光量調(diào)節(jié)裝置、鏡筒及攝像設(shè)備制造方法及圖紙

光量調(diào)節(jié)裝置、鏡筒及攝像設(shè)備。光量調(diào)節(jié)裝置包括能夠繞著用作轉(zhuǎn)軸的軸轉(zhuǎn)動(dòng)且能夠在使用位置與退避位置之間移動(dòng)的、配置于基板的ND濾波器。各ND濾波器均包括均勻濃度部、漸變部和透明部。如果ND濾波器位于退避位置，則各ND濾波器的透明部在面對(duì)開(kāi)口的區(qū)域中重疊，以利用透明部覆蓋整個(gè)開(kāi)口。如果ND濾波器位于使用位置，則各ND濾波器的漸變部在面對(duì)開(kāi)口的區(qū)域中重疊，以利用漸變部和均勻濃度部覆蓋整個(gè)開(kāi)口。另外，在漸變部以合適的比例重疊時(shí)獲得的合成濃度與各均勻濃度部的光學(xué)濃度大致相同。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本專(zhuān)利技術(shù)涉及光量調(diào)節(jié)裝置、鏡筒及攝像設(shè)備，更特別地，涉及適于調(diào)節(jié)入射光量的光量調(diào)節(jié)裝置、鏡筒及攝像設(shè)備。
技術(shù)介紹
已知作為如下光學(xué)設(shè)備的一個(gè)示例的、鏡筒內(nèi)包括中性濃度(ND)濾波器的照相機(jī)：該光學(xué)設(shè)備包括用于獲得適當(dāng)曝光量的光量調(diào)節(jié)裝置。鏡筒內(nèi)的光量調(diào)節(jié)裝置通常布置在光圈(diaphragm)附近。光量調(diào)節(jié)裝置包括在尺寸上被形成為覆蓋供光束通過(guò)的開(kāi)口(aperture)的整個(gè)直徑的ND濾波器。一般的ND濾波器可移動(dòng)地支撐在ND濾波器完全覆蓋開(kāi)口的位置與ND濾波器從開(kāi)口完全退避的位置之間。因此，考慮到存儲(chǔ)退避的ND濾波器的空間，一般的光量調(diào)節(jié)裝置具有需要至少為開(kāi)口直徑的三倍的外徑。另外，已知包括多個(gè)ND濾波器的光量調(diào)節(jié)裝置。日本特開(kāi)2007-292828號(hào)公報(bào)和日本特開(kāi)2011-248029號(hào)公報(bào)中討論的光學(xué)設(shè)備均包括兩個(gè)ND濾波器。兩個(gè)ND濾波器均包括：透明部，其具有均勻的透射率；以及漸變部，其具有連續(xù)改變的透射率。當(dāng)拍攝高亮度被攝體的圖像時(shí)，兩個(gè)ND濾波器被配置成覆蓋開(kāi)口。這會(huì)使光衰減，以獲得適當(dāng)?shù)墓饬?。這里，漸變部的待插入開(kāi)口中的量根據(jù)各ND濾波器的位置而改變，通過(guò)使兩個(gè)濾波器重疊所獲得的合成濃度也改變。因此，調(diào)節(jié)各ND濾波器的位置能夠使光量被以無(wú)級(jí)方式(non-stepwise manner)調(diào)節(jié)。盡管近些年期望照相機(jī)緊湊化，但是要求安裝大的攝像元件和具有小的F數(shù)的光學(xué)元件(即，具有大的開(kāi)口直徑的光學(xué)系統(tǒng))。即，照相機(jī)要求鏡筒小型化，而被ND濾波器覆蓋的開(kāi)口直徑大型化。然而，如上所述，包括單個(gè)ND濾波器的光量調(diào)節(jié)裝置具有需要至少為開(kāi)口直徑的三倍的外徑。因而，開(kāi)口直徑的增加會(huì)增大光量調(diào)節(jié)裝置的尺寸。這使得照相機(jī)的尺寸難以減小。由于日本特開(kāi)2007-292828號(hào)公報(bào)中討論的光量調(diào)節(jié)裝置能夠以無(wú)級(jí)方式調(diào)節(jié)兩個(gè)ND濾波器的合成濃度，所以漸變部的寬度較大。這增大了光量調(diào)節(jié)裝置的尺寸。在日本特開(kāi)2011-248029號(hào)公報(bào)所討論的光量調(diào)節(jié)裝置中，兩個(gè)ND濾波器均包括透明部。在退避時(shí)，包括透明部的ND濾波器需要從開(kāi)口退避。這增加了用于存儲(chǔ)退避的ND濾波器的空間。因此，使光量調(diào)節(jié)裝置的尺寸增大。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專(zhuān)利技術(shù)的目的在于減小光量調(diào)節(jié)裝置的尺寸。根據(jù)本專(zhuān)利技術(shù)的方面，用于調(diào)節(jié)通過(guò)開(kāi)口的光量的光量調(diào)節(jié)裝置包括：第一濾波器，其包括透明區(qū)域和非透明區(qū)域，并被構(gòu)造成能夠在包括面對(duì)所述開(kāi)口的區(qū)域的區(qū)域中在退避位置與使用位置之間移動(dòng)；以及第二濾波器，其包括透明區(qū)域和非透明區(qū)域，并被構(gòu)造成能夠在包括面對(duì)所述開(kāi)口的區(qū)域的區(qū)域中在退避位置與使用位置之間移動(dòng)，其中，如果所述第一濾波器和所述第二濾波器位于退避位置，則所述第一濾波器的透明區(qū)域與所述第二濾波器的透明區(qū)域在面對(duì)所述開(kāi)口的整個(gè)區(qū)域的位置處重疊，并且如果所述第一濾波器和所述第二濾波器位于使用位置，則所述第一濾波器的透明區(qū)域與所述第二濾波器的非透明區(qū)域在面對(duì)所述開(kāi)口的位置處重疊，所述第一濾波器的非透明區(qū)域與所述第二濾波器的透明區(qū)域在面對(duì)所述開(kāi)口的位置處重疊。根據(jù)本專(zhuān)利技術(shù)的另一方面，提供一種鏡筒，其包括如上所述的光量調(diào)節(jié)裝置。根據(jù)本專(zhuān)利技術(shù)的又一方面，提供一種攝像設(shè)備，其包括：如上所述的鏡筒；以及攝像元件。通過(guò)參照附圖對(duì)示例性實(shí)施方式的以下說(shuō)明，本專(zhuān)利技術(shù)的其它特征將變得明顯。附圖說(shuō)明圖1是示出攝像設(shè)備的一個(gè)示例的圖。圖2是光量調(diào)節(jié)裝置的分解立體圖。圖3是示出中性濃度(ND)濾波器的位置關(guān)系的第一示例的圖。圖4是示出ND濾波器的光學(xué)濃度的第一示例的圖。圖5是示出ND濾波器的位置關(guān)系的第二示例的圖。圖6是示出ND濾波器的光學(xué)濃度的第二示例的圖。圖7是示出ND濾波器的位置關(guān)系的第三示例的圖。圖8是示出ND濾波器的光學(xué)濃度的第三示例的圖。圖9是示出ND濾波器的光學(xué)濃度的第四示例的圖。圖10是示出ND濾波器的光學(xué)濃度的第五示例的圖。具體實(shí)施方式以下參照附圖說(shuō)明本專(zhuān)利技術(shù)的示例性實(shí)施方式。說(shuō)明本專(zhuān)利技術(shù)的第一示例性實(shí)施方式。首先，說(shuō)明作為示例的應(yīng)用了光量調(diào)節(jié)裝置的攝像設(shè)備。圖1是示出攝像設(shè)備100的一個(gè)示例的示意圖。在圖1中，攝像設(shè)備100包括照相機(jī)主體110和鏡筒120。鏡筒120能夠安裝于照相機(jī)主體110或與照相機(jī)主體110一體化。即，光量調(diào)節(jié)裝置10能夠配置在獨(dú)立于照相機(jī)主體110的鏡筒120中，或者能夠配置在與鏡筒120一體化
的攝像設(shè)備100中。還可以在攝像設(shè)備以外的光學(xué)設(shè)備中配置光量調(diào)節(jié)裝置10。鏡筒120包括具有第一透鏡組L1、第二透鏡組L2、第三透鏡組L3、光圈121和光量調(diào)節(jié)裝置10的攝像透鏡光學(xué)系統(tǒng)。另外，在本示例性實(shí)施方式中，攝像元件123安裝于鏡筒120。另外，鏡筒120包括驅(qū)動(dòng)鏡筒120的各單元的驅(qū)動(dòng)裝置124。驅(qū)動(dòng)裝置124分別控制第一透鏡組L1、第二透鏡組L2、第三透鏡組L3、光圈121和光量調(diào)節(jié)裝置10的操作。照相機(jī)主體110包括模擬數(shù)字(A/D)轉(zhuǎn)換器111、圖像處理單元112、顯示單元113、操作單元114、存儲(chǔ)單元115和系統(tǒng)控制單元116。經(jīng)由攝像透鏡光學(xué)系統(tǒng)由攝像元件123形成被攝體像。攝像元件123將所形成的被攝體像(光信號(hào))轉(zhuǎn)換成模擬電信號(hào)。A/D轉(zhuǎn)換器111將從攝像元件123輸出的模擬電信號(hào)轉(zhuǎn)換成數(shù)字電信號(hào)(圖像信號(hào))。圖像處理單元112對(duì)從A/D轉(zhuǎn)換器111輸出的數(shù)字電信號(hào)(圖像信號(hào))執(zhí)行各種圖像處理。顯示單元113使用例如電子取景器和液晶面板來(lái)顯示各種信息。操作單元114具有作為供用戶(hù)使用以對(duì)攝像設(shè)備100發(fā)出指令的用戶(hù)界面的功能。顯示單元113可以包括觸摸面板。在該情況下，觸摸面板用作操作單元114的一部分。存儲(chǔ)單元115存儲(chǔ)諸如已經(jīng)經(jīng)歷由圖像處理單元112所執(zhí)行的圖像處理的圖像數(shù)據(jù)等的各種數(shù)據(jù)。另外，存儲(chǔ)單元115存儲(chǔ)程序。例如，存儲(chǔ)單元115使用只讀存儲(chǔ)器(ROM)、隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(RAM)和硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器(HDD)來(lái)存儲(chǔ)各種數(shù)據(jù)和程序。系統(tǒng)控制單元116通過(guò)使用例如中央處理單元(CPU)全面地控制攝像設(shè)備100。圖2是光量調(diào)節(jié)裝置10的分解立體圖。光量調(diào)節(jié)裝置10包括ND濾波器1、ND濾波器2、致動(dòng)器3和基板4。ND濾波器1用作光衰減濾波器。ND濾波器1為第一濾波器的一個(gè)示例，并且包括：孔1a，其與基板4的軸4b接合；以及長(zhǎng)形孔1b，其供致動(dòng)器3的驅(qū)動(dòng)銷(xiāo)3b插入。ND濾波器1包括用于光衰減的氣相沉積膜(vapor-deposited film)。利用該氣相沉積膜，ND濾波器1中形成如下三個(gè)部分：均勻濃度(density)部1c、漸變部1d和透明部1e。均勻濃度部1c用作均勻濃度區(qū)域的一個(gè)示例，漸變部1d用作漸變區(qū)域的一個(gè)示例，透明部1e用作透明區(qū)域的一個(gè)示例。在均勻濃度部1c中，氣相沉積膜(其是不透明或半透明的(opaque or translucent))以使得光學(xué)濃度均勻的方式形成于ND濾波器1的基材。在漸變部1d中，漸變狀的氣相沉積膜以如下方式形成于ND濾波器1的基材：使得光學(xué)濃度從漸變部1d與均勻濃度部1c接觸的位置起朝向漸變部1d與透明部1e接觸的位置逐漸降低。透明部1e具有均勻的透明度。ND濾波器1的基材是透明的。因而，氣相沉積膜不形成于透明部1e。然而，可以在基材上形成透明的氣相沉積膜從而形成透明部1e。與N本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種光量調(diào)節(jié)裝置，其調(diào)節(jié)通過(guò)開(kāi)口的光的量，所述光量調(diào)節(jié)裝置包括：第一濾波器，其包括透明區(qū)域和非透明區(qū)域，并被構(gòu)造成能夠在包括面對(duì)所述開(kāi)口的區(qū)域的區(qū)域中在退避位置與使用位置之間移動(dòng)；以及第二濾波器，其包括透明區(qū)域和非透明區(qū)域，并被構(gòu)造成能夠在包括面對(duì)所述開(kāi)口的區(qū)域的區(qū)域中在退避位置與使用位置之間移動(dòng)，其特征在于，如果所述第一濾波器和所述第二濾波器位于退避位置，則所述第一濾波器的透明區(qū)域與所述第二濾波器的透明區(qū)域在面對(duì)所述開(kāi)口的整個(gè)區(qū)域的位置處重疊，并且如果所述第一濾波器和所述第二濾波器位于使用位置，則所述第一濾波器的透明區(qū)域與所述第二濾波器的非透明區(qū)域在面對(duì)所述開(kāi)口的位置處重疊，所述第一濾波器的非透明區(qū)域與所述第二濾波器的透明區(qū)域在面對(duì)所述開(kāi)口的位置處重疊。

【技術(shù)特征摘要】
2015.03.05 JP 2015-0440301.一種光量調(diào)節(jié)裝置，其調(diào)節(jié)通過(guò)開(kāi)口的光的量，所述光量調(diào)節(jié)裝置包括：第一濾波器，其包括透明區(qū)域和非透明區(qū)域，并被構(gòu)造成能夠在包括面對(duì)所述開(kāi)口的區(qū)域的區(qū)域中在退避位置與使用位置之間移動(dòng)；以及第二濾波器，其包括透明區(qū)域和非透明區(qū)域，并被構(gòu)造成能夠在包括面對(duì)所述開(kāi)口的區(qū)域的區(qū)域中在退避位置與使用位置之間移動(dòng)，其特征在于，如果所述第一濾波器和所述第二濾波器位于退避位置，則所述第一濾波器的透明區(qū)域與所述第二濾波器的透明區(qū)域在面對(duì)所述開(kāi)口的整個(gè)區(qū)域的位置處重疊，并且如果所述第一濾波器和所述第二濾波器位于使用位置，則所述第一濾波器的透明區(qū)域與所述第二濾波器的非透明區(qū)域在面對(duì)所述開(kāi)口的位置處重疊，所述第一濾波器的非透明區(qū)域與所述第二濾波器的透明區(qū)域在面對(duì)所述開(kāi)口的位置處重疊。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光量調(diào)節(jié)裝置，其中，各所述非透明區(qū)域均為光學(xué)濃度大致均勻的區(qū)域。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光量調(diào)節(jié)裝置，其中，各所述非透明區(qū)域均包括均勻濃度區(qū)域和漸變區(qū)域，所述均勻濃度區(qū)域中的光學(xué)濃度大致均勻，所述漸變區(qū)域配置在所述透明區(qū)域與所述均勻濃度區(qū)域之間并且是光學(xué)濃度從所述透明區(qū)域至所述均勻濃度區(qū)域連續(xù)改變的區(qū)域，并且如果所述第一濾波器和所述第二濾波器位于使用位置，則所述第一濾波器的透明區(qū)域與所述第二濾波器的均勻濃度區(qū)域在面對(duì)所述開(kāi)口的位置處重疊，所述第一濾波器的均勻濃度區(qū)域與所述第二濾波器的透明區(qū)域在面對(duì)所述開(kāi)口的位置處重疊，并且所述第一濾波器的漸變區(qū)域與所述第二濾波器的漸變區(qū)域在面對(duì)所述開(kāi)口的位置處重疊。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光量調(diào)節(jié)裝置，其中，所述光量調(diào)節(jié)裝置還包括：基板，其包括所述開(kāi)口；被構(gòu)造成限定所述第一濾波器的使用位置和所述第二濾波器的使用位置的部分；以及被構(gòu)造成限定所述第一...

【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：上原匠，
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人：佳能株式會(huì)社，
類(lèi)型：發(fā)明
國(guó)別省市：日本;JP