本發明專利技術描述了諸如光學膜和光學膜疊堆2000的制品。所述制品包括基底2070和設置在基底上的底漆層2075，其中所述底漆層包含聚丙烯酸酯和含氮聚合物。所述制品還包括設置在底漆層上的粘合劑層2060，其中所述粘合劑層包含聚丙烯酸酯組分。在一些實施例中，所述粘合劑還粘結到第二基底2010或剝離襯片。
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】【專利說明】包括具有含氮聚合物的聚丙稀酸醋底漆的制品和方法
技術介紹
W0 2012/138495描述了光學疊堆，其包括第一光學膜，所述第一光學膜包括設置 在第一表面上的多個結構，使得所述結構的一部分穿入所述粘合劑層并且在所述粘合劑層 和所述第一表面之間提供分隔，所述結構包括主要被設計成用于提供光學增益的光學活性 部W及可任選地光學上非活性的粘結部，所述第一表面粘結到具有透光性粘合劑層的第二 光學膜。所述光學疊堆表現出高剝離強度和高保持亮度的組合，特別是在老化后。 粘合劑層優選地包含聚丙締酸醋組分與可聚合單體的反應產物即互穿網絡，并且 所述粘合劑層在25°C下具有在100M化至2000M化范圍內的彈性模量。
技術實現思路
雖然包含聚丙締酸醋組分與可聚合單體的反應產物的互穿網絡的粘合劑層能夠 為許多光學膜提供高剝離強度，但已經發現當試圖去將一種(例如棱柱或柱)結構粘結到微 結構化(例如漫射體)層時，剝離強度可大幅降低。但是，已經發現通過在微結構化(例如漫 射體)層上提供一定的底漆層可W獲得高剝離強度。 在一個實施例中，描述了一種光學膜疊堆，其包括第一光學膜，所述第一光學膜連 接至具有固化的粘合劑層的第二光學膜的微結構化表面層。所述固化的粘合劑層包含聚丙 締酸醋組分與可聚合單體的互穿網絡。第二光學膜還包括設置在固化的粘合劑層和第二基 底的微結構化表面之間的底漆層。所述底漆層包含聚丙締酸醋組分和含氮聚合物。 在一個優選的實施例中，所述第一光學膜包括設置在第一表面上的多個結構，使 得所述結構的一部分穿入所述粘合劑層并且在所述粘合劑層和所述第一表面之間提供分 隔，所述結構包括主要被設計成用于提供光學增益的光學活性部，所述第一表面粘結到第 二光學膜的微結構化表面層，所述第二光學膜具有固化的粘合劑層。 推測運種底漆層有益于粘結其他基底。因此，在另一個實施例中，描述了 一種制 品，其包括基底和設置在基底上的底漆層，其中所述底漆層包含聚丙締酸醋和含氮聚合物。 所述制品還包含設置到底漆層上的粘合劑組合物，其中所述粘合劑組合物包含聚丙締酸醋 組分。在一些實施例中，所述粘合劑還粘結到(例如，第二)第二基底或剝離襯片。所述(例如 第二)基底還可W包括微結構化表面層，其中所述底漆層設置在所述固化的粘合劑層和所 述微結構化表面之間。 還描述了制備制品的方法。在一個實施例中，描述了制備基底的方法，所述方法包 括用底漆層涂布基底，所述底漆層包含聚丙締酸醋和含氮聚合物；W及將粘合劑層設置到 所述底漆層上，其中所述粘合劑組合物包含聚丙締酸醋組分。【附圖說明】[000引圖1為第一基底、底漆層、粘合劑層和第二基底的剖視圖； 圖2為包括微結構化表面層的第一基底、底漆層、粘合劑層和第二基底的剖視圖； 圖3為光定向膜的示意性側視圖；圖4為部分穿入光學層的整體分立結構的示意性側視圖；[001^ 圖54和5B為光定向膜的示意性Ξ維視圖； 圖6為光定向膜的示意性側視圖； 圖7A和7B為光學疊堆的示意性側視圖； 圖8為光定向膜的示意性側視圖； 圖9為光學疊堆的示意性側視圖；圖10是顯示系統的示意性側視圖； 圖11為另一個光學疊堆的示意性側視圖； 圖12為適用于測量光學增益的光學系統的示意性側視圖； 圖13為另一個光學疊堆的示意性側視圖。 優選實施例的【具體實施方式】 參見圖1，本專利技術整體設及一種制品200,其包括基底220,設置在基底上的底漆層 225, W及設置在底漆層上的粘合劑層250。所述粘合劑層通常還粘結到（例如，第二)基底 221或剝離襯片(未示出），所述剝離襯片可設置在粘合劑層250上而不是設置在基底221上。 參見圖2,在一個優選的實施例中，基底220還包括微結構化(例如漫射體)層222。 底漆層225設置在微結構化(例如漫射體)層上，并且粘合劑層250設置在底漆層上。所述粘 合劑層通常還粘結到(例如，第二)基底221或剝離襯片(未示出），所述剝離襯片可設置在粘 合劑層250上而不是設置在基底221上。基底221可W是與基底220相同的基底或不同的基 底。 在一些實施例中，所述第二基底包括所述微結構化(例如漫射體)層222。該命名規 則被選擇為與W0 2012/138495中所使用的命名規則一致。但是，在其他實施例中，包括底漆 的基底是"第一基底"。在該實施例中，包含在第一基底或第二基底上的微結構化(例如漫射 體)層是可選的。 對于包括在第一或第二基底上的微結構化(例如漫射體)層的實施例，基底220和/ 或221的表面可被粗糖化或紋理化W提供微結構化(例如漫射體)層(例如222)。運可W通過 本領域已知的多種方式實現，包括使用已經通過噴砂處理或W其他方式粗糖化的合適工具 將所述下層進行壓印。微結構化(例如漫射體)層222也可W通過將涂料組合物施用到基底220和/或221 來制備，所述涂料組合物包括適當大小的顆粒，如石英砂，玻璃珠，或聚合物珠。所述平均粒 度通常在約1至10微米的范圍內。運種粒子的濃度可W在所述微結構化(例如，漫射體)層 222的至少2重量％至約10重量％或^上的范圍內。當其濃度小于2重量％ (例如，1.8重 量％、1.6重量％、1.4重量％、1.2重量％、1.0重量％、0.8重量％、0.6重量％ )時，該濃度通 常不足W使光澤減少到期望的程度(運還促使增加霧度）。在另一個實施例中，微結構化(例如漫射體)層(例如222)-般可W由工具使用微 復制通過誘鑄和固化與工具表面接觸的可聚合樹脂組合物而制造，如美國專利5,175,030 (Lu等人)和5，183,597(Lu)中所述。工具可使用任何可用的制造方法，如通過使用雕刻或金 剛石車削來制造。示例性金剛石車削系統和方法可包括和利用快速刀具伺服機構(FTS)，其 描述于W02010/141354中；將該文獻W引用方式并入本文。另選地，所述工具可W通過電沉 積來制造。在一個實施例中，所述工具通過下述方法制備:利用第一電鍛工藝使金屬電沉積 形成金屬的第一層，w產生具有第一平均粗糖度的第一層的第一主表面;并且通過利用第 二電鍛工藝使金屬電沉積在所述第一主表面上形成金屬的第二層，W產生第二層的第二主 表面，所述第二層的第二主表面具有比第一平均粗糖度小的第二平均粗糖度;如在2012年 11月21日提交的申請序列號61/728,868中所描述;將該文獻W引用方式并入本文。 當微結構化(例如漫射體)層由工具使用微復制通過誘鑄和固化與工具表面接觸 的可聚合樹脂組合物而制造時，所述微結構化表面層包括多個峰并且大多數（即至少50%) 和通常基本上所有的峰沒有(如嵌入式)磨砂粒子。 基底(220和/或221)將部分基于預期用途所需的(例如，光學和機械)性能來選擇。 運類機械性能通常將包括柔初性、尺寸穩定性和抗沖擊性。對于大多數的應用，基底厚度為 至少0.02毫米，并且不超過小于約0.5毫米或0.2毫米。可任選地對基底進行處理W改善粘 合性，例如化學處理，電暈處理如空氣或氮氣電暈，等離子，火焰，或光化福射。但是，在一些 實施例中，所述基底不經過運類處理W提高粘合性。 在優選的實施例中，所述基底為光學膜。在一些實施例中，所述"光學膜"為在顯示 器的光路中的透光膜，與不存在光學膜的情況下觀察顯示本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種光學膜疊堆，所述光學膜疊堆包括：粘結到第二光學膜的微結構化表面層的第一光學膜，所述第二光學膜具有固化的粘合劑層，所述固化的粘合劑層包含聚丙烯酸酯與可聚合單體的反應產物的互穿網絡；其中所述第二光學膜還包含設置在所述固化的粘合劑層和第二基底的所述微結構化表面層之間的底漆層，并且所述底漆層包含聚丙烯酸酯和含氮聚合物。
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...
【專利技術屬性】
技術研發人員：威廉·F·埃德蒙茲，杰森·S·佩泰耶，杰佛瑞·L·所羅門，
申請(專利權)人：三M創新有限公司，
類型：發明
國別省市：美國;US
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。