本實用新型專利技術提供了一種用于光刻涂膠工藝手動定位晶圓的輔助工具及其相應的安裝結(jié)構(gòu),省去了在涂膠工藝過程中手動對準需要反復對準調(diào)整和確認的過程。該輔助工具具有彎折結(jié)構(gòu);所述彎折結(jié)構(gòu)主要由一個基礎立面、一個基礎臺面和一個豎直的限位弧面依次彎折構(gòu)成,其中,自基礎立面至豎直的限位弧面的整體水平投影形狀為扇環(huán)形,豎直的限位弧面到扇環(huán)中心的水平距離與所述晶圓的半徑相等;所述基礎立面和基礎臺面的形狀和尺寸滿足分別同時與載片臺支撐部和載片臺下表面貼合,同時限位弧面對晶圓邊緣適配接觸。
【技術實現(xiàn)步驟摘要】
本技術涉及一種晶圓定位裝置。
技術介紹
光刻涂膠工藝是將晶圓放置在光刻涂膠機的載片臺上,液態(tài)光刻膠滴在晶圓中心,載片臺帶動晶圓高速旋轉(zhuǎn),光刻膠依靠離心力向外擴展,均勻涂布在晶圓表面的工藝。晶圓中心和載片臺中心必須高度重合,以確保晶圓表面的光刻膠厚度均勻一致,沒有暈圈慧尾等現(xiàn)象,從而保證圖形能夠精確轉(zhuǎn)移。目前,在作業(yè)6寸及6寸以上直徑的晶圓時,光刻涂膠機均設計為全自動涂膠,主要通過坐標或紅外檢測等技術手段,由機械手臂完成晶圓中心和載片臺中心的對準,在作業(yè)2寸、3寸、4寸直徑晶圓時,出于成本考慮,光刻涂膠機均設計為手動操作,晶圓中心和載片臺中心需要手動對準。生產(chǎn)過程中在采用手動對準晶圓中心和載片臺中心時,很難保證兩個中心的完全重合,從而影響了所涂覆的光刻膠厚度的均勻性,工藝穩(wěn)定性無法保證,并且手動對準過程需要反復調(diào)整晶圓位置,確認是否對準,耗時較久,工作效率較低。
技術實現(xiàn)思路
本技術設計了一個定位輔助工具,省去了在涂膠工藝過程中手動對準需要反復對準調(diào)整和確認的過程。本技術的技術方案如下:一種用于光刻涂膠工藝手動定位晶圓的輔助工具,該輔助工具具有彎折結(jié)構(gòu);所述彎折結(jié)構(gòu)主要由一個基礎立面、一個基礎臺面和一個豎直的限位弧面依次彎折構(gòu)成,其中,自基礎立面至豎直的限位弧面的整體水平投影形狀為扇環(huán)形,豎直的限位弧面到扇環(huán)中心的水平距離與所述晶圓的半徑相等;所述基礎立面和基礎臺面的形狀和尺寸滿足分別同時與載片臺支撐部和載片臺下表面貼合,同時限位弧面對晶圓邊緣適配接觸。這里的“立面”和“臺面”并不絕對限于平直的面;例如,載片臺的承托平臺下表面如果為特制的不平整的面,則本技術相應的“臺面”就應當設計為與其凹凸配合的面以滿足兩者相貼合。在以上方案的基礎上,本技術還進一步作了如下重要優(yōu)化:該輔助工具的主體結(jié)構(gòu)為兩級扇環(huán)形的臺階,其中基礎臺階的立面和臺面以及次級臺階的立面的形狀和尺寸滿足分別同時與載片臺支撐部和載片臺下表面以及載片臺側(cè)邊貼合,且次級臺階的臺面不超出載片臺的工作面;所述豎直的限位弧面設置于次級臺階的臺面外邊緣。這里的次級臺階也可以省略,直接將基礎臺階的立面與載片臺托盤支撐裝置緊貼,豎直的限位弧面到基礎臺階立面的水平距離為晶圓半徑與托盤支撐半徑之差。次級臺階的臺面低于載片臺的工作面1~2mm。基于所述豎直的限位弧面還形成第三級臺階,并在第三級臺階的臺面外邊緣設置有突起,以便于手動拿取操作。相應的晶圓定位安裝結(jié)構(gòu)(定位過程中的安裝配合),包括載片臺、晶圓以及上述輔助工具,該輔助工具緊貼載片臺支撐部和載片臺下表面,輔助工具中的限位弧面與載片臺同心,限位弧面到載片臺中心的水平距離與所述晶圓半徑相等,使得限位弧面對晶圓邊緣適配接觸。一種采用上述輔助工具實現(xiàn)光刻涂膠工藝手動定位晶圓的方法,包括以下步驟:1)將所述輔助工具緊貼載片臺的外輪廓相應部位;2)將晶圓放置在載片臺上,使所述輔助工具的限位弧面完全接觸晶圓邊緣;3)選擇程序?qū)⒕A真空吸附在載片臺上表面,撤去所述輔助工具;4)選擇程序讓載片臺自動旋轉(zhuǎn),觀察晶圓在旋轉(zhuǎn)過程中,是否存在晶圓中心和載片臺中心未對準的現(xiàn)象;5)確認晶圓中心和載片臺中心對準正常后,停止載片臺的旋轉(zhuǎn),開始光刻膠滴膠在晶圓表面的工藝過程。本技術的技術效果如下:根據(jù)載片臺和晶圓尺寸設計該輔助工具,只需一次對準一次確認,即可完成晶圓中心和載片臺中心的對準,保證了光刻膠良好的均勻性,圖形尺寸被精確轉(zhuǎn)移,提高了成品率。該輔助工具制作簡單,使用方便,不需要更改設備設計,既保證了光刻涂膠工藝的穩(wěn)定性,又縮短了手動對準反復調(diào)整和確認的耗時過程,提高了生產(chǎn)效率。附圖說明圖1為載片臺的基本結(jié)構(gòu)示意圖。圖2、圖3為本技術的第一實施例;其中,圖3是圖2中沿A~B方向的剖面;圖4為晶圓安裝定位過程的示意圖。圖5、圖6為本技術的第二實施例;其中,圖6是圖5中沿A~B方向的剖面。附圖標記說明:11-載片臺支撐部;12-載片臺下表面;13-載片臺上表面;14-載片臺側(cè)邊;尺寸1為載片臺支撐部的直徑;尺寸2為載片臺承載部的直徑減去支撐部直徑的尺寸;尺寸3為載片臺承載部的厚度;尺寸4為晶圓的半徑;尺寸5為尺寸3減去1~2mm的厚度,用于保證晶圓對準時,定位輔助工具不會碰觸晶圓背面導致晶圓傾斜(實施例一);尺寸6為對準面高度,該尺寸要大于尺寸3,確保對準時,晶圓邊緣能夠與該豎直的限位弧面適配接觸(實施例二)。具體實施方式實施例一:如圖2、3所示,定位輔助工具的主體結(jié)構(gòu)為兩級扇環(huán)形的臺階,其中基礎臺階的立面和臺面以及次級臺階的立面的形狀和尺寸滿足分別同時與載片臺支撐部和載片臺下表面以及載片臺側(cè)邊貼合,且次級臺階的臺面不超出載片臺的工作面;次級臺階的臺面外邊緣設置豎直的限位弧面,在限位弧面頂部還形成第三級臺階,并在第三級臺階的臺面外邊緣設置有突起,以便于手動拿取操作。具體定位操作步驟如下:1.先將定位輔助工具和載片臺貼合:將基礎臺階的立面和臺面以及次級臺階的立面與載片臺的外輪廓依次貼合,次級臺階的臺面低于載片臺的工作面;2.將晶圓放置在載片臺上,同時晶圓邊緣緊貼定位輔助工具的限位弧面;3.選擇程序?qū)⒕A真空吸附在載片臺表面,撤去定位輔助工具;4.選擇程序讓載片臺自動旋轉(zhuǎn),觀察晶圓在旋轉(zhuǎn)過程中,是否存在晶圓中心和載片臺中心未對準的現(xiàn)象;5.確認晶圓中心和載片臺中心對準正常后,停止載片臺的旋轉(zhuǎn),開始光刻膠滴膠在晶圓表面的工藝過程。實施例二:如圖5、圖6所示,該實施例相比于實施例一主要省去了第二級臺階,僅考慮定位輔助工具與載片臺支撐部和載片臺下表面貼合,不考慮與載片臺側(cè)邊貼合。具體定位操作步驟如下:1.先將定位輔助工具和載片臺貼合:將基礎臺階的立面和臺面與載片臺的外輪廓依次貼合;2.將晶圓放置在載片臺上,同時晶圓邊緣緊貼定位輔助工具的限位弧面;3.選擇程序?qū)⒕A真空吸附在載片臺表面,撤去定位輔助工具;4.選擇程序讓載片臺自動旋轉(zhuǎn),觀察晶圓在旋轉(zhuǎn)過程中,是否存在晶圓中心和載片臺中心未對準的現(xiàn)象;5.確認晶圓中心和載片臺中心對準正常后,停止載片臺的旋轉(zhuǎn),開始光刻膠滴膠在晶圓表面的工藝過程。本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術保護點】
一種用于光刻涂膠工藝手動定位晶圓的輔助工具,其特征在于:該輔助工具具有彎折結(jié)構(gòu);所述彎折結(jié)構(gòu)主要由一個基礎立面、一個基礎臺面和一個豎直的限位弧面依次彎折構(gòu)成,其中,自基礎立面至豎直的限位弧面的整體水平投影形狀為扇環(huán)形,豎直的限位弧面到扇環(huán)中心的水平距離與所述晶圓的半徑相等;所述基礎立面和基礎臺面的形狀和尺寸滿足分別同時與載片臺支撐部和載片臺下表面貼合,同時限位弧面對晶圓邊緣適配接觸。
【技術特征摘要】
1.一種用于光刻涂膠工藝手動定位晶圓的輔助工具,其特征在于:該輔助工具具有彎折結(jié)構(gòu);所述彎折結(jié)構(gòu)主要由一個基礎立面、一個基礎臺面和一個豎直的限位弧面依次彎折構(gòu)成,其中,自基礎立面至豎直的限位弧面的整體水平投影形狀為扇環(huán)形,豎直的限位弧面到扇環(huán)中心的水平距離與所述晶圓的半徑相等;所述基礎立面和基礎臺面的形狀和尺寸滿足分別同時與載片臺支撐部和載片臺下表面貼合,同時限位弧面對晶圓邊緣適配接觸。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于光刻涂膠工藝手動定位晶圓的輔助工具,其特征在于:該輔助工具的主體結(jié)構(gòu)為兩級扇環(huán)形的臺階,其中基礎臺階的立面和臺面以及次級臺階的立面的形狀和尺寸滿足分別同時與載片臺支撐部和載片臺下表面以及載片臺側(cè)邊貼合,且次級臺階...
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員:孫丞,吳建耀,楊國文,馬萬水,
申請(專利權(quán))人:西安立芯光電科技有限公司,
類型:新型
國別省市:陜西;61
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