一種化學拋光清洗機的供液系統技術方案

本實用新型專利技術涉及一種化學拋光清洗機的供液系統，包括儲液槽、氮氣管路、化學溶液進口管、化學溶液出口管和控制系統，所述儲液槽的上端連接有所述氮氣管路，所述氮氣管路上設有相應的氮氣閥門，所述儲液槽的下端連接有所述化學溶液進口管和所述化學溶液出口管，化學溶液進口管和化學溶液出口管上分別設有相應的化學溶液進口閥和化學溶液出口閥，所述化學溶液出口管未連接儲液槽的一端連接有一混合管路，所述混合管路還連接有一化學溶液濃度調整機構，所述化學溶液濃度調整機構包含連接到混合管路上的去離子水管，所述去離子水管上設置有一去離子水氣動閥。該化學拋光清洗機的供液系統能夠根據需要對化學拋光用化學試劑的濃度進行調低。

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及化學拋光清洗機的配套設備
，具體是指一種化學拋光清洗機的供液系統。
技術介紹
化學拋光是靠化學試劑對樣品表面凹凸不平區域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法。化學拋光清洗機的是半導體晶圓生產的重要設備，現有的化學拋光清洗機供液系統主要由一根管路，幾個氣動閥及1個浮子流量計組成，這種結構不能實現對化學拋光用化學試劑的濃度調節。廠務端供應多少濃度的化學試劑，就只能用多大濃度的化學試劑。而一般廠務端供應的化學試劑的濃度都要相對較高，由于現有的化學拋光清洗機供液系統無法根據實際的現場生產需要，對化學拋光用化學試劑的濃度進行調低，導致化學拋光加工存在較大的局限性。因此，設計一款能夠根據需要對化學拋光用化學試劑的濃度進行調低的化學拋光清洗機供液系統是本技術的研究目的。
技術實現思路
針對上述現有技術存在的不足之處，本技術在于提供一種化學拋光清洗機的供液系統，該化學拋光清洗機的供液系統能夠根據需要對化學拋光用化學試劑的濃度進行調低。本技術的技術方案如下：一種化學拋光清洗機的供液系統，包括儲液槽、氮氣管路、化學溶液進口管、化學溶液出口管和控制系統，所述儲液槽的上端連接有所述氮氣管路，所述氮氣管路上設有相應的氮氣閥門，所述儲液槽的下端連接有所述化學溶液進口管和所述化學溶液出口管，所述化學溶液進口管和所述化學溶液出口管上分別設有相應的化學溶液進口閥和化學溶液出口閥，所述化學溶液出口管未連接所述儲液槽的一端連接有一混合管路，所述化學溶液出口管在所述化學溶液出口閥的出液端一側設置有一化學溶液流量計，所述混合管路還連接有一化學溶液濃度調整機構，所述化學溶液濃度調整機構包含連接到所述混合管路上的去離子水管，所述去離子水管上設置有一去離子水氣動閥，所述去離子水管在所述去離子水氣動閥的出液端一側設置有一去離子水流量計，所述氮氣閥門、化學溶液進口閥、化學溶液出口閥、去離子水氣動閥、化學溶液流量計和去離子水流量計均連接到所述控制系統。實施本技術的技術方案，具有以下有益效果：本技術的儲液槽的上端連接有氮氣管路，氮氣管路上設有相應的氮氣閥門，儲液槽的下端連接有化學溶液進口管和化學溶液出口管，化學溶液進口管和化學溶液出口管上分別設有相應的化學溶液進口閥和化學溶液出口閥，通過氮氣為本技術提供壓力，確保化學試劑進液的流量具有較高的穩定性；本技術的混合管路還連接有一化學溶液濃度調整機構，化學溶液濃度調整機構包含連接到混合管路上的去離子水管，去離子水管上設置有一去離子水氣動閥，當廠務供應的化學試劑濃度較高時，可以通過化學溶液濃度調整機構加入水將相應的化學試劑的濃度降低；通過化學溶液流量計和去離子水流量計進行流量監測，并將監測結果的信號輸入控制系統，控制系統再根據現場生產需要的濃度，控制氮氣閥門、化學溶液進口閥、化學溶液出口閥和去離子水氣動閥的開啟程度，對化學試劑和水的流量進行控制，將化學試劑的濃度調整至現場生產所需的最佳比例。附圖說明圖1為本技術的結構示意圖。具體實施方式為了使本技術的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖，對本技術作進一步詳細說明。參考圖1，一種化學拋光清洗機的供液系統，包括儲液槽1、氮氣管路2、化學溶液進口管3、化學溶液出口管4和控制系統5，所述儲液槽1的上端連接有所述氮氣管路2，所述氮氣管路2上設有相應的氮氣閥門21，所述儲液槽1的下端連接有所述化學溶液進口管3和所述化學溶液出口管4，所述化學溶液進口管3和所述化學溶液出口管4上分別設有相應的化學溶液進口閥31和化學溶液出口閥41，所述化學溶液出口管4未連接所述儲液槽1的一端連接有一混合管路6，所述化學溶液出口管4在所述化學溶液出口閥41的出液端一側設置有一化學溶液流量計7，所述混合管路6還連接有一化學溶液濃度調整機構，所述化學溶液濃度調整機構包含連接到所述混合管路6上的去離子水管8，所述去離子水管8上設置有一去離子水氣動閥81，所述去離子水管8在所述去離子水氣動閥81的出液端一側設置有一去離子水流量計9，所述氮氣閥門21、化學溶液進口閥31、化學溶液出口閥41、去離子水氣動閥81、化學溶液流量計7和去離子水流量計9均連接到所述控制系統5。當供應的化學試劑濃度較高時，可以通過化學溶液濃度調整機構加入水將相應的化學試劑的濃度降低；通過化學溶液流量計7和去離子水流量計9進行流量監測，并將監測結果的信號輸入控制系統5，控制系統5再根據現場生產需要的濃度，控制所述氮氣閥門21、化學溶液進口閥31、化學溶液出口閥41、去離子水氣動閥81的開啟程度，對化學試劑和水的流量進行控制，實現現場生產所需的最佳比例。以上所述僅是本技術的優選實施方式，應當指出，對于本
的普通技術人員來說，在不脫離本技術原理的前提下，還可以做出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也應視為本技術的保護范圍。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種化學拋光清洗機的供液系統，包括儲液槽、氮氣管路、化學溶液進口管、化學溶液出口管和控制系統，所述儲液槽的上端連接有所述氮氣管路，所述氮氣管路上設有相應的氮氣閥門，所述儲液槽的下端連接有所述化學溶液進口管和所述化學溶液出口管，其特征在于：所述化學溶液進口管和所述化學溶液出口管上分別設有相應的化學溶液進口閥和化學溶液出口閥，所述化學溶液出口管未連接所述儲液槽的一端連接有一混合管路，所述化學溶液出口管在所述化學溶液出口閥的出液端一側設置有一化學溶液流量計，所述混合管路還連接有一化學溶液濃度調整機構，所述化學溶液濃度調整機構包含連接到所述混合管路上的去離子水管，所述去離子水管上設置有一去離子水氣動閥，所述去離子水管在所述去離子水氣動閥的出液端一側設置有一去離子水流量計，所述氮氣閥門、化學溶液進口閥、化學溶液出口閥、去離子水氣動閥、化學溶液流量計和去離子水流量計均連接到所述控制系統。

【技術特征摘要】
1.一種化學拋光清洗機的供液系統，包括儲液槽、氮氣管路、化學溶液進口管、化學溶液出口管和控制系統，所述儲液槽的上端連接有所述氮氣管路，所述氮氣管路上設有相應的氮氣閥門，所述儲液槽的下端連接有所述化學溶液進口管和所述化學溶液出口管，其特征在于：所述化學溶液進口管和所述化學溶液出口管上分別設有相應的化學溶液進口閥和化學溶液出口閥，所述化學溶液出口管未連接所述儲液槽的一端連接有一混合管路，所述化學...

【專利技術屬性】
技術研發人員：韋榮，李春，龐金明，
申請(專利權)人：吉姆西半導體科技無錫有限公司，
類型：新型
國別省市：江蘇;32