一種x射線平場譜儀制造技術

本實用新型專利技術涉及一種x射線平場譜儀，包括：殼體、入射狹縫、收光場、鋁板、光柵和記錄單元。殼體用于屏蔽高能射線輻射，由鑄鐵制成；入射狹縫設置在殼體頂端；收光場設置在殼體內，入射狹縫后；鋁板沿光線傳輸方向設置在收光場后，用于過濾低能光線；光柵沿光線傳輸方向設置在鋁板后，對入射光線進行衍射；記錄單元設置在殼體的尾端。本實用新型專利技術給出的x射線平場譜儀，精簡不重要的調節機構，整體設計緊湊、簡單易用，能夠應用于不同的等離子體環境測量。

【技術實現步驟摘要】
201620139968

【技術保護點】
一種x射線平場譜儀，其特征在于，包括：殼體，用于屏蔽高能射線輻射，由鑄鐵制成；入射狹縫，設置在所述殼體頂端；收光場，設置在所述殼體內，所述入射狹縫后；鋁板，沿光線傳輸方向設置在所述收光場后，用于過濾低能光線；光柵，沿光線傳輸方向設置在所述鋁板后，用于入射x射線掠入射而后進行衍射；記錄單元，設置在所述殼體的尾端，用于收集記錄。

【技術特征摘要】
1.一種x射線平場譜儀，其特征在于，包括：
殼體，用于屏蔽高能射線輻射，由鑄鐵制成；
入射狹縫，設置在所述殼體頂端；
收光場，設置在所述殼體內，所述入射狹縫后；
鋁板，沿光線傳輸方向設置在所述收光場后，用于過濾低能光線；
光柵，沿光線傳輸方向設置在所述鋁板后，用于入射x射線掠入射而
后進行衍射；
記錄單元，設置在所述殼體的尾端，用于收集記錄。
2.根據權利要求1所述的x射線平場譜儀，其特征在于，所...

【專利技術屬性】
技術研發人員：柳秋盈，
申請(專利權)人：北京佳諾貝科技有限責任公司，
類型：新型
國別省市：北京;11