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    發(fā)光顯示裝置和制造該發(fā)光顯示裝置的方法制造方法及圖紙

    技術(shù)編號(hào):13622260 閱讀:101 留言:0更新日期:2016-09-01 10:42
    公開了一種發(fā)光顯示裝置和制造該發(fā)光顯示裝置的方法。該發(fā)光顯示裝置包括具有多個(gè)像素的襯底、第一電極、位于襯底上并具有暴露第一電極的開口的像素定義層、在像素定義層的開口中從第一電極沿著像素定義層的側(cè)表面延伸的發(fā)光層、第二電極以及泄漏電流阻擋層,其中發(fā)光層包括位于第一電極上的第一部分和位于像素定義層的側(cè)表面上的第二部分,該第二部分具有在從像素定義層的側(cè)表面朝向像素定義層的上表面的方向上減小的厚度,泄漏電流阻擋層在第一電極與發(fā)光層之間或者在發(fā)光層與第二電極之間在像素定義層的側(cè)表面上具有均勻的厚度。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
    相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用本申請(qǐng)要求于2015年2月25日提交至韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局的第10-2015-0026583號(hào)韓國(guó)專利申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)和權(quán)益,該韓國(guó)專利申請(qǐng)的公開內(nèi)容通過引用整體并入本文。
    本專利技術(shù)涉及發(fā)光顯示裝置以及制造該發(fā)光顯示裝置的方法。
    技術(shù)介紹
    在發(fā)光顯示裝置中,有機(jī)發(fā)光顯示裝置為具有寬視角、高對(duì)比度以及高響應(yīng)速度的特征的自發(fā)光顯示裝置,因此已經(jīng)被認(rèn)為是下一代顯示裝置。有機(jī)發(fā)光顯示裝置具有由設(shè)置在陽(yáng)極電極和陰極電極之間的有機(jī)發(fā)光材料制成的有機(jī)發(fā)光層。當(dāng)分別將陽(yáng)極電壓和陰極電壓施加于這些電極時(shí),從陽(yáng)極電極注入的空穴通過空穴注入層和空穴傳輸層移動(dòng)到有機(jī)發(fā)光層,并且電子通過電子注入層和電子傳輸層移動(dòng)到有機(jī)發(fā)光層。電子和空穴在有機(jī)發(fā)光層中重新結(jié)合,并且通過該重新結(jié)合生成激子。隨著生成的激子從激發(fā)態(tài)返回基態(tài),有機(jī)發(fā)光層發(fā)射光以顯示圖像。
    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
    有機(jī)發(fā)光顯示裝置包括具有用于暴露形成為用于每個(gè)像素的陽(yáng)極電極的開口的像素定義層、以及形成在通過像素定義層的開口暴露的陽(yáng)極電極上的空穴注入層、空穴傳輸層、有機(jī)發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層以及陰極電極。具體地,有機(jī)發(fā)光層可通過使用噴墨印刷法、噴嘴印刷法等將包括發(fā)光材料的發(fā)光溶液排放至像素定義層的開
    口中而形成。另一方面,當(dāng)通過(使用例如噴墨印刷法或噴嘴印刷法)將發(fā)光溶液排放至像素定義層的開口中而形成發(fā)光層時(shí),為了防止或者大體上防止發(fā)光溶液離開像素定義層的開口,像素定義層形成為具有疏液屬性。然而,即使當(dāng)像素定義層具有疏液屬性時(shí),發(fā)光溶液也具有對(duì)于像素定義層的小的潤(rùn)濕性。因此,通過將發(fā)光溶液排放至像素定義層的開口中而形成的發(fā)光層可具有從陽(yáng)極電極朝向像素定義層的側(cè)表面減小的厚度。在這種情況下,在發(fā)光層的厚度減小的部分中可在陽(yáng)極電極與陰極電極之間出現(xiàn)泄漏電流。因此,可減小發(fā)光層的發(fā)光效率并且發(fā)光顯示裝置的顯示質(zhì)量可能退化。因此,本專利技術(shù)的一方面是提供一種發(fā)光顯示裝置,該發(fā)光顯示裝置可通過減小在陽(yáng)極電極與陰極電極之間出現(xiàn)的泄漏電流來降低發(fā)光層的發(fā)光效率的退化,從而降低顯示質(zhì)量的退化。本專利技術(shù)的另一方面是提供一種制造發(fā)光顯示裝置的方法,該方法可通過減小在陽(yáng)極電極與陰極電極之間出現(xiàn)的泄漏電流來降低發(fā)光層的發(fā)光效率的退化,從而降低顯示質(zhì)量的退化。本專利技術(shù)的另外的方面和特征將在下面的描述中部分地闡述,通過查看下文之后該描述對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員而言將部分地變得清楚或者可從本專利技術(shù)的實(shí)踐獲知。根據(jù)本專利技術(shù)的一個(gè)實(shí)施方式,提供了一種發(fā)光顯示裝置,該發(fā)光顯示裝置包括:襯底,包括布置在第一方向和與第一方向相交的第二方向上的多個(gè)像素;第一電極,用于襯底上的多個(gè)像素中的每個(gè);像素定義層,位于襯底上并具有暴露第一電極的開口;發(fā)光層,在像素定義層的開口中從第一電極沿著像素定義層的側(cè)表面延伸,并包括位于第一電極上的第一部分和位于像素定義層的側(cè)表面上的第二部分,該第二部分具有在從像素定義層的側(cè)表面朝向像素定義層的上表面的方向上減小的厚度;第二電極,位于發(fā)光層上;以及泄漏電流阻擋層,在第一電極與發(fā)光層之間或者在發(fā)光層與第二電極之間在像素定義層的側(cè)表面上具有均勻的厚度。在實(shí)施方式中,泄漏電流阻擋層具有比發(fā)光層的電阻高的電阻。在實(shí)施方式中,泄漏電流阻擋層包括有機(jī)絕緣材料或無(wú)機(jī)絕緣材料。在實(shí)施方式中,泄漏電流阻擋層在多個(gè)像素中的相鄰像素之間具有連續(xù)形式。在實(shí)施方式中,泄漏電流阻擋層具有相交的第一阻擋部分和第二阻擋部分,第一阻擋部分沿著第二方向延伸并且在像素定義層的沿著第一方向隔開的開口之間延伸,以及第二阻擋部分沿著第一方向延伸并且在像素定義層的沿著第二方向隔開的開口之間延伸。在實(shí)施方式中,發(fā)光顯示裝置還包括在像素定義層的開口中位于第一電極與發(fā)光層之間的空穴注入層,空穴注入層具有從第一電極朝向像素定義層的側(cè)表面減小的厚度,其中泄漏電流阻擋層位于空穴注入層與發(fā)光層之間。在實(shí)施方式中,發(fā)光顯示裝置還包括在像素定義層的開口中位于第一電極與發(fā)光層之間的空穴注入層以及在像素定義層的開口中位于空穴注入層與發(fā)光層之間的空穴傳輸層,其中空穴注入層具有從第一電極朝向像素定義層的側(cè)表面減小的厚度,空穴傳輸層具有從第一電極朝向像素定義層的側(cè)表面減小的厚度,其中泄漏電流阻擋層位于空穴傳輸層與發(fā)光層之間。在實(shí)施方式中,發(fā)光顯示裝置還包括位于發(fā)光層與第二電極之間的電子傳輸層,其中泄漏電流阻擋層位于發(fā)光層與電子傳輸層之間。根據(jù)本專利技術(shù)的一個(gè)實(shí)施方式,提供了一種發(fā)光顯示裝置,該發(fā)光顯示裝置包括:襯底,包括布置在第一方向和與第一方向相交的第二方向上的多個(gè)像素;第一電極,用于襯底上的多個(gè)像素中的每個(gè);像素定義層,位于襯底上并具有暴露第一電極的開口;發(fā)光層,在像素定義層的開口中從第一電極沿著像素定義層的側(cè)表面延伸;第二電極,位于發(fā)光層上;以及泄漏電流阻擋層,在第一電極與發(fā)光層之間或者在發(fā)光層與第二電極之間從像素定義層的側(cè)表面延伸到像素定義層的上表面,并在相鄰像素之間具有連續(xù)形式。在實(shí)施方式中,泄漏電流阻擋層具有比發(fā)光層的電阻高的電阻。在實(shí)施方式中,泄漏電流阻擋層由有機(jī)絕緣材料或無(wú)機(jī)絕緣材料形成。在實(shí)施方式中,泄漏電流阻擋層具有相交的第一阻擋部分和第二阻擋部分,第一阻擋部分沿著第二方向延伸并且在像素定義層的沿著第一方向隔開的開口之間延伸,以及第二阻擋部分沿著第一方向延伸并且在像素定義層的沿著第二方向隔開的開口之間延伸。在實(shí)施方式中,發(fā)光層包括位于第一電極上的第一部分和位于像素定義層的側(cè)表面上的第二部分,第二部分具有在從像素定義層的側(cè)表面朝向像素定義層的上表面的方向上減小的厚度。在實(shí)施方式中,發(fā)光顯示裝置還包括在像素定義層的開口中位于第一電極與發(fā)光層之間的空穴注入層,空穴注入層具有從第一電極朝向像素定義層的側(cè)表面減小的厚度,其中泄漏電流阻擋層位于空穴注入層與發(fā)光層之間。在實(shí)施方式中,發(fā)光顯示裝置還包括在像素定義層的開口中位于第一電極與發(fā)光層之間的空穴注入層以及在像素定義層的開口中位于空穴注入層與發(fā)光層之間的空穴傳輸層,其中空穴注入層具有從第一電極朝向像素定義層的側(cè)表面減小的厚度,空穴傳輸層具有從第一電極朝向像素定義層的側(cè)表面減小的厚度,其中泄漏電流阻擋層位于空穴傳輸層與發(fā)光層之間。在實(shí)施方式中,發(fā)光顯示裝置還包括位于發(fā)光層與第二電極之間的電子傳輸層,其中泄漏電流阻擋層位于發(fā)光層與電子傳輸層之間。根據(jù)本專利技術(shù)的一個(gè)實(shí)施方式,提供了一種制造發(fā)光顯示裝置的方法,該方法包括:在襯底上形成第一電極,其中該襯底包括布置在第一方向和與第一方向相交的第二方向上的多個(gè)像素,該第一電極用于多個(gè)像素中的每個(gè);在襯底上形成具有暴露第一電極的開口的像素定義層;在像素定義層的開口中形成從第一電極沿著像素定義層的側(cè)表面的發(fā)光層,該發(fā)光層包括位于第一電極上的第一部分和位于像素定義層的側(cè)表面上的第二部分,該第二部分具有在從像素定義層的側(cè)表面朝向像素定義層的上表面的方向上減小的厚度;在發(fā)光層上形成第二電極;以及在第一電極與發(fā)光層之間或者在發(fā)光層與第二電極之間
    在像素定義層的側(cè)表面上形成具有均勻厚度的泄漏電流阻擋層。在實(shí)施方式中,形成泄漏電流阻擋層的步驟包括:在襯底上設(shè)置具有第一開口的第一掩模,該第一開口在像素定義層的開口中暴露像素定義層的在第一方向上彼此面對(duì)的側(cè)部;通過使用沉本文檔來自技高網(wǎng)
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    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
    一種發(fā)光顯示裝置,包括:襯底,包括布置在第一方向和與所述第一方向相交的第二方向上的多個(gè)像素;第一電極,用于所述襯底上的所述多個(gè)像素中的每個(gè);像素定義層,位于所述襯底上并具有暴露所述第一電極的開口;發(fā)光層,在所述像素定義層的所述開口中從所述第一電極沿著所述像素定義層的側(cè)表面延伸,并包括位于所述第一電極上的第一部分和位于所述像素定義層的所述側(cè)表面上的第二部分,所述第二部分具有在從所述像素定義層的所述側(cè)表面朝向所述像素定義層的上表面的方向上減小的厚度;第二電極,位于所述發(fā)光層上;以及泄漏電流阻擋層,在所述第一電極與所述發(fā)光層之間或者在所述發(fā)光層與所述第二電極之間在所述像素定義層的所述側(cè)表面上具有均勻的厚度。

    【技術(shù)特征摘要】
    2015.02.25 KR 10-2015-00265831.一種發(fā)光顯示裝置,包括:襯底,包括布置在第一方向和與所述第一方向相交的第二方向上的多個(gè)像素;第一電極,用于所述襯底上的所述多個(gè)像素中的每個(gè);像素定義層,位于所述襯底上并具有暴露所述第一電極的開口;發(fā)光層,在所述像素定義層的所述開口中從所述第一電極沿著所述像素定義層的側(cè)表面延伸,并包括位于所述第一電極上的第一部分和位于所述像素定義層的所述側(cè)表面上的第二部分,所述第二部分具有在從所述像素定義層的所述側(cè)表面朝向所述像素定義層的上表面的方向上減小的厚度;第二電極,位于所述發(fā)光層上;以及泄漏電流阻擋層,在所述第一電極與所述發(fā)光層之間或者在所述發(fā)光層與所述第二電極之間在所述像素定義層的所述側(cè)表面上具有均勻的厚度。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光顯示裝置,其中所述泄漏電流阻擋層具有比所述發(fā)光層的電阻高的電阻。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光顯示裝置,其中所述泄漏電流阻擋層包括有機(jī)絕緣材料或無(wú)機(jī)絕緣材料。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光顯示裝置,其中所述泄漏電流阻擋層在所述多個(gè)像素中的相鄰像素之間具有連續(xù)形式。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的發(fā)光顯示裝置,其中所述泄漏電流阻擋層具有相交的第一阻擋部分和第二阻擋部分,所述第一阻擋部分沿著所述第二方向延伸并且在所述像素定義層的沿著所述第一方向隔開的開口之間延伸,以及所述第二阻擋部分沿著所述第一方向延伸并且在
    \t所述像素定義層的沿著所述第二方向隔開的開口之間延伸。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光顯示裝置,還包括:空穴注入層,在所述像素定義層的所述開口中位于所述第一電極與所述發(fā)光層之間,所述空穴注入層具有從所述第一電極朝向所述像素定義層的所述側(cè)表面減小的厚度,其中所述泄漏電流阻擋層位于所述空穴注入層與所述發(fā)光層之間。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光顯示裝置,還包括:空穴注入層,在所述像素定義層的所述開口中位于所述第一電極與所述發(fā)光層之間,所述空穴注入層具有從所述第一電極朝向所述像素定義層的所述側(cè)表面減小的厚度,以及空穴傳輸層,在所述像素定義層的所述開口中位于所述空穴注入層與所述發(fā)光層之間,所述空穴傳輸層具有從所述第一電極朝向所述像素定義層的所述側(cè)表面減小的厚度,其中所述泄漏電流阻擋層位于所述空穴傳輸層與所述發(fā)光層之間。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光顯示裝置,還包括位于所述發(fā)光層與所述第二電極之間的電子傳輸層,其中所述泄漏電流阻擋層位于所述發(fā)光層與所述電子傳輸層之間。9.一種發(fā)光顯示裝置,包括:襯底,包括布置在第一方向和與所述第一方向相交的第二方向上的多個(gè)像素;第一電極,用于所述襯底上的所述多個(gè)像素中的每個(gè);像素定義層,位于所述襯底上并具有暴露所述第一電極的開口;發(fā)光層,在所述像素定義層的所述開口中從所述第一電極沿著所
    \t述像素定義層的側(cè)表面延伸;第二電極,位于所述發(fā)光層上;以及泄漏電流阻擋層,在所述第一電極與所述發(fā)光層之間或者在所述發(fā)光層與所述第二電極之間從所述像素定義層的所述側(cè)表面延伸到所述像素定義層的上表面,并在相鄰像素之間具有連續(xù)形式。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的發(fā)光顯示裝置,其中所述泄漏電流阻擋層具有比所述發(fā)光層的電阻高的電阻。11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的發(fā)光顯示裝置,其中所述泄漏電流阻擋層由有機(jī)絕緣材料或無(wú)機(jī)絕緣材料形成。12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的發(fā)光顯示裝置,其中所述泄漏電流阻擋層具有相交的第一阻擋部分和第二阻擋部分,所述第一阻擋部分沿著所述第二方向延伸并且在所述像素定義層的沿著所述第一方向隔開的開口之間延伸,以及所述第二阻擋部分沿著所述第一方向延伸并且在所述像素定義層的沿著所述第二方向隔開的開口之間延伸。13.根據(jù)權(quán)利要求...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:黃在權(quán),金律局
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:三星顯示有限公司,
    類型:發(fā)明
    國(guó)別省市:韓國(guó);KR

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