口模頭及涂敷液涂布方法技術

由一對口模頭構件(12a、12b)夾持著狹縫(14)的寬度調整用的墊板(13)借此形成口模頭主體(11)，其中涂敷液從載置在涂敷液涂布裝置(27)的涂敷平臺(30)上的構件的上方經由該狹縫進行涂布。該口模頭主體(11)具有：作為暫時的貯液器而于內部儲存供應至狹縫(14)用的涂敷液的歧管(19)；為了讓涂敷液供應至該歧管(19)用的涂敷液注入部(15)；及滯留在歧管(19)的空氣排除用的排氣部(16a、16b)。該口模頭主體還具有：設置成高度與狹縫(14)的前端位置高度相同的腳部(18)；及對涂敷平臺(30)表面為止的距離進行測量的多個傳感器(17a、17b)。通過上述配置，口模頭(10)和涂敷平臺(30)能夠保持成平行。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術是關于要對載置在涂敷液涂布裝置的涂敷平臺上的構件涂布涂敷液的。
技術介紹
涂敷液涂布裝置是一種要對載置在涂敷平臺上的構件涂布涂敷液的裝置，例如將2個構件的黏合用的UV硬化型接著劑作為涂敷液進行涂布的涂敷液涂布裝置。UV硬化型接著劑是一種經由紫外線UV照射就會固化的接著劑。例如，當要將液晶面板和保護玻璃以UV硬化型接著劑黏合來制造接合構件時，使用涂敷液涂布裝置將UV硬化型接著劑涂布在兩方構件或一方構件的黏合面的一部分。接著，使2個構件的黏合面成對面，對該2個構件進行加壓使UV硬化型接著劑延展以使2個構件黏合。上述的涂敷液涂布裝置的涂布方法有使用口模頭，以非接觸狀態一邊吐出涂敷液一邊形成涂膜的模頭涂布法。該模頭涂布法的涂敷液的涂布，由于涂布次數只執行一次，再加上口模頭和被涂布構件為非接觸狀態，因此就能夠使涂布面均勻提升質量，但是被涂布構件相對口模頭若不是定位在適當位置時，則被涂布構件的涂膜厚度就不會均勻。于是，就提案有可使被涂布構件相對口模頭定位在適當位置的定位裝置(例如參閱日本特開2003-171146號公報)ο此外，于口模頭具有暫時儲存涂敷液用的歧管，歧管內的氣泡超過一定量時則涂敷液的吐出壓力會使氣泡的收縮變大導致涂敷液的吐出的反應度變差。于是，就提案有可使滯留在口模頭內的氣泡去除的構成(例如參閱日本專利第4752492號公報)。現有技術文獻專利文獻專利文獻1:日本特開2003-171146號公報專利文獻2:日本專利第4752492號公報
技術實現思路
專利技術要解決的問題然而，專利文獻1的定位裝置構成為可使載置在涂敷平臺上的被涂布構件相對口模頭定位在適當位置，即，可使被涂布構件相對水平的涂敷平臺載置成水平地執行被涂布構件的定位，但并不構成為可使口模頭和涂敷平臺保持成平行，因此涂敷平臺沒有水平時涂膜厚度就不會均勻。本專利技術的目的是提供一種能夠將口模頭和涂敷平臺保持成平行，并能夠將涂膜厚度保持成均勻且還可保持涂敷液的吐出的反應度的。用于解決問題的方案技術方案1的專利技術相關的口模頭，其特征為，具備:從載置在涂敷液涂布裝置的涂敷平臺上的構件的上方進行涂敷液涂布時狹縫寬度調整用的墊板；由一對口模頭構件夾持著上述墊板借此形成且于內部具有歧管可暫時儲存要供應至狹縫用的涂敷液的口模頭主體;于上述口模頭主體設置成與上述狹縫的前端位置高度相同高度的腳部；設置在上述口模頭主體以作為要將涂敷液供應至上述歧管用的涂敷液注入部;設置在上述口模頭主體以作為要將滯留在歧管的空氣排除用的排氣部;及設置在上述口模頭主體以對上述涂敷平臺表面為止的距離進行測量的多個傳感器。技術方案2的專利技術相關的涂敷液涂布方法，其特征為，首先對具有插入溝槽可讓技術方案1的口模頭的狹縫前端部插入的安裝架的上述插入溝槽插入由彈性薄片所堵住的上述狹縫的前端部借此使上述安裝架螺絲固定在上述口模頭的上述腳部，其次，將安裝有上述安裝架的口模頭安裝在涂敷液涂布裝置，并將涂敷液從上述口模頭的涂敷液注入部填充在上述口模頭的歧管，于同時從上述排氣部排出滯留在上述歧管的空氣之后關閉上述排氣部，接著，以上述口模頭的傳感器測量與上述安裝架之間的距離借此認知上述狹縫的前端位置，且將上述安裝架從上述口模頭卸下的同時卸除彈性薄片，并以上述口模頭的傳感器對上述涂敷液涂布裝置的涂敷平臺表面為止的距離進行測量，且根據上述傳感器所測量的上述涂敷平臺表面為止的距離及上述狹縫的前端位置執行上述涂敷平臺和上述口模頭的平行對準，然后，從載置在上述涂敷平臺上的構件的上方涂布涂敷液。專利技術的效果根據本專利技術，由于口模頭具有對涂敷平臺表面為止的距離進行測量的多個傳感器，因此根據傳感器所測量的距離就可執行涂敷平臺和口模頭的平行對準。如此一來，就能夠使涂膜的厚度保持成均勻。此外，由于口模頭具有歧管的空氣排出用的排氣部，因此就能夠使滯留在歧管的空氣消失還能夠保持涂敷液的吐出的反應度。【附圖說明】圖1為表不本專利技術實施形態相關的口模頭的一例立體圖。圖2為本專利技術實施形態的口模頭主體從其長向看的內部說明圖。圖3為本專利技術實施形態的口模頭主體從其短向看的內部說明圖。圖4為表示本專利技術實施形態相關的涂敷液涂布方法的一例流程圖。圖5為表示經由圖4的步驟S1在本專利技術實施形態的口模頭安裝有安裝架時的狀態下口模頭側面圖。圖6為表示經由圖4的步驟S2將安裝有安裝架的口模頭安裝在涂敷液涂布裝置時的狀態下的涂敷液涂布裝置側面圖。圖7為表示經由圖4的步驟S5從口模頭卸下安裝架后的狀態下的涂敷液涂布裝置側面圖。圖8為表示經由圖4的步驟S6、S7根據涂敷平臺的表面為止的距離執行口模頭和涂敷平臺的平行對準的狀態下的涂敷液涂布裝置側面圖。【具體實施方式】以下，對本專利技術的口模頭相關的實施形態進行說明。圖1為表示本專利技術實施形態相關的口模頭10的一例立體圖。如圖1所示，口模頭主體11由一對口模頭構件12a、12b夾持著墊板13借此形成。墊板13作為從載置在圖示省略的涂敷液涂布裝置的涂敷平臺上的構件的上方進行涂敷液涂布時狹縫14寬度調整用的構件。口模頭主體11，如下述所示，具有可暫時儲存涂敷液的歧管，且可將儲存在該歧管的涂敷液供應至狹縫14。于口模頭主體11設有涂敷液注入部15及排氣部16a、16b。涂敷液注入部15連接在圖示省略的涂敷液供應部且可讓涂敷液供應至歧管，排氣部16a、16b可讓滯留在歧管的空氣排出。例如當要將涂敷液從涂敷液注入部15填充在歧管時就打開排氣部16a、16b，讓滯留在歧管及與此連接的排氣管的空氣排出。此外，于口模頭主體11設有多個傳感器17a、17b。傳感器17a、17b是一種要對圖示省略的涂敷平臺表面為止的距離進行測量的傳感器，傳感器17a、17b所測量出的距離用于在下述的自動測角臺所要執行的涂敷平臺和口模頭10的水平對準的調整。再加上，于口模頭主體11的個角，具有設置成與狹縫14的前端位置高度相同高度的腳部18。圖2為口模頭主體11從其長向看的內部說明圖，圖2(a)為從圖1的左側看的圖，圖2(b)為從圖1的右側看的圖。圖2(a)中省略傳感器17a、17b的圖示，圖2(b)中省略排氣部16a、16b的圖示。于圖2(a)中，口模頭主體11具有可暫時儲存涂敷液的歧管19，于該歧管19從圖示省略的涂敷液供應部經由涂敷液注入部15供應有涂敷液。此外，排氣部16a、16b設置在歧管19的內部當中容易滯留空氣的空氣滯留部20a、20b。排氣部16a、16b例如設置在遠離涂敷液注入部15的歧管19的上端部。其理由為從涂敷液注入部15注入的涂敷液會推擠空氣使空氣填充在歧管19的內部。即，涂敷液所推擠的空氣容易集中在遠離涂敷液注入部15的歧管19的上端部。于圖2(b)中，在口模頭主體11的腳部18的內側從歧管19或狹縫14的位置偏離的位置，以貫通口模頭主體11的狀態設有多個傳感器17a、17b。接著，多個傳感器17a、17b的前端部(計測部)對要載置有被涂布構件的涂敷平臺表面為止的距離進行測量。圖3為口模頭主體11從其短向看的內部說明圖，圖3(a)為從圖1的讀者面前側看的省略排氣部16a、16b的圖示的圖，圖3 (b)為從圖1的讀者面前側看的省略涂敷液注入部15的圖示的圖。于圖3(a)中，來自于涂敷液注入部15的涂敷液通過口模頭主體1本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種口模頭，其特征為，具備：用于調整從載置在涂敷液涂布裝置的涂敷平臺上的構件的上方進行涂敷液涂布的狹縫的寬度的墊板；由一對口模頭構件夾持著上述墊板藉此形成，且于內部具有歧管用于暫時儲存供應至狹縫用的涂敷液的口模頭主體；于上述口模頭主體設置成與上述狹縫的前端位置高度相同高度的腳部；設置在上述口模頭主體以作為將涂敷液供應至上述歧管用的涂敷液注入部；設置在上述口模頭主體以作為將滯留在上述歧管的空氣排除用的排氣部；及設置在上述口模頭主體以對至上述涂敷平臺表面為止的距離進行測量的多個傳感器。

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...

【專利技術屬性】
技術研發人員：坂本雅樹，
申請(專利權)人：歐利生電氣株式會社，
類型：發明
國別省市：日本;JP