提供一種使用了能夠在工件上形成均勻且薄的薄膜的靜電噴霧裝置的抗蝕膜形成裝置。抗蝕膜形成裝置(100)是通過(guò)靜電噴霧在基板上形成抗蝕膜(108)的抗蝕膜形成裝置，具有：噴嘴(102)，通過(guò)被施加規(guī)定的電壓，而將作為抗蝕膜(108)的原料的液劑的粒子(131)朝向具有臺(tái)階部(105a)的基板(105)噴霧；驅(qū)動(dòng)單元(111)，使基板(105)或噴嘴(102)相對(duì)地移動(dòng)；及控制單元(110)，以使用液劑的粒子在具有臺(tái)階部(105a)的基板(105)上形成抗蝕膜(108)的方式進(jìn)行控制。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】
本專利技術(shù)涉及通過(guò)靜電噴霧或靜電涂敷在工件上形成膜、配線及粒子分散層的方法。而且，本專利技術(shù)涉及樹(shù)脂模制裝置及樹(shù)脂模制方法，特別涉及容易進(jìn)行清潔工序的樹(shù)脂模制裝置及樹(shù)脂模制方法。而且，本專利技術(shù)涉及通過(guò)靜電噴霧在絲上形成薄膜的薄膜形成裝置及使用絲形成的有機(jī)EL元件。而且，本專利技術(shù)涉及通過(guò)靜電噴霧或靜電涂敷在工件上形成凸點(diǎn)或配線的裝置及其方法。
技術(shù)介紹
以往，有使用將工件(基板)浸漬在抗蝕液中的浸液方法、利用印版的凹凸的印刷法、或者向工件上供給抗蝕液并利用通過(guò)使工件高速旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的離心力來(lái)形成薄膜的旋轉(zhuǎn)涂層法，來(lái)在工件上形成抗蝕膜的方法。例如在專利文獻(xiàn)1中公開(kāi)了使用旋轉(zhuǎn)涂層法的抗蝕膜的形成方法。而且，在專利文獻(xiàn)2中公開(kāi)了利用電子線蒸鍍而蒸鍍了熒光體的半導(dǎo)體元件。而且，也已知有使用澆注或分配器來(lái)形成熒光體的方法。在專利文獻(xiàn)3中公開(kāi)了將液狀物質(zhì)向特定對(duì)象物的表面涂敷來(lái)形成薄膜的成膜方法。在以往的成膜方法中，向半導(dǎo)體芯片覆蓋電磁屏蔽殼體或者實(shí)施電磁屏蔽用的金屬鍍敷。而且，在專利文獻(xiàn)4中公開(kāi)了使用PTFE(聚四氟乙烯)來(lái)制造復(fù)層材料正極的鋰電池用正極的制造方法。在專利文獻(xiàn)5中公開(kāi)了使用PTFE的樹(shù)脂包覆金屬板。在專利文獻(xiàn)6中公開(kāi)了具備貯藏室的熔融金屬噴出裝置，該貯藏室具備多個(gè)噴嘴孔而收納熔融金屬。在專利文獻(xiàn)7中公開(kāi)了 BGA封裝體的電極形成方法。而且，以往，在使用模具對(duì)工件進(jìn)行樹(shù)脂模制時(shí)，在適當(dāng)?shù)臅r(shí)機(jī)進(jìn)行清潔工序。例舉一例，在該清潔工序中，首先，利用三聚氰胺系清潔劑進(jìn)行成形(也稱為噴丸清潔)，去除模具的污垢。此時(shí)，分型劑從模具脫落，因此接著成形出含有分型劑的模具跑合劑(樹(shù)脂)，在模具上形成分型膜。接著，為了防止模具跑合劑向工件的模制樹(shù)脂混入造成的模制樹(shù)脂的可靠性下降，而在進(jìn)行工件的樹(shù)脂模制之前進(jìn)行虛擬噴丸。通過(guò)進(jìn)行必要的次數(shù)的虛擬噴丸，將多余的模具跑合劑除去，在實(shí)際的樹(shù)脂模制時(shí)能抑制模具跑合劑混入工件的模制樹(shù)脂的情況。而且，作為其他的模具清潔方法，也存在基于手工作業(yè)的殘?jiān)ァ⒛＞弑砻娴牡入x子清洗、灰化清洗、或使用化學(xué)藥液的清潔方法。在專利文獻(xiàn)8中公開(kāi)了具備對(duì)樹(shù)脂模制模具的模具面進(jìn)行清潔的清潔裝置的樹(shù)脂模制裝置。該清潔裝置具備向樹(shù)脂模制模具的模具面照射能量線而形成容易將附著殘留于模具面的污垢從模具面剝離的狀態(tài)的能量線照射部。通過(guò)這樣的結(jié)構(gòu)，在對(duì)被成形品進(jìn)行樹(shù)脂模制時(shí)，使污垢附著于成形樹(shù)脂，使污垢附著于成形品而使成形品分型。在專利文獻(xiàn)9中公開(kāi)了使帶電的粉體涂料靜電附著于連續(xù)搬運(yùn)的長(zhǎng)條被涂物表面的粉體涂裝裝置。專利文獻(xiàn)1的粉體涂裝裝置構(gòu)成為具有環(huán)狀的主體，具有安裝于該主體的多個(gè)噴嘴和電暈放電電極的靜電涂裝機(jī)通過(guò)靜電涂裝機(jī)主體的空洞部分的大致中心地搬運(yùn)長(zhǎng)條被涂物。而且，以往，進(jìn)行在基板或半導(dǎo)體芯片上形成凸點(diǎn)。例如在專利文獻(xiàn)6中公開(kāi)了一種熔融金屬噴出裝置，具備對(duì)熔融金屬進(jìn)行脈沖性的加壓而從多個(gè)噴嘴孔形成液滴地噴出的加壓?jiǎn)卧鄠€(gè)噴嘴孔的中心軸配置成在噴出方向的延長(zhǎng)線上集中。通過(guò)這樣的結(jié)構(gòu)，噴出的熔融金屬的液滴彼此在飛翔中發(fā)生碰撞，因此能夠噴出與噴嘴孔的個(gè)數(shù)對(duì)應(yīng)的期望量的液滴。而且，以往，已知有將含有金屬微粒子等導(dǎo)電性物質(zhì)的溶劑從噴嘴呈細(xì)射束狀地噴出而向斷線的配線圖案的修復(fù)部位涂敷的方法。例如在專利文獻(xiàn)10中公開(kāi)了能夠使導(dǎo)電性粒子收斂于期望的射束徑而進(jìn)行配線的形成、修復(fù)的配線形成裝置。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2011-23387號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2:日本特開(kāi)2000-188416號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3:日本特開(kāi)2004-160287號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)4:日本特開(kāi)2012-99315號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)5:日本特開(kāi)平9-155283號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)6:日本特開(kāi)2007-105739號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)7:日本特開(kāi)平11-54656號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)8:日本特開(kāi)2008-149705號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)9:日本特開(kāi)2003-135997號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)10:日本特開(kāi)2009-016490號(hào)公報(bào)
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
專利技術(shù)要解決的課題然而，在浸液方法或印刷法中，形成在工件上的抗蝕膜變厚，而且，其厚度產(chǎn)生變動(dòng)。當(dāng)厚度產(chǎn)生變動(dòng)時(shí)，工件自身的剛性下降。而且，在專利文獻(xiàn)1公開(kāi)的旋轉(zhuǎn)涂層法中，抗蝕液的例如50%向周圍飛散，產(chǎn)生抗蝕液的浪費(fèi)而成本升高。而且，在工件上形成臺(tái)階的情況下，抗蝕劑并未均勻地附著于臺(tái)階的側(cè)面。而且，在工件上形成凸點(diǎn)的情況下，無(wú)法除了凸點(diǎn)的上表面之外僅在凸點(diǎn)的周圍形成抗蝕膜。而且，在專利文獻(xiàn)2公開(kāi)的方法等以往的熒光體的成膜方法中，難以穩(wěn)定地形成均勻且薄的膜。因此，有時(shí)產(chǎn)生來(lái)自LED芯片的光的色斑，無(wú)法穩(wěn)定地發(fā)出優(yōu)質(zhì)的光。而且，利用專利文獻(xiàn)3等的現(xiàn)有方法形成的薄膜依賴于封裝體形狀，而且，無(wú)法僅在必要的部位進(jìn)行成膜。而且，在向基板安裝之后，也無(wú)法在多個(gè)半導(dǎo)體芯片之中，僅對(duì)需要電磁屏蔽的半導(dǎo)體芯片等的保護(hù)部件進(jìn)行電磁波屏蔽。而且，在專利文獻(xiàn)4、5等的現(xiàn)有方法中，PTFE膜等短波長(zhǎng)高透過(guò)率絕緣膜通過(guò)蒸鍍或?yàn)R鍍來(lái)形成。因此，需要準(zhǔn)備真空環(huán)境，而且，無(wú)法局部性地進(jìn)行覆膜。而且，在專利文獻(xiàn)6等的以往的熔融金屬噴出裝置中，難以將微量的液體混合，反應(yīng)速度慢。而且，無(wú)法將液體僅混合必要量，因此產(chǎn)生液劑的浪費(fèi)。而且，在專利文獻(xiàn)7等的現(xiàn)有方法中，電極(凸點(diǎn))的周圍的絕緣膜通過(guò)曝光形成，因此需要使用掩模。而且，難以將這樣的絕緣膜局部地成膜。而且，在現(xiàn)有方法中，難以在接合絲上形成薄膜，尤其是在接合后難以進(jìn)行成膜。而且，若在模具的清潔工序時(shí)進(jìn)行虛擬噴丸，則清潔工序變得煩雜且清潔工序需要長(zhǎng)時(shí)間。而且，由于煩雜且長(zhǎng)時(shí)間的清潔工序，而樹(shù)脂成形品的制造成本也升高。另一方面，在專利文獻(xiàn)8那樣的結(jié)構(gòu)中，由于向成形品轉(zhuǎn)印污垢，因此不優(yōu)選。而且，在專利文獻(xiàn)9的結(jié)構(gòu)中，多個(gè)噴嘴構(gòu)成為相對(duì)于被涂物(絲)的徑向以規(guī)定的角度噴出粉體涂料。因此，在專利文獻(xiàn)9的結(jié)構(gòu)中，雖然能夠提高向長(zhǎng)條被涂物表面的靜電粉體的涂著效率，但是難以形成均勻且薄的膜。而且，在專利文獻(xiàn)9的結(jié)構(gòu)中，難以在絲上形成多個(gè)種類的薄膜而形成絲狀的有機(jī)EL元件。而且，專利文獻(xiàn)6公開(kāi)的熔融金屬噴出裝置雖然能夠?qū)⑵谕康暮噶显诙虝r(shí)間內(nèi)噴出，但是難以形成微細(xì)的凸點(diǎn)。而且，專利文獻(xiàn)10公開(kāi)的配線形成裝置雖然能夠使導(dǎo)電性粒子收斂于期望的射束徑，但是在具有臺(tái)階部的基板等的表面難以立體地形成均勻且微細(xì)的配線。因此，本專利技術(shù)提供一種使用了能夠在工件上形成均勻且薄的薄膜的靜電噴霧裝置的抗蝕膜形成裝置及抗蝕膜形成方法。而且，提供使用了這樣的靜電噴霧裝置的導(dǎo)電膜形成裝置、導(dǎo)電膜形成方法、短波長(zhǎng)高透過(guò)率絕緣膜形成裝置、短波長(zhǎng)高透過(guò)率絕緣膜形成方法、熒光體的成膜裝置、熒光體的成膜方法、絕緣膜形成裝置、絕緣膜形成方法、液劑合成裝置及液劑合成方法。而且，本專利技術(shù)提供一種容易進(jìn)行清潔工序的樹(shù)脂模制裝置及樹(shù)脂模制方法。而且，本專利技術(shù)提供一種在絲上形成均勻且薄的膜的薄膜形成裝置。而且，提供一種使用了絲的微細(xì)的有機(jī)EL元件。而且，本專利技術(shù)提供一種在工件上形成微細(xì)的凸點(diǎn)的凸點(diǎn)形成裝置及凸點(diǎn)形成方法。而且，提供一種在工件上形成均勻且微細(xì)的配線的配線形成裝置及配線形成方法。而且，提供一種具有形成了那樣的凸點(diǎn)或配線的配線結(jié)構(gòu)的配線結(jié)構(gòu)體。用于解決課題的手段作為本專利技術(shù)的一方式的抗蝕膜形本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種抗蝕膜形成裝置，通過(guò)靜電噴霧在基板上形成抗蝕膜，其特征在于，具有：噴嘴，通過(guò)被施加規(guī)定的電壓，將作為所述抗蝕膜的原料的液劑的粒子朝向具有臺(tái)階部的所述基板噴霧；驅(qū)動(dòng)單元，使所述基板或所述噴嘴相對(duì)地移動(dòng)；及控制單元，以使用所述液劑的粒子在具有所述臺(tái)階部的所述基板上形成所述抗蝕膜的方式進(jìn)行控制。
【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：小林一彥，須田圭祐，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：山田尖端科技公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：日本;JP
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