導電結構體及其制備方法技術

本申請涉及一種導電結構體以及其制備方法。根據本發明專利技術的一個實施方式的導電結構體包括：透明導電層；設置于所述透明導電層上且包含鋁的金屬層；以及設置于所述金屬層上的氧氮化鋁層。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本申請要求享有于2014年5月12日向韓國知識產權局提交的韓國專利申請第10-2014-0056765號的優先權，其全部內容以引用的方式并入本文中。本申請涉及一種導電結構體以及制造該導電結構體的方法。
技術介紹
一般而言，根據信號檢測方法，觸屏面板被分為如下幾類。即，觸屏面板被分為在施加直流電壓的狀態下通過電流或電壓值的變化檢測壓力按壓位置的電阻型；在施加交流電壓的狀態下利用電容耦合的電容型；以及在施加磁場的狀態下隨電壓變化檢測所選位置的電磁型。通常，在觸摸面板的屏幕部分中，采用透明電極并采用金屬(如銀)作為線電極。近來，隨著對所述觸摸面板的屏幕的大型化的需求的增長，當所述觸摸面板的尺寸相同時，相對減小了邊框的寬度以增大所述屏幕。因此，已需要開發出適于窄寬度的邊框尺寸的屏幕部分電極和線電極。[現有技術]韓國專利公報第10-2011-0054369號。
技術實現思路
[技術問題]為解決相關領域中的前述問題，本申請旨在提供一種導電結構體，其在化學和物理上穩定，并具有優異的電導率且可被實現為具有微小的線寬。[技術方案]本申請的一個示例性實施方式提供了一種導電結構體，其包括：透明導電層；設置于所述透明導電層上且包含鋁的金屬層；以及設置于所述金屬層上的氧氮化鋁層。此外，本申請的另一個示例性實施方式提供了一種制造所述導電結構體的方法，其包括：制備透明導電層；在所述透明導電層上形成包含鋁的金屬層；以及在所述金屬層上形成氧氮化鋁層。此外，本申請的再一個示例性實施方式提供了一種包括所述導電結構體的顯示裝置。[有益效果]根據本申請的示例性實施方式的導電結構體包括在包含鋁的金屬層上的氧氮化鋁層以具有高的耐鹽水性。根據本申請的示例性實施方式的導電結構體具有的優勢在于其是化學和物理穩定的，同時具有優異的電導率。根據本申請的示例性實施方式的導電結構體具有的優勢在于，在被應用于電子裝置(如顯示裝置)的情況下，使所述導電結構體的電導率根據工藝環境的降低最小化。根據本申請的示例性實施方式的導電結構體具有的優勢在于，通過實現微小的線寬而被應用至顯示裝置的邊框區域的導線部分，以減小所述邊框區域。附圖說明圖1A和1B為示意性圖示了根據本申請的一個示例性實施方式的導電結構體的層疊結構的圖。圖2為作為本申請的一個示例性實施方式圖示了實施例1的噴灑鹽水(NaCl)之前和之后的照片的圖。圖3為作為本申請的一個示例性實施方式圖示了對比實施例1的噴灑鹽水(NaCl)之前和之后的照片的圖。圖4為作為本申請的一個示例性實施方式圖示了對比實施例2的噴灑鹽水(NaCl)之前和之后的照片的圖。圖5為作為本申請的一個示例性實施方式圖示了對比實施例3的噴灑鹽水(NaCl)之前和之后的照片的圖。圖6為作為本申請的一個示例性實施方式圖示了對比實施例4的噴灑鹽水(NaCl)之前和之后的照片的圖。圖7為作為本申請的一個示例性實施方式圖示了對比實施例5的噴灑鹽水(NaCl)之前和之后的照片的圖。具體實施方式在本申請文件中，應當被理解的是，當一個部件被稱為位于另一個部件“之上”時，其可直接位于所述另一個部件之上，或者在它們之間還可存在其它的部件。在本申請文件中，除非有明確的相反敘述，否則詞語“包括”及其變體，如“包含”或“含有”將會被理解為暗指包括聲稱的元件，但并不排除任何其它的元件。下文中，將更加詳細地描述本申請。在本申請文件中，顯示裝置是對TV、電腦顯示器等的統稱，包括形成圖像的顯示部件以及支撐所述顯示部件的外殼。所述顯示部件的實例可包括等離子體顯示面板(PDP)、液晶顯示器(LCD)、電泳顯示器、陰極射線管(CRT)、OLED顯示器等。所述顯示部件可包括用于實現圖像的RGB像素圖案和額外的濾光器。與此同時，對于顯示裝置，隨著智能手機、平板PC、IPTV等的普及的加速，對于人手直接變成輸入設備而無需單獨的輸入設備(如鍵盤或遙控器)的觸控功能的需求也在逐步地增長。此外，除了特定點位的觸控功能之外，還需要可書寫的多點觸控功能。目前，大部分的市售可用的觸屏面板(TSP)建立在透明導電ITO薄膜的基礎上，但存在的問題是，當采用具有大面積的觸屏面板時，由于ITO透明電極的相對高的表面電阻(最小150Ω/□，NittoDenko有限公司制造的ELECRYSTA產品)導致的RC延遲，降低了觸摸識別速度，而且，需要引入額外的補償芯片以克服該降低。此外，目前，當制造觸屏面板時，經常采用ITO透明電極。通常，在觸屏面板的屏幕部分的情況下，采用了ITO透明電極，而在導線部分的情況下，采用了具有相對小的電阻的金屬，如Ag和Cu。然而，近來，在對窄邊框的需求增加的同時，對在ITO上的金屬沉積膜的需求也已增加。所述窄邊框與能在移動設備的有限尺寸中增大觸屏的趨勢有關，而隨著根據屏幕的高分辨趨勢增加通道數目，金屬導線的寬度逐漸在減小。在現有方法中，已通過絲網印刷Ag漿料采用了具有100μm/100μm(線寬/線間距)的導線，但為了根據所述窄邊框的需求而實現具有30μm/30μm(線寬/線間距)的導線，則需要應用曝光蝕刻法。在此情況下，通過在ITO膜上沉積導線金屬，將干膜抗蝕劑(DFR)層疊在沉積的導線金屬上，然后曝光和蝕刻圖案實現了微小的線寬。作為用于沉積的金屬，經常采用具有優異的導電性的Ag、Cu、Al等，但特別地，由于Cu對氧化和腐蝕敏感，故Cu通過層疊充當氧化和腐蝕防護層的Ni合金(Cu-Ni、Ni-Cr等)而具有含兩層或更多層的結構。在這點上，需要針對觸屏面板的抗高溫高濕以及鹽水噴灑的高可靠性，且由于大部分的金屬具有弱的耐鹽水性，故重要的是改善所述耐鹽水性。此外，作為現有產品中使用的電極的主要材料，采用了基于Ag的材料、基于Cu的材料等。不過，在所述基于Ag的材料的情況下，為了克服與ITO的弱粘附，采用了Mo晶種層，而在所述基于Cu的材料的情況下，為了改善弱的耐腐蝕性，采用了Ni合金。然而，這些材料對耐鹽水性基本上具有極其弱的特性。因此，本申請意欲采用對氧化和鹽水噴灑相對耐受的基于Al的材料來實現電極結構，且改善針對高溫高濕的耐久性和耐鹽水性。本申請的一個示例性實施方式的導電結構體包括：透明導電層；設置于所述透明導電層上且包含鋁的金屬層；以及設置于所述金屬層上的氧氮化鋁層。圖本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種導電結構體，包括：透明導電層；設置于所述透明導電層上且包含鋁的金屬層；以及設置于所述金屬層上的氧氮化鋁層。

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2014.05.12 KR 10-2014-00567651.一種導電結構體，包括：
透明導電層；
設置于所述透明導電層上且包含鋁的金屬層；以及
設置于所述金屬層上的氧氮化鋁層。
2.權利要求1所述的導電結構體，其中，所述氧氮化鋁層包含由AlOxNy
表示的氧氮化鋁，x為大于0且為1.5以下，以及y為0.1以上且為1以下，x
為氧氮化鋁中氧原子的含量比，以及y為氧氮化鋁中氮原子的含量比。
3.權利要求1所述的導電結構體，其中，所述氧氮化鋁層的厚度為10nm
以上且為100nm以下。
4.權利要求1所述的導電結構體，其中，在85℃和85％的相對濕度的高
溫高濕環境下210小時之后，所述導電結構體的表面電阻的增長率為1％以下。
5.權利要求1所述的導電結構體，其中，所述透明導電層包括選自氧化
銦、氧化鋅、氧化銦錫、氧化銦鋅和透明導電聚合物中的一種或多種。
6.權利要求1所述的導電結構體，其中，所述透明導電層的厚度為15nm
以上且為20nm以下。
7.權利要求1所述的導電結構體，其中，所述金屬層的厚度為0.01μm
以上且為30μm以下。
8.權利要求1所述...

【專利技術屬性】
技術研發人員：林振炯，章盛皓，金起煥，金容贊，尹晶煥，樸贊亨，李一何，
申請(專利權)人：LG化學株式會社，
類型：發明
國別省市：韓國;KR