質譜分析方法及質譜分析裝置制造方法及圖紙

本發明專利技術為一種質譜分析方法，其將生成自分析對象化合物的離子中的一個或多個離子作為基準離子，使用針對該基準離子而獲得的質譜色譜圖來進行試樣中所含的所述分析對象化合物的定性及/或定量，該質譜分析方法中，針對所述一個或多個基準離子中的各方而設定一個或多個基準離子候選，并針對所述所設定的基準離子候選中的各方而獲取所述試樣的質譜色譜圖，求所述質譜色譜圖上的規定位置上出現的波峰與預先設定的模型波峰的形狀類似度，將與所述形狀類似度在規定值以上的波峰相對應的基準離子候選確定為所述基準離子。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及一種質譜分析方法及裝置，該質譜分析方法及裝置將生成自分析對象化合物的離子中的一個或多個離子作為定量離子、確認離子等基準離子，使用針對該基準離子而獲取到的質譜色譜圖來進行試樣中所含的所述分析對象化合物的定性及/或定量。
技術介紹
為了進行試樣中所含成分的定性分析、定量分析，廣泛使用有將氣相色譜儀(GC)、液相色譜儀(LC)等色譜儀與四極桿質譜儀等質譜分析裝置組合而成的色譜質譜分析裝置。在色譜質譜分析裝置中，將通過色譜儀而在時間上被分離后的、試樣中的多種成分依序導入至質譜分析裝置，進行它們的定性分析、定量分析。在使用色譜質譜分析裝置來進行試樣的定性分析、定量分析時，預先將表征分析對象化合物的離子設定為定量離子及確認離子。分別對應于各種化合物的定量離子和確認離子是根據對該化合物的標準樣品進行質譜分析所得的結果而設定一組或多組，并保存在數據庫中的。在此，分析人員參考該數據庫來設定定量離子及確認離子。然后，使用對試樣進行色譜質譜分析而獲得的定量離子的質譜色譜圖的波峰與確認離子的質譜色譜圖的波峰的強度比(或面積比)來鑒定化合物(對化合物進行定性)，并根據定量離子的質譜色譜圖的波峰的強度(面積)來對化合物進行定量(例如專利文獻1、2)。現有技術文獻專利文獻專利文獻1：日本專利特開2011-242255號公報專利文獻2：日本專利特開2012-132799號公報專利文獻3：日本專利特開2013-15485號公報專利文獻4：日本專利特開2012-104389號公報
技術實現思路
專利技術要解決的問題數據庫中所保存的、對應于各種化合物的定量離子和確認離子是根據不含該化合物以外的成分的標準樣品的質譜分析的結果來規定的。但實際的試樣中含有多種成分，從而存在如下情況：夾雜成分以與分析對象化合物大致相同的保留時間洗脫，且其離子具有與分析對象化合物大致相同的質荷比。在該情況下，在質譜色譜圖上，來源于夾雜成分的離子的波峰會與來源于分析對象化合物的離子的波峰重疊，從而導致將包含夾雜成分的含量的錯誤值作為分析對象化合物的定量值。因此，分析人員進行有如下作業：根據波峰形狀等來確認試樣的針對定量離子、確認離子而獲得的質譜色譜圖中是否重疊有生成自夾雜成分的離子的波峰，在有重疊的情況下，將其他離子重新設定為定量離子、確認離子。但存在如下問題：這種作業較為耗時，此外，對分析人員的負擔也較大。除了上述情形以外，在使用MS/MS裝置的多反應監測(MRM：Multiple Reaction Monitoring)分析中，在設定與上述定量離子相對應的前體離子-產物離子組即定量MRM轉變、與上述確認離子相對應的確認MRM轉變的情況下也會產生這種問題。再者，在以下的說明中，酌情將定量離子、確認離子、定量MRM轉變及確認MRM轉變稱為“基準離子”。本專利技術要解決的問題在于提供一種色譜質譜分析方法及裝置，該色譜質譜分析方法及裝置在進行試樣中所含的分析對象化合物的定性及/或定量時可容易地確定不受夾雜成分的影響的基準離子。解決問題的技術手段為了解決上述問題而成的本專利技術為一種質譜分析方法，其將生成自分析對象化合物的離子中的一個或多個離子作為基準離子，使用針對該基準離子而獲得的質譜色譜圖來進行試樣中所含的所述分析對象化合物的定性及/或定量，該質譜分析方法的特征在于，a)針對所述一個或多個基準離子中的各方而設定一個或多個基準離子候選，b)針對所述所設定的基準離子候選中的各方而獲取所述試樣的質譜色譜圖，c)求所述質譜色譜圖上的規定位置上出現的波峰與預先設定的模型波峰的形狀類似度，d)將與所述形狀類似度在規定值以上的波峰相對應的基準離子候選確定為所述基準離子。作為基準離子，例如，除了上述定量離子、確認離子以外，還可列舉前體離子-產物離子組即定量MRM轉變、確認MRM轉變。此外，上述質譜色譜圖上的所謂規定位置，是指與分析對象化合物的保留時間相對應的位置。在本專利技術的質譜分析方法中，求質譜色譜圖上的規定位置上出現的波峰與預先設定的模型波峰的形狀類似度，將與該值在規定值以上的波峰相對應的離子確定為基準離子。在質譜色譜圖上存在的波峰為僅由單一離子形成的波峰的情況下，其形狀接近例如以高斯函數表示的模型波峰的形狀。另一方面，在重疊有來源于夾雜成分的離子的波峰的情況下，波峰形狀崩潰，與模型波峰的形狀類似度降低。因此，通過將獲得形狀類似度在規定值以上的波峰的離子作為基準離子，可確定不受夾雜成分的影響的基準離子。當使用本專利技術的色譜質譜分析方法時，分析人員無須自己確認質譜色譜圖的波峰的形狀即可容易地確定不受夾雜成分的影響的基準離子。作為上述模型波峰，例如可使用以高斯函數等函數表示的波峰、對測定對象化合物的標準樣品進行實際分析而獲得的波峰。此外，形狀類似度例如可通過皮爾遜相關法來求出。本專利技術的第2形態為一種質譜分析裝置，其將生成自分析對象化合物的離子中的一個或多個離子作為基準離子，使用針對該基準離子而獲得的質譜色譜圖來進行試樣中所含的所述分析對象化合物的定性及/或定量，該質譜分析裝置的特征在于，包括：a)存儲部，其保存有與模型波峰的波峰形狀相關的模型波峰信息；b)基準離子候選設定部，其按照使用者的輸入指示，針對所述一個或多個基準離子中的各方而設定一個或多個基準離子候選；c)質譜色譜圖獲取部，其針對所述所設定的基準離子候選中的各方而獲取所述試樣的質譜色譜圖；d)形狀類似度算出部，其根據所述模型波峰信息，求所述質譜色譜圖上的規定位置上出現的波峰與所述模型波峰的形狀類似度；以及e)基準離子確定部，其將與所述形狀類似度在規定值以上的波峰相對應的基準離子候選確定為所述基準離子。為了解決上述問題而成的本專利技術的第3形態為一種質譜分析方法，其將生成自分析對象化合物的離子中的2種離子作為定量離子及確認離子，使用針對這些離子而獲得的質譜色譜圖來進行試樣中所含的所述分析對象化合物的定性及/或定量，該質譜分析方法的特征在于，a)設定一組或多組定量離子候選-確認離子候選組，b)針對所述所設定的定量離子候選-確認離子候選組中的各方而獲取所述試樣的質譜色譜圖，c)求所述定量離子候選的質譜色譜圖以及所述確認離子候選的質譜色譜圖上的規定位置上出現的波峰的面積比或強度比的值，d)在所述面積比或強度比的值為預先設定的范圍內的值的情況下，將對應的定量離子候選-確認離子候選組確定為定量離子-確認離子組。如上所述，對應于各種化合物的定量離子和確認離子是根據對該化合物的標準樣品進行質譜分析而得的結果來設定一組或多組的，并與針對它們而獲得的質譜色譜圖的波峰的面積比及/或強度比的值一同被數據庫化。因而，上述范圍可參考該數據庫的信息而預先設定好。上述定量離子及確認離子還包括定量MRM轉變及確認MRM轉變。在上述第3形態中，不是根據波峰的形狀而是根據2種離子的質譜色譜圖的波峰面積比或強度比來確定定量離子及確認離子。當定量離子、確認離子的質譜色譜圖的波峰中重疊來源于夾雜成分的離子的波峰時，該波峰的面積、強度中會加上來源于夾雜成分的離子的波峰的面積、強度，從而導致定量離子與確認離子的波峰的面積比、強度比的值脫離數據庫中所保存的值的范圍。因而，通過使用質譜色譜圖的波峰的面積比或強度比的值在參考數據庫而規定的規定范圍內的離子組，可確本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種質譜分析方法，其將生成自分析對象化合物的離子中的一個或多個離子作為基準離子，使用針對該基準離子而獲得的質譜色譜圖來進行試樣中所含的所述分析對象化合物的定性及/或定量，該質譜分析方法的特征在于，a)針對所述一個或多個基準離子中的各方而設定一個或多個基準離子候選，b)針對所述所設定的基準離子候選中的各方而獲取所述試樣的質譜色譜圖，c)求所述質譜色譜圖上的規定位置上出現的波峰與預先設定的模型波峰的形狀類似度，d)將與所述形狀類似度在規定值以上的波峰相對應的基準離子候選確定為所述基準離子。

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】1.一種質譜分析方法，其將生成自分析對象化合物的離子中的一個或多個離子作為基準離子，使用針對該基準離子而獲得的質譜色譜圖來進行試樣中所含的所述分析對象化合物的定性及/或定量，該質譜分析方法的特征在于，a)針對所述一個或多個基準離子中的各方而設定一個或多個基準離子候選，b)針對所述所設定的基準離子候選中的各方而獲取所述試樣的質譜色譜圖，c)求所述質譜色譜圖上的規定位置上出現的波峰與預先設定的模型波峰的形狀類似度，d)將與所述形狀類似度在規定值以上的波峰相對應的基準離子候選確定為所述基準離子。2.根據權利要求1所述的質譜分析方法，其特征在于，所述基準離子為定量離子及/或確認離子。3.根據權利要求1所述的質譜分析方法，其特征在于，所述基準離子為前體離子-產物離子組。4.根據權利要求1至3中任一項所述的質譜分析方法，其特征在于，將所述質譜色譜圖上的波峰的強度或面積值在規定值以上的基準離子候選確定為所述基準離子。5.根據權利要求1至4所述的質譜分析方法，其特征在于，按照所述基準離子候選的優先順序由高到低的順序獲取質譜色譜圖并求形狀類似度，在形狀類似度在規定值以下的情況下，對優先順序次高的基準離子候選重復進行同樣的處理。6.根據權利要求1至5所述的質譜分析方法，其特征在于，在所述形狀類似度在規定值以下的情況下，變更分析條件而獲取質譜色譜圖，并針對該質譜色譜圖而求形狀類似度。7.根據權利要求6所述的質譜分析方法，其特征在于，所述變更的分析條件是與質量分離部的分辨率相關的分析條件。8.根據權利要求3所述的質譜分析方法，其特征在于，e)制作曲線圖，所述曲線圖表示在碰撞池中使所述前體離子裂解而生成的產物離子的量與對所述碰撞池施加的電壓的大小的相關性，f)將所述曲線圖與預先設定的模型函數進行對照，確定該形狀類似度在規定值以上的基準離子候選及電壓值。9.一種質譜分析裝置，其將生成自分析對象化合物的離子中的1或多個離子作為基準離子，使用針對該基準離子而獲得的質譜色譜圖來進行試樣中所含的所述分析對象化合物的定性及/或定量，該質譜分析裝置的特征在于，包括：a)存儲部，其保存有與模型波峰的波峰形狀...

【專利技術屬性】
技術研發人員：工藤恭彥，大林賢一，川名修一，
申請(專利權)人：株式會社島津制作所，
類型：發明
國別省市：日本;JP