本發(fā)明專利技術(shù)提供一種光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識，包括標(biāo)識基層與印制其上的點(diǎn)陣圖形，在點(diǎn)陣圖形上還覆蓋有光柵片層。上述光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識的生成方法，包括：將點(diǎn)陣圖形的電子圖樣印刷在標(biāo)識基層上；將光柵片層附著在點(diǎn)陣圖形上，以形成光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識；使光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，在采集其在不同旋轉(zhuǎn)角度的光柵片層中所形成的圖像后，上傳至服務(wù)器；將采集的圖像分別與點(diǎn)陣圖形的碼值進(jìn)行關(guān)聯(lián)綁定。上述光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識的生成系統(tǒng)，包括光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識生成裝置、標(biāo)識形狀判定裝置、旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)選定裝置、旋轉(zhuǎn)角度設(shè)定裝置、旋轉(zhuǎn)路徑生成裝置、旋轉(zhuǎn)平臺、圖像采集設(shè)備與服務(wù)器。本發(fā)明專利技術(shù)可以通過多種角度對點(diǎn)陣圖形進(jìn)行識讀，使其適用范圍更廣。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及一種防偽標(biāo)識，尤其是一種光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識、及其生成方法與生成系統(tǒng)。
技術(shù)介紹
目前，在現(xiàn)有的帶點(diǎn)陣圖形的防偽標(biāo)識中，由于點(diǎn)陣圖形一般只能在規(guī)定的角度范圍內(nèi)進(jìn)行識讀，若防偽標(biāo)識附著在產(chǎn)品表面的位置有限，因此，無法通過識讀設(shè)備對其進(jìn)行識讀，從而限制了其在產(chǎn)品表面的使用范圍。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
針對上述問題中存在的不足之處，本專利技術(shù)提供一種可以通過多種角度對點(diǎn)陣圖形進(jìn)行識讀，具有多變性，且適用范圍更廣的光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識、及其生成方法與生成系統(tǒng)。為實(shí)現(xiàn)上述目的，包括標(biāo)識基層與印制其上的點(diǎn)陣圖形，在所述點(diǎn)陣圖形上還覆蓋有光柵片層。上述的光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識，其中，所述點(diǎn)陣圖形的大小在17x17像素?67x67像素之間；所述點(diǎn)陣圖形由多個(gè)墨點(diǎn)所構(gòu)成的，所述墨點(diǎn)的大小在Ixl像素?3x3像素之間，相鄰兩個(gè)所述墨點(diǎn)之間的最小距離在2個(gè)像素?8個(gè)像素之間。上述的光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識，其中，所述點(diǎn)陣圖形呈外凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)設(shè)置在所述標(biāo)識基層上。上述的光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識，其中，所述點(diǎn)陣圖形呈內(nèi)凹狀結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述標(biāo)識基層上。上述的光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識，其中，在所述標(biāo)識基層的表面設(shè)有與所述點(diǎn)陣圖形的位置相同的凹槽，在所述凹槽中植入有油墨，以形成所述墨點(diǎn)。本專利技術(shù)還提供一種光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識的生成方法，包括以下步驟:步驟1、將生成的點(diǎn)陣圖形的電子圖樣印刷在標(biāo)識基層上；步驟2、將光柵片層附著在點(diǎn)陣圖形上，以形成光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識；步驟3、根據(jù)光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識的形狀以選擇旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)對其進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，在采集到點(diǎn)陣圖形在不同旋轉(zhuǎn)角度的光柵片層中所形成的圖像后，將其上傳至服務(wù)器；步驟4、服務(wù)器將所采集到的所有的點(diǎn)陣圖形的圖像分別與該點(diǎn)陣圖形的碼值進(jìn)tx關(guān)聯(lián)綁定。上述的生成方法，其中，在步驟I中還包括以下子步驟:步驟11、由碼值信息數(shù)據(jù)庫中提取一個(gè)碼值信息，通過點(diǎn)陣圖形生成系統(tǒng)以生成與該碼值信息相對應(yīng)的點(diǎn)陣圖形的電子圖樣；步驟12、根據(jù)在標(biāo)識基層的電子模板上劃分電子圖樣的附著區(qū)域以設(shè)定電子圖樣的樣式；步驟13、根據(jù)電子圖樣的樣式，將其印刷在標(biāo)識基層的附著區(qū)域上。上述的生成方法，其中，在步驟3中還包括以下子步驟:步驟31、根據(jù)光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識的形狀以選擇相應(yīng)的旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)邊與旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)角；步驟32、設(shè)定的旋轉(zhuǎn)角度值與旋轉(zhuǎn)方向，并根據(jù)旋轉(zhuǎn)角度值與旋轉(zhuǎn)方向繪制出旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)邊與旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)角的旋轉(zhuǎn)路徑；步驟33、根據(jù)旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)邊與旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)角依次按照旋轉(zhuǎn)路徑進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，點(diǎn)陣圖形采集設(shè)備對光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識在第一個(gè)旋轉(zhuǎn)角度基點(diǎn)中點(diǎn)陣圖形所產(chǎn)生的圖像進(jìn)行采集，并將所采集的圖像上傳至服務(wù)器。本專利技術(shù)還提供一種光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識的生成系統(tǒng)，包括光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識生成裝置、標(biāo)識形狀判定裝置、旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)選定裝置、旋轉(zhuǎn)角度設(shè)定裝置、旋轉(zhuǎn)路徑生成裝置、旋轉(zhuǎn)平臺、圖像采集設(shè)備與服務(wù)器；所述光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識生成裝置用于生成光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識；所述標(biāo)識形狀判定裝置用于判定光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識的形狀屬于規(guī)則形狀或不規(guī)則形狀；所述旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)選定裝置用于根據(jù)光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識的形狀以選擇相應(yīng)的旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)角和/或旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)邊；所述旋轉(zhuǎn)參數(shù)設(shè)定裝置用于對光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識的旋轉(zhuǎn)角度、旋轉(zhuǎn)方向進(jìn)行設(shè)定；所述旋轉(zhuǎn)路徑生成裝置用于根據(jù)所輸入的旋轉(zhuǎn)角度值與旋轉(zhuǎn)方向繪制出旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)邊與旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)角的旋轉(zhuǎn)路徑；所述旋轉(zhuǎn)平臺用于根據(jù)設(shè)定好的旋轉(zhuǎn)參數(shù)與旋轉(zhuǎn)路徑分別基于旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)角與旋轉(zhuǎn)基準(zhǔn)邊對光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識的進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；所述圖像采集設(shè)備用于在不同旋轉(zhuǎn)角度光柵片層下對點(diǎn)陣圖形的變形圖像進(jìn)行米集；所述服務(wù)器用于存儲光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識中點(diǎn)陣圖形的碼值信息，以及所述圖像采集設(shè)備所采集到的點(diǎn)陣圖形的變形圖像，并將變形圖像與碼值信息進(jìn)行關(guān)聯(lián)綁定。上述的光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識的生成系統(tǒng)，其中，所述光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識生成裝置中包括點(diǎn)陣圖形生成系統(tǒng)、電子圖樣植入裝置、印制設(shè)備；所述點(diǎn)陣圖形生成系統(tǒng)用于根據(jù)由碼值信息數(shù)據(jù)庫中調(diào)用的碼值信息以生成相對應(yīng)的點(diǎn)陣圖形的電子圖樣；所述電子圖樣植入裝置用于將點(diǎn)陣圖形的電子圖樣附著在標(biāo)識基層的電子模板上；所述印制設(shè)備用于將點(diǎn)陣圖形的電子圖樣印制在標(biāo)識基層上的附著區(qū)域上。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本專利技術(shù)具有以下優(yōu)點(diǎn):由于光柵片層在不同的查看角度下會產(chǎn)生不同的查看效果，因此，將其覆蓋在點(diǎn)陣圖形上以后，基于同一個(gè)點(diǎn)陣圖形在不同的查看角度下也會呈現(xiàn)出若干個(gè)形狀，從而使點(diǎn)陣圖形的樣式更具有多變性；另外，由于同一個(gè)點(diǎn)陣圖形在多個(gè)角度下均形成有多種形狀的樣式，因此，與現(xiàn)有只能基于單一角度進(jìn)行識讀的點(diǎn)陣圖形相比，本專利技術(shù)的防偽標(biāo)識可以附著在產(chǎn)品的任意平面上，其適用范圍更廣。【附圖說明】圖1為本專利技術(shù)中第一實(shí)施例的俯視圖；圖2為圖1的分解圖；圖3為圖1的剖視圖；圖4為本專利技術(shù)中第二實(shí)施例的剖視圖；圖5為本專利技術(shù)中方法部分的流程圖；圖6為本專利技術(shù)中系統(tǒng)部分的結(jié)構(gòu)框圖。附圖標(biāo)記如下:1-光柵片層;2-透明粘膠層;3-點(diǎn)陣圖形;4-標(biāo)識基層【具體實(shí)施方式】如圖1至圖3所示，本專利技術(shù)包括標(biāo)識基層4、點(diǎn)陣圖形3、透明粘膠層2與光柵片層I。在標(biāo)識基層上劃分有點(diǎn)陣圖形的附著區(qū)域，在附著區(qū)域上還印制有與附著區(qū)域的面積相吻合的點(diǎn)陣圖形。其中，點(diǎn)陣圖形呈外凸?fàn)罱Y(jié)構(gòu)被印制在標(biāo)識基層上。其中，點(diǎn)陣圖形的大小可根據(jù)其所需精度被設(shè)定在17x17像素?67x67像素之間。點(diǎn)陣圖形由多個(gè)墨點(diǎn)按照編碼生成規(guī)則而排列生成，根據(jù)點(diǎn)陣圖形的所需精度，使墨點(diǎn)的大小在Ixl像素?3x3像素之間，相鄰兩個(gè)墨點(diǎn)之間的最小距離在2個(gè)像素?8個(gè)像素之間。另外，若附著區(qū)域的面積大于點(diǎn)陣圖形的面積，則可以將點(diǎn)陣圖形數(shù)量設(shè)定為多個(gè)，并將多個(gè)點(diǎn)陣圖形進(jìn)行排列以形成點(diǎn)陣圖形組。由于增加了點(diǎn)陣圖形的數(shù)量，因此，還提高了點(diǎn)陣圖形識讀器的識讀成功機(jī)率。如圖4所示，本專利技術(shù)的第二實(shí)施例與圖1至圖3中記載的第一實(shí)施例的區(qū)域在于，點(diǎn)陣圖形3呈內(nèi)凹狀結(jié)構(gòu)設(shè)置在標(biāo)識基層I上。其中，根據(jù)點(diǎn)陣圖形的樣式，在標(biāo)識基層的表面形成有與點(diǎn)陣圖形的樣式相同的凹槽組，通過在凹槽組中的每一個(gè)凹槽中注入油墨，以形成當(dāng)前第1頁1 2 3 本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種光柵點(diǎn)陣防偽標(biāo)識，包括標(biāo)識基層與印制其上的點(diǎn)陣圖形，其特征在于，在所述點(diǎn)陣圖形上還覆蓋有光柵片層。
【技術(shù)特征摘要】
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：姚為，萬宏宇，
申請(專利權(quán))人：立德高科北京數(shù)碼科技有限責(zé)任公司，
類型：發(fā)明
國別省市：北京;11
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