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    一種閥蓋制造技術

    技術編號:13135219 閱讀:145 留言:0更新日期:2016-04-06 21:27
    本實用新型專利技術公開了一種閥蓋,其技術方案要點包括具有法蘭盤的底座、套環,套環與底座之間通過支架連接,底座設有供閥桿安裝的通道,底座的邊沿周向設有若干孔眼,所述底座的底面設有圓形的凹槽,通道的口位于凹槽的中心,所述通道的口設有凸緣,所述凸緣的周向連接有若干凸條,凸緣為可拆卸連接于通道的口。本實用新型專利技術具有更好的抗磨損性能,密封性效果好,且起到防止雜質沉積的作用。

    【技術實現步驟摘要】

    本技術涉及一種閥門配件,更具體地說它涉及一種閥蓋
    技術介紹
    閥蓋是閥門的重要組成部分,起到密封作用。現有運用最為廣泛的截止閥、閘閥等其閥蓋如申請號為201130492714.6的外觀專利所述的,都包括有一具有法蘭盤的底座,該底座用于與閥體通過螺栓連接,底座開設有用于安裝閥桿的通道,為了使得閥桿的固定同軸度更高,在通道的上方還連接有用于固定閥桿的套環,套環與底座之間通過支架連接。以上為現有技術中常見的一種閥蓋,現有技術中閥桿動作最終將會帶動閥瓣抵觸至閥蓋或閥座上,而閥蓋通常不是采用閥座上的耐磨合金材料制成,因此閥瓣抵觸閥蓋時會對閥蓋產生一定磨損,該磨損會造成通道口與閥桿間的密封性減弱。并且,傳統閥蓋底座底部為平面結構,其固定于閥體上時,介質從進入閥體并進入閥腔時,介質會與閥蓋接觸,傳統的閥蓋底座底面較為平緩,介質沖擊時,動作較為平緩,介質中的雜質容易沉積,雜質沉積會造成多種危害,如雜質附著于閥座上引起密封不嚴,或者雜質變質導致管道中介質受到影響等,為此,如何避免介質在經過閥腔時雜質沉積也是本領域技術人員需要解決的問題。
    技術實現思路
    針對現有技術存在的不足,本技術的目的在于提供一種閥蓋,具有更好的抗磨損性能,密封性效果好,且起到防止雜質沉積的作用。為實現上述目的,本技術提供了如下技術方案:一種閥蓋,包括具有法蘭盤的底座、套環,套環與底座之間通過支架連接,底座設有供閥桿安裝的通道,底座的邊沿周向設有若干孔眼,所述底座的底面設有圓形的凹槽,通道的口位于凹槽的中心,所述通道的口設有凸緣,所述凸緣的周向連接有若干凸條,凸緣為可拆卸連接于通道的口。所述凸緣與通道通過螺紋連接。凸條至少為兩條。本技術的效果在于,相比傳統的閥蓋,本技術的閥蓋在通道的口處設置有凸緣,從而克服了閥瓣抵觸至閥蓋上時對閥蓋通道口處的磨損,其只會磨損到凸緣,凸緣為凸出設置的,不屬于通道的一部分,因此凸緣的磨損不會導致通道與閥桿的有效密封接觸,因此,可起到更有效的密封作用,并且凸緣還是可拆卸的,可通過拆卸的方式對其更換,使用效果更佳。其次,底座的底面開設有凹槽,并在凹槽中設置有凸條的結構,當該閥蓋與閥座連接時,介質進入閥腔的過程中,沖擊至閥蓋上,由于凸條的設置,使得底座的底面呈現不規則形狀,因此介質沖擊至底座的底面時,就會產生較為紊亂的不規則運動,從而打散介質中的雜質,使其不容易沉積,雜質更容易伴隨介質流出。通過上述方案,更好的起到了防止雜質沉積的作用。進一步的,所述凹槽的邊沿凸出設置有環狀凸沿。通過上述方案,傳統的閥蓋的底座底面為平面,這就使得通過螺栓連接于閥體上時,閥蓋與閥體的連接處,密封面較小容易產生泄漏,先通過環狀凸沿的設置,可有效增加閥蓋與閥體連接面的密封性,只需對應的在閥體上開設用于嵌設環狀凸沿的凹槽即可。附圖說明圖1為本技術一種閥蓋實施例的結構示意圖。圖2為本技術一種閥蓋實施例的底座底面結構示意圖。附圖標記說明:1、底座;2、套環;3、支架;11、孔眼;12、凹槽;13、環狀凸沿;14、凸緣;15、凸條;16、通道。具體實施方式參照圖1至圖2對本技術實施例做進一步說明。本實施例所述的一種閥蓋,如圖1所示,包括具有法蘭盤的底座1、套環2,套環2與底座1之間通過支架3連接,底座1設有供閥桿安裝的通道16,底座1的邊沿周向設有若干孔眼11,所述底座1的底面設有圓形的凹槽12,通道16的口位于凹槽12的中心,所述通道16的口設有凸緣14,所述凸緣14的周向一體式連接有若干凸條15,凸緣14為可拆卸連接于通道16的口。該可拆卸連接為螺紋連接。進一步優化的,所述凸條15至少為兩條。本技術的效果在于,相比傳統的閥蓋,本技術的閥蓋在通道16的口處設置有凸緣14,從而克服了閥瓣抵觸至閥蓋上時對閥蓋通道16口處的磨損,其只會磨損到凸緣14,凸緣14為凸出設置的,不屬于通道16的一部分,因此凸緣14的磨損不會導致通道16與閥桿的有效密封接觸,因此,可起到更有效的密封作用,并且凸緣14還是可拆卸的,可通過拆卸的方式對其更換,使用效果更佳。其次,底座1的底面開設有凹槽12,并在凹槽12中設置有凸條15的結構,當該閥蓋與閥座連接時,介質進入閥腔的過程中,沖擊至閥蓋上,由于凸條15的設置,使得底座1的底面呈現不規則形狀,因此介質沖擊至底座1的底面時,就會產生較為紊亂的不規則運動,從而打散介質中的雜質,使其不容易沉積,雜質更容易伴隨介質流出。通過上述方案,更好的起到了防止雜質沉積的作用。進一步的,所述凹槽12的邊沿凸出設置有環狀凸沿13。通過上述方案,傳統的閥蓋的底座11底面為平面,這就使得通過螺栓連接于閥體上時,閥蓋與閥體的連接處,密封面較小容易產生泄漏,先通過環狀凸沿13的設置,可有效增加閥蓋與閥體連接面的密封性,只需對應的在閥體上開設用于嵌設環狀凸沿13的凹槽12即可。以上所述僅為本技術的較佳實施例,并不用于限制本技術,凡在本技術的設計構思之內,所作的任何修改、等同替換、改進等,均應包含在本技術的保護范圍之內。本文檔來自技高網...

    【技術保護點】
    一種閥蓋,包括具有法蘭盤的底座、套環,套環與底座之間通過支架連接,底座設有供閥桿安裝的通道,底座的邊沿周向設有若干孔眼,其特征是:所述底座的底面設有圓形的凹槽,通道的口位于凹槽的中心,所述通道的口設有凸緣,所述凸緣的周向連接有若干凸條,凸緣為可拆卸連接于通道的口。

    【技術特征摘要】
    1.一種閥蓋,包括具有法蘭盤的底座、套環,套環與底座之間通過支架連接,底座設有供閥桿安裝的通道,底座的邊沿周向設有若干孔眼,其特征是:所述底座的底面設有圓形的凹槽,通道的口位于凹槽的中心,所述通道的口設有凸緣,所述凸緣的周向連接有若干凸條,凸緣為可拆卸連接...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:范曉波
    申請(專利權)人:浙江鴻業閥門制造有限公司
    類型:新型
    國別省市:浙江;33

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