施方式，所述實施方式的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施方式是示例性的，僅用于解釋本技術，而不能解釋為對本技術的限制。下面結合附圖對本技術的技術方案做進一步的詳細說明：本技術所公開的大培養皿常壓等離子體處理裝置的立體結構示意圖如圖1、圖2所示，所述處理裝置包括下電極基臺部分、低溫等離子體處理部分、處理區域冷卻排臭氧部分和低溫等離子體產生部分。所述的下電極基臺部分由配置的金屬基模和鋁制齒塊構成。（需處理的）大培養皿按其特定形狀可靠的固定金屬基模上，鋁制齒塊可靠的與金屬基模連接，下方的風扇可有效的對金屬基模在等離子處理時產生的熱量進行冷卻。所述的低溫等離子體處理部分主要由下電極基臺部分和低溫等離子體上電極組成。當（需處理）大培養皿已可靠的固定金屬基模，低溫等離子體上電極通過步進電機按設定的參數勻速的運動，直到平穩的壓合在大培養皿（勿壓壞大培養皿），由低溫等離子體電源通過上、下電極、使其中間區域產生低溫等離子體放電區。所述的低溫等離子體產生和處理系統是由差分激勵電源和一對平行平板式電極組成。差分激勵電源是差分高壓正弦波輸出的電源，用于提供介質阻擋放電能量，使介質阻擋放電電極產生低溫等離子體。放電電極為金屬板或者金屬網或其它平面式導電材料，表面覆蓋一層剛玉陶瓷介質或石英介質。差分激勵電源輸出端分別與兩個電極相連接。兩電極間的間隙為低溫等離子體產生和處理區域，即大培養皿的處理區域。當兩電極間隙所加電壓達到間隙間空氣的放電電壓時，空氣放電產生低溫等離子體。所述的處理區域冷卻排臭氧系統是由電極冷卻系統和排臭氧系統兩部分組成。電極冷卻系統是由風扇與電極組成構成，通過風扇致使電極的溫度保持穩定。排臭氧系統由后部的金屬管、排氣管和風機組成。用風機向外抽風，即可以排除臭氧，同時對電極進行外部冷卻。冷卻系統可確保放電過程中，電極外覆蓋的介質不會應長期處于高溫下而變形，而導致電極間產生的等離子體不均勻。大培養皿常壓低溫等離子體處理裝置的工作過程如下：將大培養皿放置在電極基臺（可根據培養皿的形狀，設計成不同的電極基臺）上，開啟差分激勵電源，由觸摸屏設置各類參數，包括：處理時間、功率、報警、運動速度等，電機驅動器驅動步進電機（可以調整處理速度），步進電機輸出的動力驅動低溫等離子體上電極向下運動，直到與大培本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種大培養皿常壓低溫等離子體處理裝置，包括柜體，其特征在于：還包括設置于柜體內部的低溫等離子電源、電路配電柜、步進電機、低溫等離子體上電極和下電極、設置觸摸屏、低溫等離子體電極基臺和冷卻風扇，還包括設置于柜體后部的集風金屬罩，所述集風金屬罩內設置有金屬管、排氣管和風機，其中，所述下電極基臺由配置的金屬基模和鋁制齒塊構成，所述金屬基模與大培養皿的形狀相適應，所述鋁制齒塊與金屬基模固定連接，所述冷卻風扇設置于金屬基模的下方；所述低溫等離子體上電極與步進電機相連接；所述設置觸摸屏分別與低溫等離子電源、步進電機、冷卻風扇相連接，進行人機交互控制；所述低溫等離子體電源通過低溫等離子體上電極和下電極，使其中間區域產生低溫等離子體放電區；所述集風金屬罩內，風機向柜體外部抽風，排出柜體內反應產生的臭氧并進一步通過金屬管和排氣管對上、下電極進行外部冷卻。

【技術特征摘要】
1.一種大培養皿常壓低溫等離子體處理裝置，包括柜體，其特征在于：還包括設置于柜體內部的低溫等離子電源、電路配電柜、步進電機、低溫等離子體上電極和下電極、設置觸摸屏、低溫等離子體電極基臺和冷卻風扇，還包括設置于柜體后部的集風金屬罩，所述集風金屬罩內設置有金屬管、排氣管和風機，其中，
所述下電極基臺由配置的金屬基模和鋁制齒塊構成，所述金屬基模與大培養皿的形狀相適應，所述鋁制齒塊與金屬基模固定連接，所述冷卻風扇設置于金屬基模的下方；
所述低溫等離子體上電極與步進電機相連接；
所述設置觸摸屏分別與低溫等離子電源、步進電機、冷卻風扇相連接，進行人機交互控制；
所述低溫等離子體電源通過...

【專利技術屬性】
技術研發人員：卞杰，萬良淏，
申請(專利權)人：南京蘇曼等離子科技有限公司，
類型：新型
國別省市：江蘇;32