本實(shí)用新型專利技術(shù)涉及一種PECVD工件架的電極板擋板，所述的電極板擋板呈U型，所述的電極板擋板和電極板前后兩端形成過(guò)渡配合；所述電極板擋板的高度和電極板的高度一致；所述電極板擋板U型內(nèi)槽兩側(cè)的側(cè)面積不小于電極板兩側(cè)電極板裸露段的面積。采用本實(shí)用新型專利技術(shù)的PECVD工件架保養(yǎng)時(shí)只需對(duì)上述電極片擋板拆卸后進(jìn)行打磨清洗即可再次使用，若電極片擋板鍍膜層加厚無(wú)法打磨時(shí)則浸泡在NaOH溶液中進(jìn)行浸泡清潔，提高了清潔效率，減少了電極板邊緣硅粉的產(chǎn)生，繼而減少PECVD鍍膜針孔透空的形成，提高了非晶硅薄膜轉(zhuǎn)化效率；另一方面也節(jié)省了人力，減少了對(duì)PECVD工件架大保養(yǎng)的次數(shù)，使設(shè)備的使用壽命延長(zhǎng)，提高了生產(chǎn)產(chǎn)能。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本技術(shù)涉及一種PECVD工件架的電極板擋板，特別涉及一種非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池在制作過(guò)程中所用到的PECVD工件架的電極板擋板。
技術(shù)介紹
21世紀(jì)初之前，太陽(yáng)能電池主要以硅系太陽(yáng)能電池為主，超過(guò)89%的光伏市場(chǎng)由硅系列太陽(yáng)能電池所占領(lǐng)，但近年以來(lái)，晶體硅太陽(yáng)能電池的主要原料多晶硅價(jià)格快速上漲，因此，業(yè)內(nèi)人士自熱而然將目光轉(zhuǎn)向了成本較低的薄膜電池。薄膜太陽(yáng)電池可以使用在價(jià)格低廉的玻璃、塑料、陶瓷、石墨，金屬片等不同材料當(dāng)基板來(lái)制造，形成可產(chǎn)生電壓的薄膜厚度僅需數(shù)微米，目前轉(zhuǎn)換效率最高可達(dá)13%以上。在生產(chǎn)非晶硅薄膜電池中，通常會(huì)用到等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣體沉積法PECVD在基板上度設(shè)非晶硅層(p-1-n層)，在該工序中需要用到PECVD工件架來(lái)進(jìn)行非晶硅薄膜層的鍍?cè)O(shè)。現(xiàn)有的PECVD工件架設(shè)有若干個(gè)電極板，中間裝載有TCO基片，電極板兩端之間的長(zhǎng)度一般要大于TCO基片的長(zhǎng)度，電極板與TCO基板配合時(shí)電極板與TCO基板貼合的部分稱為電極板工作段，而電極板兩端裸露在外的部分稱為電極板裸露段，每次沉積完成后電極板裸露段都會(huì)被鍍上薄膜，若不及時(shí)處理經(jīng)多次鍍膜后膜層脫落將產(chǎn)生硅粉。硅粉飄落于基片表面，使鍍膜過(guò)程形成針孔，進(jìn)而導(dǎo)致鍍膜時(shí)金屬電極與基片短路，造成電池低功率。目前技術(shù)201420076271.0公開了《一種PECVD工件架及其電極板》，該技術(shù)包括用于形成電極板工作段的電極板本體、設(shè)置于電極板本體的前后兩端且用于形成電極板裸露段的本體端件，本體端件與電極板本體通過(guò)可拆裝的螺釘緊固連接，這樣就可以定期拆除電極板本體端件來(lái)清除表面鍍上的膜層，清除較徹底，但是這樣就增加了 PECVD工件架的制造成本，不適合大規(guī)模的普及使用，且對(duì)現(xiàn)有PECVD工件架存在的薄膜問(wèn)題沒(méi)法進(jìn)行很好的解決。因此如何能夠徹底且方便地除去電極板兩端的膜層是目前本領(lǐng)域技術(shù)人員亟需解決的技術(shù)問(wèn)題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本技術(shù)的目的是提供一種PECVD工件架的電極板擋板，目的旨在解決PECVD工件架的電極板裸露邊緣經(jīng)多次鍍膜后產(chǎn)生硅粉的問(wèn)題，從而提高產(chǎn)品質(zhì)量。為了達(dá)到以上目的，本技術(shù)采取的方案如下:—種PECVD工件架的電極板擋板，所述的電極板擋板呈U型，所述的電極板擋板和P電極板前后兩端形成過(guò)渡配合；所述電極板擋板的高度和電極板的高度一致；所述電極板擋板U型內(nèi)槽兩側(cè)的側(cè)面積不小于電極板兩側(cè)裸露段的面積。保養(yǎng)時(shí)對(duì)上述電極片擋板拆卸后進(jìn)行打磨清洗即可再次使用，若電極片擋板鍍膜層加厚無(wú)法打磨時(shí)則浸泡在NaOH溶液中進(jìn)行浸泡清潔。用了上述技術(shù)方案，本技術(shù)具有以下的有益效果:(I)提高了清潔效率的同時(shí)節(jié)省了人力，僅需要將電極片擋板從電極板拆下打磨或浸泡在NaOH溶液中進(jìn)行浸泡清潔，降低了人力維護(hù)成本。(2)減少了電極板邊緣硅粉的產(chǎn)生，繼而減少PECVD鍍膜針孔透空的形成，提高了非晶硅薄膜轉(zhuǎn)化效率。(3)減少了對(duì)PECVD工件架大保養(yǎng)的次數(shù)，使設(shè)備的使用壽命延長(zhǎng)，提高了生產(chǎn)產(chǎn)會(huì)K。【附圖說(shuō)明】為了使本技術(shù)的內(nèi)容更容易被清楚地理解，下面根據(jù)具體實(shí)施例并結(jié)合附圖，對(duì)本技術(shù)作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明，其中圖1是本技術(shù)PECVD工件架電極板擋板組裝示意圖；圖2是本技術(shù)PECVD工件架電極板的示意圖；圖中:1、電極板擋板；2、電極板；21、電極板裸露段；22、電極板工作段；3、正極板正面擋板；4、正極板反面擋板；5、負(fù)極板正面擋板；6、負(fù)極板反面擋板；L31、正極板正面擋板高度；L32、正極板正面擋板高長(zhǎng)度；L41、正極板反面擋板高度；L42、正極板反面擋板高長(zhǎng)度；L51、負(fù)極板正面擋板高度；L52、負(fù)極板正面擋板長(zhǎng)度；L61、負(fù)極板反面擋板高度；L62、負(fù)極板反面擋板長(zhǎng)度。【具體實(shí)施方式】下面結(jié)合附圖對(duì)本專利技術(shù)技術(shù)方案作進(jìn)一步說(shuō)明:一種PECVD工件架的電極板擋板，所述的電極板擋板I呈U型，所述的電極板擋板I連接在PECVD工件架的電極板2前后兩端；所述的電極板擋板I的U型內(nèi)槽和電極板2形成過(guò)渡配合；所述電極板擋板I的高度和電極板2的高度一致；所述電極板擋板I的U型內(nèi)槽兩側(cè)的側(cè)面積不小于電極板2兩側(cè)的電極板裸露段21的面積。所述的電極板擋板包括正極板正面擋板3、正極板反面擋板4、負(fù)極板正面擋板5和負(fù)極板反面擋板6。所述的電極板擋板的厚度為0.6mm ;所述的電極板擋板的U型內(nèi)槽寬度為6mm。所述的正極板正面擋板3的高度L31為638mm，所述正極板正面擋板3的長(zhǎng)度L32為21mm ;所述的正極板反面擋板4的高度L41為631mm，所述正極板反面擋板4的長(zhǎng)度L42為16mm ;所述的負(fù)極板正面擋板5的高度L51為638mm，所述負(fù)極板反面擋板5的長(zhǎng)度L52為Ilmm ;所述的負(fù)極板反面擋板6的高度L61為638mm，所述負(fù)極板反面擋板6的長(zhǎng)度L62 為 11mnin以上所述的具體實(shí)施例，對(duì)本技術(shù)的目的、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明，所應(yīng)理解的是，以上所述僅為本技術(shù)的具體實(shí)施例而已，并不用于限制本技術(shù)，凡在本技術(shù)的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本技術(shù)的保護(hù)范圍之內(nèi)。【主權(quán)項(xiàng)】1.一種PECVD工件架的電極板擋板，其特征在于:所述的電極板擋板⑴呈U型，所述的電極板擋板(I)和電極板(2)前后兩端形成過(guò)渡配合；所述的電極板擋板(I)包括正極板正面擋板(3)、正極板反面擋板(4)、負(fù)極板正面擋板(5)和負(fù)極板反面擋板￠);所述正極板正面擋板(3)的長(zhǎng)度(L32)為21mm ;所述正極板反面擋板(4)的長(zhǎng)度(L42)為16mm ;所述負(fù)極板正面擋板(5)的長(zhǎng)度(L52)為Ilmm ;所述負(fù)極板反面擋板￠)的長(zhǎng)度(L62)為Ilmm02.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極板擋板，其特征在于:所述電極板擋板(I)的U型內(nèi)槽兩側(cè)的側(cè)面積不小于電極板(2)兩側(cè)的電極板裸露段(21)的面積；所述電極板擋板(I)的高度和電極板(2)的高度一致；所述的電極板擋板(I)厚度為0.5?1mm。【專利摘要】本技術(shù)涉及一種PECVD工件架的電極板擋板，所述的電極板擋板呈U型，所述的電極板擋板和電極板前后兩端形成過(guò)渡配合；所述電極板擋板的高度和電極板的高度一致；所述電極板擋板U型內(nèi)槽兩側(cè)的側(cè)面積不小于電極板兩側(cè)電極板裸露段的面積。采用本技術(shù)的PECVD工件架保養(yǎng)時(shí)只需對(duì)上述電極片擋板拆卸后進(jìn)行打磨清洗即可再次使用，若電極片擋板鍍膜層加厚無(wú)法打磨時(shí)則浸泡在NaOH溶液中進(jìn)行浸泡清潔，提高了清潔效率，減少了電極板邊緣硅粉的產(chǎn)生，繼而減少PECVD鍍膜針孔透空的形成，提高了非晶硅薄膜轉(zhuǎn)化效率；另一方面也節(jié)省了人力，減少了對(duì)PECVD工件架大保養(yǎng)的次數(shù)，使設(shè)備的使用壽命延長(zhǎng)，提高了生產(chǎn)產(chǎn)能。【IPC分類】C23C16/458【公開號(hào)】CN205115596【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520384491【專利技術(shù)人】陸亮亮, 田振超, 郭必玉 【申請(qǐng)人】江蘇武進(jìn)漢能光伏有限公司【公開日】2016年3月30日【申請(qǐng)日】2015年6月4日本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種PECVD工件架的電極板擋板，其特征在于：所述的電極板擋板(1)呈U型，所述的電極板擋板(1)和電極板(2)前后兩端形成過(guò)渡配合；所述的電極板擋板(1)包括正極板正面擋板(3)、正極板反面擋板(4)、負(fù)極板正面擋板(5)和負(fù)極板反面擋板(6)；所述正極板正面擋板(3)的長(zhǎng)度(L32)為21mm；所述正極板反面擋板(4)的長(zhǎng)度(L42)為16mm；所述負(fù)極板正面擋板(5)的長(zhǎng)度(L52)為11mm；所述負(fù)極板反面擋板(6)的長(zhǎng)度(L62)為11mm。
【技術(shù)特征摘要】
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：陸亮亮，田振超，郭必玉，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：江蘇武進(jìn)漢能光伏有限公司，
類型：新型
國(guó)別省市：江蘇;32
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