光阻涂布裝置及光阻涂布方法制造方法及圖紙

本發明專利技術提供一種光阻涂布裝置及光阻涂布方法。本發明專利技術提供的光阻涂布方法，采用垂直整面吐膠方式進行，通過涂布噴頭上設置的密集排布的針狀的吐膠噴嘴向基板表面上吐膠，此時，在重力以及表面張力作用下光阻膠會在基板表面自然流平形成薄膜，隨后通過不斷補膠而垂直牽引薄膜生長，當在基板表面上形成的薄膜的厚度達到預定范圍時，控制數個吐膠噴嘴停止吐膠，完成垂直整面吐膠動作；該光阻涂布方法，相比于現有的水平涂布方式的光阻涂布方法，在保證吐膠均勻性以及膜厚穩定性的情況下，大大減少了涂布時間，從而提高了產能。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及顯示面板的制造領域，尤其涉及一種光阻涂布裝置及光阻涂布方法。
技術介紹
薄膜晶體管液晶顯示裝置(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay，TFT-LCD)具有機身薄、省電、無輻射等眾多優點，得到了廣泛的應用?，F有市場上的液晶顯示裝置大部分為背光型液晶顯示裝置，其包括液晶顯示面板及背光模組(backlightmodule)。通常液晶顯示面板由彩膜(CF，ColorFilter)基板、TFT陣列基板、夾于彩膜基板與TFT陣列基板之間的液晶(LC，LiquidCrystal)及密封框膠(Sealant)組成；其成型工藝一般包括：前段陣列(Array)制程與CF制程(薄膜、黃光、蝕刻及剝膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT陣列基板與CF基板貼合)及后段模組組裝(Module)制程(驅動IC與印刷電路板壓合)；其中，前段Array制程主要是形成TFT基板，以便于控制液晶分子的運動；前段CF制程主要是形成CF基板；中段Cell制程主要是在TFT基板與CF基板之間添加液晶；后段模組組裝制程主要是驅動IC壓合與印刷電路板的整合，進而驅動液晶分子轉動，顯示圖像。CF基板是LCD用來實現彩色顯示的主要器件，其基本構成通常包括：玻璃基板、黑色矩陣(BlackMatrix，BM)、彩色色阻層等等。背光源發出的光經過液晶分子的調制入射到CF基板，通過CF基板上彩色色阻層的紅色色阻、綠色色阻、以及藍色色阻的濾光作用，分別顯示紅，綠，藍三種光線，不同顏色的色阻分別透射對應顏色波段的光，從而實現顯示器的彩色顯示。在CF制程當中，包括光阻涂布、曝光、顯影等制程，其中，光阻涂布無疑是最為重要的一個環節，光阻涂布的均勻性以及光阻的厚度對于顯示效果都有很重要的影響。傳統的光阻涂布方式為：如圖1所示，首先將涂布噴頭500與放置在承載臺200上的基板100進行對位，涂布噴頭500上設有與基板100的寬度相對應的狹縫噴嘴510；然后，如圖2所示，控制所述涂布噴頭500上的狹縫噴嘴510吐膠，在基板100上形成橫跨基板100的光阻束(beam)110’；之后，如圖3所示，通過水平牽引的方式使涂布噴頭500在基板100上方水平移動，在基板100表面形成整面的光阻圖層，得到光阻層110；該光阻涂布方式雖然在膜厚均勻性方面有優勢，但是整體的生產時間(Tacttime)卻是隨著玻璃基板的尺寸增大而逐漸增加的，因此對于產能的提升沒有幫助。因此，有必要提供一種光阻涂布裝置及光阻涂布方法，以解決上述問題。
技術實現思路
本專利技術的目的在于提供一種光阻涂布裝置，噴頭本體的底面上設有緊密地陣列排布的數個針狀的吐膠噴嘴，能夠對基板進行垂直整面吐膠，保證吐膠均勻性以及膜厚穩定性，降低光阻涂布制程的生產時間。本專利技術的目的還在于提供一種光阻涂布方法，采用垂直整面吐膠的方式進行，保證吐膠均勻性以及膜厚穩定性，降低光阻涂布制程的生產時間。為實現上述專利技術目的，本專利技術提供一種光阻涂布裝置，用于在基板上涂布光阻膜層，包括涂布噴頭；所述涂布噴頭包括噴頭本體、及陣列排布于所述噴頭本體底面上的數個針狀的吐膠噴嘴；所述噴頭本體用于容納光阻膠，使用時，數個吐膠噴嘴同時從豎直方向上向水平放置的基板進行吐膠，在重力以及表面張力作用下光阻膠在基板的表面上自然流平而形成薄膜，通過吐膠噴嘴不斷吐膠而使薄膜的厚度增加。所述光阻涂布裝置還包括設于所述噴頭本體底面上的厚度檢測器，用于量測在所述基板上形成薄膜的厚度。所述厚度檢測器為激光感測器。所述光阻涂布裝置還包括控制機構，所述厚度檢測器將量測結果實時反饋給所述控制機構，當在基板表面上形成的薄膜的厚度達到預定范圍時，所述控制機構控制所述數個吐膠噴嘴停止吐膠。本專利技術還提供一種光阻涂布方法，包括如下步驟：步驟1、提供光阻涂布裝置及待涂布的基板，將所述基板放置于承載臺上，并將光阻涂布裝置與所述基板進行對位；所述光阻涂布裝置包括涂布噴頭；所述涂布噴頭包括噴頭本體、及陣列排布于所述噴頭本體底面上的數個針狀的吐膠噴嘴；所述噴頭本體內容納有光阻膠，對位后，所述數個吐膠噴嘴對應的位于所述基板的正上方；調整噴頭本體與所述基板之間的距離；步驟2、數個吐膠噴嘴同時從豎直方向上向水平放置的基板進行吐膠，在重力以及表面張力作用下光阻膠在基板的表面上自然流平而形成薄膜，通過吐膠噴嘴不斷吐膠而使薄膜的厚度增加；步驟3、當在基板表面上形成的薄膜的厚度達到預定范圍時，控制數個吐膠噴嘴停止吐膠，得到基板表面上的光阻層，將噴頭本體向上移動以遠離所述基板，從而完成光阻涂布。所述基板為玻璃基板，所述步驟3得到的具有光阻層的基板用于形成液晶顯示面板的彩膜基板。所述光阻涂布噴頭還包括設于所述噴頭本體底面上的厚度檢測器，用于量測在所述基板上形成薄膜的厚度。所述厚度檢測器為激光感測器。所述光阻涂布裝置還包括控制機構，所述厚度檢測器將量測結果實時反饋給所述控制機構，當在基板表面上形成的薄膜的厚度達到預定范圍時，所述步驟3中，所述控制機構控制所述數個吐膠噴嘴停止吐膠。通過所述控制機構控制所述噴頭本體的移動，以控制所述噴頭本體與所述基板之間的距離。本專利技術的有益效果：本專利技術提供的一種光阻涂布裝置，涂布噴頭包括噴頭本體、及緊密地陣列排布于所述噴頭本體底面上的數個針狀的吐膠噴嘴；使用時，數個吐膠噴嘴同時從豎直方向上向水平放置的基板進行吐膠，從而對基板進行垂直整面涂膠，在保證吐膠均勻性以及膜厚穩定性的情況下，能夠大大降低光阻涂布制程的生產時間；本專利技術提供的一種光阻涂布方法，采用垂直整面吐膠方式進行，通過涂布噴頭上設置的密集排布的針狀的吐膠噴嘴向基板表面上吐膠，此時，在重力以及表面張力作用下光阻膠會在基板表面自然流平形成薄膜，隨后通過不斷補膠而垂直牽引薄膜生長，當在基板表面上形成的薄膜的厚度達到預定范圍時，控制數個吐膠噴嘴停止吐膠，完成垂直整面吐膠動作；該光阻涂布方法，相比于現有的水平涂布方式的光阻涂布方法，在保證吐膠均勻性以及膜厚穩定性的情況下，大大減少涂布時間，從而提高了產能。附圖說明下面結合附圖，通過對本專利技術的具體實施方式詳細描述，將使本專利技術的技術方案及其他有益效果顯而易見。附圖中，圖1-3為現有的光阻涂布方法的示意圖；圖4為本專利技術的光阻涂布裝置的涂布噴頭的立體結構示意圖；圖5為本專利技術的光阻涂布方法的流程示意圖；圖6本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種光阻涂布裝置，用于在基板(10)上涂布光阻膜層，包括涂布噴頭，其特征在于，所述涂布噴頭包括噴頭本體(50)、及陣列排布于所述噴頭本體(50)底面上的數個針狀的吐膠噴嘴(51)；所述噴頭本體(50)用于容納光阻膠，使用時，數個吐膠噴嘴(51)同時從豎直方向上向水平放置的基板(10)進行吐膠，在重力以及表面張力作用下光阻膠在基板(10)的表面上自然流平而形成薄膜，通過吐膠噴嘴(51)不斷吐膠而使薄膜的厚度增加。

【技術特征摘要】
1.一種光阻涂布裝置，用于在基板(10)上涂布光阻膜層，包括涂布噴
頭，其特征在于，所述涂布噴頭包括噴頭本體(50)、及陣列排布于所述噴
頭本體(50)底面上的數個針狀的吐膠噴嘴(51)；
所述噴頭本體(50)用于容納光阻膠，使用時，數個吐膠噴嘴(51)同
時從豎直方向上向水平放置的基板(10)進行吐膠，在重力以及表面張力作
用下光阻膠在基板(10)的表面上自然流平而形成薄膜，通過吐膠噴嘴
(51)不斷吐膠而使薄膜的厚度增加。
2.如權利要求1所述的光阻涂布裝置，其特征在于，所述光阻涂布裝置
還包括設于所述噴頭本體(50)底面上的厚度檢測器(52)，用于量測在所
述基板(10)上形成薄膜的厚度。
3.如權利要求2所述的光阻涂布裝置，其特征在于，所述厚度檢測器
(52)為激光感測器。
4.如權利要求2所述的光阻涂布裝置，其特征在于，所述光阻涂布裝置
還包括控制機構，所述厚度檢測器(52)將量測結果實時反饋給所述控制機
構，當在基板(10)表面上形成的薄膜的厚度達到預定范圍時，所述控制機
構控制所述數個吐膠噴嘴(51)停止吐膠。
5.一種光阻涂布方法，其特征在于，包括如下步驟：
步驟1、提供光阻涂布裝置及待涂布的基板(10)，將所述基板(10)放
置于承載臺(20)上，并將光阻涂布裝置與所述基板(10)進行對位；
所述光阻涂布裝置包括涂布噴頭；所述涂布噴頭包括噴頭本體(50)、
及陣列排布于所述噴頭本體(50)底面上的數個針狀的吐膠噴嘴(51)；所
述噴頭本體(50)內容納有光阻膠，對位后，所述數個吐膠噴嘴(51)對應
的位于...

【專利技術屬性】
技術研發人員：王雷，
申請(專利權)人：武漢華星光電技術有限公司，
類型：發明
國別省市：湖北;42