光學(xué)斬波器和光調(diào)制系統(tǒng)技術(shù)方案

一種光學(xué)斬波器和光調(diào)制系統(tǒng)，其中光學(xué)斬波器包括：固定件，固定件具有周面；多個(gè)凸起，位于周面上呈間隔排布，凸起具有朝向光線入射方向的第一表面；反射層，覆蓋凸起的第一表面。本實(shí)用新型專利技術(shù)技術(shù)方案在位于固定件周面上的多個(gè)凸起表面設(shè)置反射層。本實(shí)用新型專利技術(shù)利用反射原理，在進(jìn)行光調(diào)制時(shí)，凸起表面的反射層將大部分光能反射，能夠有效減少凸起吸收的能量。在大功率光照條件下，凸起吸收能量的減少，能夠有效保護(hù)凸起不被燒壞，從而減少光學(xué)斬波器受損現(xiàn)象的出現(xiàn)。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本技術(shù)涉及光學(xué)器件領(lǐng)域，特別涉及一種光學(xué)斬波器和光調(diào)制系統(tǒng)。
技術(shù)介紹
光調(diào)制是指使光波的振幅、頻率、相位、偏振狀態(tài)或持續(xù)時(shí)間按一定的規(guī)律變化，實(shí)現(xiàn)光調(diào)制的裝置為光學(xué)斬波器。光調(diào)制技術(shù)被廣泛應(yīng)用于光通信、測(cè)距、光學(xué)信息處理、光存儲(chǔ)或者顯示等多個(gè)方面。光學(xué)斬波器是一種對(duì)光波的持續(xù)時(shí)間進(jìn)行調(diào)制的設(shè)備。光學(xué)斬波器通過(guò)使光通過(guò)或遮擋，使連續(xù)的入射光信號(hào)調(diào)整成不連續(xù)的光信號(hào)。光學(xué)斬波器包括多個(gè)旋轉(zhuǎn)葉片，將旋轉(zhuǎn)葉片設(shè)置于光路中，隨著葉片的旋轉(zhuǎn)，光波被葉片遮擋或者通過(guò)相鄰葉片的間隙，從而形成脈沖光波。但是現(xiàn)有技術(shù)中的光學(xué)斬波器在高功率光照條件下使用容易損壞。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本技術(shù)解決的問(wèn)題是提供一種光學(xué)斬波器和光調(diào)制系統(tǒng)，改善光學(xué)斬波器和光調(diào)制系統(tǒng)在高功率光照條件下的損壞問(wèn)題。為解決上述問(wèn)題，本技術(shù)提供一種光學(xué)斬波器，包括：固定件，所述固定件具有周面；多個(gè)凸起，位于所述周面上呈間隔排布，所述凸起具有朝向光線入射方向的第一表面；反射層，覆蓋所述凸起的第一表面。可選的，所述反射層包括金屬反射層或/和全電介質(zhì)反射層。可選的，所述反射層為金屬反射層時(shí)，所述反射層包括鋁層、銀層、金層或銅層。可選的，所述反射層為全電介質(zhì)反射層時(shí)，所述反射層材料對(duì)入射光的折射率大于所述凸起材料對(duì)所述入射光的折射率。可選的，所述反射層包括一個(gè)或多個(gè)功能層，每個(gè)所述功能層包括第一
電介質(zhì)層和位于第一電介質(zhì)層表面的第二電介質(zhì)層，所述第一電介質(zhì)層對(duì)所述入射光的折射率大于所述第二電介質(zhì)層對(duì)所述入射光的折射率，所述第一電介質(zhì)層和所述第二電介質(zhì)層的厚度為所述入射光波長(zhǎng)的四分之一。可選的，所述固定件包括與所述凸起的第一表面位于同側(cè)的正面；所述反射層還覆蓋所述固定件的正面。可選的，所述凸起的數(shù)量大于或等于2。可選的，所述凸起的第一表面為光學(xué)平面。可選的，所述凸起與所述固定件為一體結(jié)構(gòu)。可選的，所述固定件呈圓盤(pán)狀，所述周面垂直所述圓盤(pán)的徑向設(shè)置。相應(yīng)的，本技術(shù)還提供一種光調(diào)制系統(tǒng)，包括：光學(xué)斬波器，所述光學(xué)斬波器為本專利技術(shù)光學(xué)斬波器；傳動(dòng)桿，與所述光學(xué)斬波器相連；旋轉(zhuǎn)電機(jī)，與所述傳動(dòng)桿相連。可選的，所述光調(diào)制系統(tǒng)還包括：光線終止器。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本技術(shù)的技術(shù)方案具有以下優(yōu)點(diǎn)：本技術(shù)技術(shù)方案在位于所述固定件周面上的多個(gè)凸起表面設(shè)置反射層。在進(jìn)行光調(diào)制過(guò)程中，當(dāng)入射光投射所述反射層，經(jīng)反射層反射形成反射光，使反射光偏離原光路；當(dāng)入射光投射至相鄰?fù)蛊痖g的間隔時(shí)，維持原光路傳播，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)入射光的調(diào)制。本技術(shù)利用反射原理，在進(jìn)行光調(diào)制時(shí)，凸起表面的反射層將大部分光能反射，能夠有效減少凸起吸收的能量。在大功率光照條件下，凸起吸收能量的減少，能夠有效保護(hù)凸起，避免凸起被燒毀，從而減少光學(xué)斬波器受損現(xiàn)象的出現(xiàn)。本技術(shù)可選方案中，由于本技術(shù)通過(guò)反射層將光能反射以實(shí)現(xiàn)光調(diào)制，因此在進(jìn)行光調(diào)制過(guò)程中，經(jīng)反射層反射所形成的反射光也是經(jīng)過(guò)調(diào)制的。所以本技術(shù)可以在原光路中以及在反射光光路中得到兩個(gè)調(diào)制光。所以本技術(shù)技術(shù)方案能夠?qū)H選擇原光路中的光線為調(diào)制光，也可以選擇反射光為調(diào)制光，能夠提高所述光學(xué)斬波器以及光調(diào)制系統(tǒng)的適用范圍。本技術(shù)可選方案中，還可以利用所述反射層反射第二入射光，是第二入射光與第一入射光投射形成的第一透射光合束，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)第一入射光和第二入射光的合束。因此本技術(shù)技術(shù)方案擴(kuò)大了所述光學(xué)斬波器以及所述光調(diào)制系統(tǒng)的應(yīng)用范圍。附圖說(shuō)明圖1和圖2是本技術(shù)光學(xué)斬波器一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是本技術(shù)光調(diào)制方法一實(shí)施例的光路示意圖；圖4是本技術(shù)光調(diào)制方法另一實(shí)施例的光路結(jié)構(gòu)示意圖；圖5是本技術(shù)光調(diào)制方法再一實(shí)施例的光路結(jié)構(gòu)示意圖。具體實(shí)施方式由
技術(shù)介紹
可知，現(xiàn)有技術(shù)中的光學(xué)斬波器在高功率光照條件下存在容易損壞的問(wèn)題。現(xiàn)結(jié)合現(xiàn)有技術(shù)中的光學(xué)斬波器斬波原理分析其損壞問(wèn)題的原因：在高功率光照條件下，由于光線強(qiáng)度過(guò)大，很容燒毀被照射物體。特別是在高功率激光的照射下，由于激光具有高亮度、方向性高以及單色性好等特點(diǎn)，因此激光的能量比一般光線更集中，因此更容易燒毀被照射物體。現(xiàn)有技術(shù)中的光學(xué)斬波器，是通過(guò)旋轉(zhuǎn)葉片實(shí)現(xiàn)光線的遮擋或通過(guò)：當(dāng)光線投射至葉片上時(shí)，光線被葉片遮擋；當(dāng)光線投射至葉片之間的空隙時(shí)，光纖通過(guò)。當(dāng)光線被葉片遮擋時(shí)，光線被葉片吸收。而且現(xiàn)有技術(shù)中的光學(xué)斬波器往往為黑色，以提高對(duì)光能的吸收率。因此當(dāng)光線功率過(guò)大時(shí)，葉片吸收大量能量，很容易造成葉片被燒毀，從而造成光學(xué)斬波器的損壞。為解決所述技術(shù)問(wèn)題，本技術(shù)提供一種光學(xué)斬波器，包括如下步驟：固定件，所述固定件具有周面；多個(gè)凸起，位于所述周面上呈間隔排布，所述凸起具有朝向光線入射方向的第一表面；反射層，覆蓋所述凸起的第一表面。本技術(shù)技術(shù)方案在位于所述固定件周面上的多個(gè)凸起表面設(shè)置反射層。在進(jìn)行光調(diào)制過(guò)程中，當(dāng)入射光投射所述反射層，經(jīng)反射層反射形成反
射光，使反射光偏離原光路；當(dāng)入射光投射至相鄰?fù)蛊痖g的間隔時(shí)，維持原光路傳播，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)入射光的調(diào)制。本技術(shù)利用反射原理，在進(jìn)行光調(diào)制時(shí)，凸起表面的反射層將大部分光能反射，能夠有效減少凸起吸收的能量。在大功率光照條件下，凸起吸收能量的減少，能夠有效保護(hù)凸起，避免凸起被燒毀，從而減少光學(xué)斬波器受損現(xiàn)象的出現(xiàn)。為使本技術(shù)的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更為明顯易懂，下面結(jié)合附圖對(duì)本技術(shù)的具體實(shí)施例做詳細(xì)的說(shuō)明。參考圖1和圖2，示出了本技術(shù)光學(xué)斬波器一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。其中，圖1是所述光學(xué)斬波器的三維視圖，圖2是圖1中沿A方向的視圖。所述光學(xué)斬波器包括：固定件100，所述固定件100具有周面101；位于所述固定件100周面101上呈間隔排布的多個(gè)凸起110，所述多個(gè)凸起110具有朝向光線入射方向的第一表面；以及覆蓋所述凸起110第一表面的反射層120。所述凸起110第一表面上的反射層120，能夠在光調(diào)制時(shí)反射大部分光能，能夠有效減小所述凸起110吸收的光能。在大功率光照條件下，所述凸起110吸收能量的減少，能夠有效保護(hù)所述凸起120不被燒毀，從而減少所述光學(xué)斬波器受損現(xiàn)象的出現(xiàn)。繼續(xù)如圖1和圖2所示，所述固定件100用于固定所述光學(xué)斬波器。具體的，本實(shí)施例中，所述固定件100呈圓盤(pán)狀，所述周面101垂直所述圓盤(pán)狀固定件的徑向設(shè)置。此外，所述固定件100上還具有起固定作用的固定孔102。所述固定孔102位于所述圓盤(pán)圓心。所述旋轉(zhuǎn)軸穿過(guò)所述固定孔102的中心。需要說(shuō)明的是，所述固定孔102的形狀可以為橢圓形、方形或長(zhǎng)方形，從而能夠防止所述固定件100與穿過(guò)所述固定孔102的固定裝置發(fā)生相對(duì)運(yùn)動(dòng)，提高所述光學(xué)斬波器的穩(wěn)定性和可控性。所述凸起110用于對(duì)入射光進(jìn)行調(diào)制。多個(gè)所述凸起110位于所述周面101上，與所述固定件100相連。所述多個(gè)凸起110呈間隔排布，因此當(dāng)入射光投射至所述凸起110時(shí)，
所述入射光的光路被所述凸起110截?cái)啵划?dāng)入射光投射至相鄰所述凸起110之間的間隔時(shí)，入射光不受影響，繼續(xù)傳播，從而實(shí)現(xiàn)所述光學(xué)斬波器對(duì)入射光的持續(xù)時(shí)間進(jìn)行調(diào)制。位于所述周面101上凸起110的數(shù)量大于或等于2，所述凸起110數(shù)量越多，在相等轉(zhuǎn)速情況下，所述光學(xué)斬波器對(duì)入射光調(diào)制的頻率本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種光學(xué)斬波器，其特征在于，包括：固定件，所述固定件具有周面；多個(gè)凸起，位于所述周面上呈間隔排布，所述凸起具有朝向光線入射方向的第一表面；反射層，覆蓋所述凸起的第一表面。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種光學(xué)斬波器，其特征在于，包括：固定件，所述固定件具有周面；多個(gè)凸起，位于所述周面上呈間隔排布，所述凸起具有朝向光線入射方向的第一表面；反射層，覆蓋所述凸起的第一表面。2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)斬波器，其特征在于，所述反射層包括金屬反射層或/和全電介質(zhì)反射層。3.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)斬波器，其特征在于，所述反射層為金屬反射層時(shí)，所述反射層包括鋁層、銀層、金層或銅層。4.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)斬波器，其特征在于，所述反射層為全電介質(zhì)反射層時(shí)，所述反射層材料對(duì)入射光的折射率大于所述凸起材料對(duì)所述入射光的折射率。5.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)斬波器，其特征在于，所述反射層包括一個(gè)或多個(gè)功能層，每個(gè)所述功能層包括第一電介質(zhì)層和位于第一電介質(zhì)層表面的第二電介質(zhì)層，所述第一電介質(zhì)層對(duì)所述入射光的折射率大于所述第二電介質(zhì)層對(duì)所述入射光的折射率，所述第一電介質(zhì)層和...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：呂望，羅嬌林，張琳瑯，李兵，李義，余思，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：上海瑞柯恩激光技術(shù)有限公司，
類型：新型
國(guó)別省市：上海;31