一種超平釉面磚制造技術

本發明專利技術提供了一種超平釉面磚，包括坯體和釉層；所述釉層與所述坯體的上表面貼合；所述釉層包括底釉和面釉；所述面釉位于所述底釉上；所述底釉的厚度為0.1?0.8mm；所述面釉的厚度為0.5?1.0mm。其中，所述底釉和所述面釉均由特定的成分組成。該超平釉面磚莫氏硬度高、抗折強度大、吸水率低。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及瓷磚
，具體涉及一種超平釉面磚。
技術介紹
釉是覆蓋在陶瓷制品表面的無色或有色的玻璃質薄層，是用礦物原料(長石、石英、滑石、高嶺土等)和化工原料按一定比例配合(部分原料可先制成熔塊)經過研磨制成釉漿，施于坯體表面，經一定溫度煅燒而成。釉經過窯火焙燒后，就緊緊附著在瓷胎上，使瓷器致密化、光澤柔和，又不透水和氣，給人明亮如鏡的感覺。同時可以提高制品的強度和化學穩定性，起到防止污染，便于清洗，減小腐蝕等作用。釉面磚是指磚體表面經過燒釉處理的磚。釉面磚的色彩和圖案比較豐富，防污能力強，因此受到廣大消費者的歡迎。而超平釉面磚是釉面磚的一種，它是一款極具天然石材效果和微晶石質感的仿石材瓷磚，在陶瓷市場上又稱為全平釉磚、超晶石、高晶石等。超平釉面磚最突出的特點是采用了硬拋技術，制造出順滑平整的磚面，彌補了普通全拋釉產品帶有水波紋、平整度不高的缺陷。雖然超平釉面磚品質比全拋釉面磚的品質好，但是仍然存在通透感和立體感較差、發色不好、氣泡多、光澤度欠佳的現象，這些不足滿足不了消費者的需求。
技術實現思路
本專利技術為了避免現有技術的不足之處而提供了一種超平釉面磚，該超平釉面磚光澤明亮、花色紋理立體豐滿、色彩過渡自然逼真、莫氏硬度高、耐磨、抗震抗龜裂能力強，且帶有玉石的溫潤質感。根據本專利技術所提供的一種超平釉面磚，包括坯體和釉層；所述釉層與所述坯體的上表面貼合；所述釉層包括底釉和面釉；所述面釉位于所述底釉上；所述底釉的厚度為0.1-0.8mm；所述面釉的厚度為0.5-1.0mm。優選地，所述底釉包括按重量份以下成分：更優選地，所述底釉包括按重量份以下成分：優選地，所述面釉由按重量百分比以下成分組成：厚拋釉粉65-70％、羧甲基纖維素鈉0.1-0.3％、三聚磷酸鈉0.1-0.5％和水25-35％；上述成分的重量百分比之和為100％。優選地，所述面釉由按重量百分比以下成分組成：厚拋釉粉68.61％、羧甲基纖維素鈉0.15％、三聚磷酸鈉0.26％和水30.98％。優選地，所述厚拋釉粉包括熔塊和生料；所述熔塊和所述生料的質量百分比為(5-20)：100。優選地，所述熔塊包括按重量份計以下成分：更優選地，所述熔塊包括按重量份計以下成分：優選地，所述生料包括按重量份計以下成分：更優選地，所述生料包括按重量份計以下成分：本專利技術所提供的技術方案可以包括以下有益效果：(1)本專利技術所提供的超平釉面磚，釉層包括底釉和面釉，面釉可以對底釉上的圖案進行保護。而底釉的厚度為0.1-0.8mm，面釉的厚度為0.5-1.0mm。這種超平釉面磚拋光后，釉層厚度較大，遠遠高于普通全拋釉磚的釉層，使得成品立體感強。且厚的釉層有利于拋光工序的進行，使得拋光后產品的優等率更高。(2)本專利技術所提供的超平釉面磚，其底釉和面釉中Al2O3成分含量比普通全拋釉面磚中的Al2O3成分高，而Al2O3有利提高釉層的莫氏硬度，所以該超平釉面磚的莫氏硬度較高，耐磨。(3)本專利技術所提供的超平釉面磚，底釉含有ZrO2，ZrO2能提高底釉的白度，使噴墨印花時圖案顏色不會受底釉發色影響。并且，ZrO2使底釉的溫度提高，從而使噴墨印花在高溫燒成時發色受溫度影響較小。本專利技術各組分的配比穩定且靈活，可以根據生產工藝和窯爐燒成的條件在該各組分的范圍內進行調整，靈活性強，可操作性優。(4)本專利技術所提供的超平釉面磚，面釉包括的厚拋釉粉由熔塊和生料組成，而生料和熔塊的配比可以根據不同窯爐的燒成范圍進行調節，以減少成品中氣泡的量。窯爐溫度較高時，可以增加生料添加量，減少熔塊添加量；而窯爐溫度較低時，可以增加熔塊添加量，減少生料添加量。即面釉的配方適用范圍大，適合工業生產。且熔塊的高溫流動性好，使釉面在高溫下快速地流平，熔融性能良好。(5)本專利技術所提供的超平釉面磚，光澤明亮，光澤度可達100-110度，高于普通全拋釉面磚的95-100度；花色紋理立體豐滿、色彩過渡自然逼真、莫氏硬度高、耐磨、抗震抗龜裂能力強，且帶有玉石的溫潤質感。具體實施方式下面，結合具體實施方式，對本專利技術做進一步描述：一種超平釉面磚，包括坯體和釉層；所述釉層與所述坯體的上表面貼合；所述釉層包括底釉和面釉；所述面釉位于所述底釉上；所述底釉的厚度為0.1-0.8mm；所述面釉的厚度為0.5-1.5mm。其中，所述底釉包括按重量份以下成分：所述面釉由按重量百分比以下成分組成：厚拋釉粉65-70％、羧甲基纖維素鈉0.1-0.3％、三聚磷酸鈉0.1-0.5％和水25-35％；上述成分的重量百分比之和為100％。且所述厚拋釉粉包括熔塊和生料；所述熔塊和所述生料的質量百分比為(5-20)：100。所述熔塊包括按重量份計以下成分：所述生料包括按重量份計以下成分：根據上述配方，獲取了實施例1-5的超平釉面磚；對相關成分進行修改，獲取了對比例1-2的超平釉面磚。實施例1-5和對比例1-2中所用底釉的具體成分見表1；實施例1-5和對比例1-2中所用面釉中的厚拋釉粉的具體成分見表2。表1實施例1-5和對比例1-2超平釉面磚底釉的成分表Al2O3SiO2CaOMgOZnOK2ONa2OZrO2實施例120501122412實施例223524234618實施例325652342513實施例430603454815實施例533555363714對比例115634353715對比例22145545370表2實施例1-5和對比例1-2超平釉面磚面釉中厚拋釉粉的成分表實施例1根據下述制備方法獲取超平釉面磚：1)坯體成型，把坯體在105℃的條件下干燥90min，得到干燥坯體；2)向干燥坯體的表面施加底釉，得到第一坯磚；底釉流速為4.77g/s，比重為1.89g/ml，底釉施加量為590g/m2細度為經325目篩后干料重量百分比為0.3％；3)在第一坯磚的底釉上噴墨印花，得到第二坯磚；噴墨印花時，噴墨機的參數為：噴墨機皮帶速度20m/mim，打印尺寸為910×910mm；把預設圖案分割噴印在12塊第一坯磚上(當這12塊第一坯磚組合鋪裝時，能夠得到帶有完整圖案的背景墻)，且相鄰的第一坯磚在連接處設置重復印花；重復印花為印花本體外圍0-14mm處的印花；4)把第二坯磚在165℃的條件下干燥1.6min，得到第三坯磚；5)向第三坯磚設置有噴墨印花的一面施加面釉，得到第四坯磚；面釉包括厚拋釉粉68.61％、羧甲基纖維素鈉0.15％、三聚磷酸鈉0.26％和水30.98％；面釉流速為4.77g/s，比重為1.89g/ml，面釉施加量為1300g/m2，細度為經325目篩后干料重量百分比為0.3％；6)把第四坯磚在155℃的條件下干燥2min，得到第五坯磚；7)把第五坯磚放置于1195℃的窯爐中，高溫煅燒1h，得到第六坯磚；8)對第六坯磚進行拋光處理，拋光的工藝條件為：拋光機皮帶速度20m/mim；依次用以下磨頭進行拋光處理：9組120目硬性磨塊組成的磨頭、4組150目硬性磨塊組成的磨頭、3組150目彈性模塊組成的磨頭、3組180目彈性模塊組成的磨頭、4組240目彈性模塊組成的磨頭、3組300目彈性模塊組成的磨頭、4組400目彈性模塊組成的磨頭、4組500目彈性模塊組成的磨頭、4組600目彈性模塊組成的磨頭、3組800目彈性模塊組成的磨頭、5組1000本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種超平釉面磚，其特征在于，包括坯體和釉層；所述釉層與所述坯體的上表面貼合；所述釉層包括底釉和面釉；所述面釉位于所述底釉上；所述底釉的厚度為0.1?0.8mm；所述面釉的厚度為0.5?1.0mm。

【技術特征摘要】
1.一種超平釉面磚，其特征在于，包括坯體和釉層；所述釉層與所述坯體的上表面貼合；所述釉層包括底釉和面釉；所述面釉位于所述底釉上；所述底釉的厚度為0.1-0.8mm；所述面釉的厚度為0.5-1.0mm。2.根據權利要求1所述的超平釉面磚，其特征在于，所述底釉包括按重量份以下成分：3.根據權利要求1所述的超平釉面磚，其特征在于，所述面釉由按重量百分比以下成分組成：厚拋釉粉65-70％、羧甲基纖維素鈉0.1-0.3％、三聚磷酸鈉0.1-0.5％和水25-35％；上述成分的重量百分比之和為100％。4.根據權利要求3所述的超平釉面磚，其特征在于，所述面釉由按重量百分比以下成分組成：厚拋釉粉68.61％...

【專利技術屬性】
技術研發人員：邱軍，林金宏，吳志堅，鄧榮，
申請(專利權)人：河源市東源鷹牌陶瓷有限公司，鷹牌陶瓷實業河源有限公司，佛山石灣鷹牌陶瓷有限公司，佛山石灣華鵬陶瓷有限公司，
類型：發明
國別省市：廣東;44