透鏡移動裝置以及包括該裝置的相機模塊和光學(xué)設(shè)備制造方法及圖紙

本發(fā)明專利技術(shù)提供一種透鏡移動裝置，該透鏡移動裝置包括：線圈架，該線圈架包括布置在線圈架的外周表面上的第一線圈；殼體，該殼體設(shè)置有用于通過與第一線圈相互作用而移動線圈架的第一磁體和第二磁體；上彈性構(gòu)件和下彈性構(gòu)件，上彈性構(gòu)件和下彈性構(gòu)件各自聯(lián)接至線圈架和殼體兩者；以及第一位置傳感器，該第一位置傳感器用于檢測第一磁體和第二磁體的磁場強度之和，其中，當(dāng)線圈架布置在初始位置處時，第一位置傳感器布置在位于第一磁體與第二磁體之間的空間中。

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
相關(guān)申請的交叉引用本申請要求分別于2015年4月30日和2015年6月29日在韓國提交的韓國專利申請No.10-2015-0061040和No.10-2015-0091810的優(yōu)選權(quán)，以上申請的全部內(nèi)容通過參引并入本文，就像在本文中完全陳述一樣。
實施方式涉及透鏡移動裝置，并且涉及分別包括該透鏡移動裝置的相機模塊和光學(xué)設(shè)備。
技術(shù)介紹
在現(xiàn)有的普通相機模塊中使用的音圈馬達(VCM)技術(shù)難以應(yīng)用于微型的低功耗相機模塊，因此已經(jīng)積極展開了與上述情況相關(guān)的研究。在相機模塊構(gòu)造成安裝在小型電子產(chǎn)品比如智能電話中的情況下，相機模塊在使用時可能頻繁地接收震動，并且可能經(jīng)受由于例如使用者的手的抖動而產(chǎn)生的微小震動。考慮到這一事實，需要開發(fā)能夠使用于防止手抖的設(shè)備另外安裝至相機模塊的技術(shù)。
技術(shù)實現(xiàn)思路
實施方式提供了一種透鏡移動裝置以及分別包括該透鏡移動裝置的相機模塊和光學(xué)設(shè)備，該透鏡移動裝置以及相機模塊和光學(xué)設(shè)備能夠通過防止由于溫度變化造成磁體的磁場強度偏差所產(chǎn)生的影響來改善自動對焦操作的可靠性，并且能夠?qū)τ蓽囟茸兓鸬耐哥R焦距的變化進行自動地補償。此外，實施方式提供了一種透鏡移動裝置以及分別包括該透鏡移動裝置的相機模塊和光學(xué)設(shè)備，該透鏡移動裝置以及相機模塊和光學(xué)設(shè)備能夠抑制端子中的裂縫的產(chǎn)生，并且能夠防止端子的破損。在一個實施方式中，透鏡移動裝置包括線圈架、殼體、上彈性構(gòu)件和下彈性構(gòu)件以及第一位置傳感器，線圈架包括布置在其外周表面上的第一線圈，殼體設(shè)置有用于通過與第一線圈相互作用而使線圈架移動的第一磁體和第二磁體，上彈性構(gòu)件和下彈性構(gòu)件各自聯(lián)接至線圈架和殼體兩者，第一位置傳感器用于檢測第一磁體和第二磁體的磁場強度之和，其中，當(dāng)線圈架處于初始位置時，第一位置傳感器布置在位于第一磁體與第二磁體之間的空間中。第一位置傳感器可以布置在線圈架的外周表面上并且布置成與第一線圈間隔開，使得當(dāng)線圈架布置在初始位置處時，第一位置傳感器布置在位于第一磁體與第二磁體之間的空間中。第一位磁體可以布置在殼體的上端處，并且第二磁體可以在殼體的下端處布置成與第一磁體間隔開。當(dāng)線圈架布置在初始位置處時，第一位置傳感器可以不與第一磁體或第二磁體在與光軸垂直的方向上重疊。第一位置傳感器可以包括用于檢測磁場強度的檢測部，并且第一位置傳感器的檢測部可以布置在位于第一磁體與第二磁體之間的空間中，并且當(dāng)線圈架布置在初始位置處時，第一位置傳感器的檢測部可以不與第一磁體或第二磁體在垂直于光軸的方向上重疊。第一位置傳感器的檢測部可以定位成面對線圈架的外周表面。第一位置傳感器的檢測部可以對其中磁力線從線圈架的內(nèi)周表面指向外周表面的磁場強度進行檢測。當(dāng)線圈架布置在第一位置處時，第一位置傳感器的檢測部可以在垂直于光軸的方向上與第一磁體的上表面對準(zhǔn)，并且第一位置可以是線圈架通過第一線圈與第一磁體和第二磁體之間的相互作用而移動到達的最高位置。當(dāng)線圈架布置在第一位置處時，第一位置傳感器的檢測部可以在垂直于光軸的方向上與相對于第一磁體的上表面向上間隔開第一距
離的假想線或平面對準(zhǔn)，并且第一位置可以是線圈架通過第一線圈與第一磁體和第二磁體之間的相互作用而移動到達的最高位置。第一距離可以是100μm或更小。當(dāng)線圈架布置在第二位置處時，第一位置傳感器的檢測部可以在垂直于光軸的方向上與第二磁體的上表面對準(zhǔn)，并且第二位置可以是線圈架通過第一線圈與第一磁體和第二磁體之間的相互作用而移動到達的最低位置。當(dāng)線圈架布置在第二位置處時，第一位置傳感器的檢測部可以在垂直于光軸的方向上與相對于第二磁體的上表面向下間隔開第二距離的假想線或平面對準(zhǔn)，并且第二位置可以是線圈架通過第一線圈與第一磁體和第二磁體之間的相互作用而移動到達的最低位置。第二距離可以是100μm或更小。殼體可以包括第一側(cè)部、第二側(cè)部、第一磁體座以及第二磁體座，第一磁體座形成在第一側(cè)部的外部的上端處，第一磁體布置在第一磁體座中，并且第二磁體座形成在第二側(cè)部的內(nèi)部的下端處，第二磁體布置在第二磁體座中。在另一實施方式中，透鏡移動裝置包括線圈架、殼體、上彈性構(gòu)件和下彈性構(gòu)件以及第一位置傳感器，線圈架包括布置在其外周表面上的第一線圈，殼體設(shè)置有用于通過與第一線圈相互作用而使線圈架移動的第一磁體和第二磁體，上彈性構(gòu)件和下彈性構(gòu)件各自聯(lián)接至線圈架和殼體兩者，第一位置傳感器用于檢測第一磁體和第二磁體的磁場強度之和，其中，當(dāng)線圈架移動時，通過第一位置傳感器檢測到的磁場強度之和為零或更大。當(dāng)線圈架布置在初始位置處時，第一位置傳感器可以布置在位于第一磁體與第二磁體之間的空間中。當(dāng)線圈架布置在第一位置處時，通過第一位置傳感器檢測到的第一磁體的磁場強度、第二磁體的磁場強度以及第一磁體和第二磁體的磁場強度之和可以具有正值，并且第一位置可以是線圈架通過第一線圈與第一磁體和第二磁體之間的相互作用而移動到達的最高位置。當(dāng)線圈架布置在初始位置處時，通過第一位置傳感器檢測到的第
一磁體的磁場強度、第二磁體的磁場強度以及第一磁體和第二磁體的磁場強度之和可以具有正值，并且初始位置可以是在沒有電力供給至第一線圈時的線圈架的位置。當(dāng)線圈架布置在第二位置處時，通過第一位置傳感器檢測到的第一磁體的磁場強度、第二磁體的磁場強度以及第一磁體和第二磁體的磁場強度之和可以具有正值，并且第二位置可以是線圈架通過第一線圈與第一磁體和第二磁體之間的相互作用而移動到達的最低位置。在線圈架從第一位置經(jīng)過初始位置移動至第二位置的同時，通過第一位置傳感器檢測到的第一磁體的磁場強度、第二磁體的磁場強度以及第一磁體和第二磁體的磁場強度之和可以具有正值，其中，第一位置是線圈架通過第一線圈與第一磁體和第二磁體之間的相互作用而移動到達的最高位置，初始位置是在沒有電力供給至第一線圈時的線圈架的位置，并且第二位置是線圈架通過第一線圈與第一磁體和第二磁體之間的相互作用而移動到達的最低位置。基于由第一位置傳感器檢測到的磁場強度之和為零的點，線圈移動的范圍可以是-0.15mm至0.52mm。透鏡移動裝置還可以包括布置成與第二磁體相對的第二線圈和布置在第二線圈的下方的電路板。在又一實施方式，相機模塊包括透鏡鏡筒、根據(jù)第一實施方式的用于使透鏡鏡筒移動的透鏡移動裝置、以及用于將通過透鏡移動裝置引入的圖像轉(zhuǎn)換為電信號的圖像傳感器。在再一個實施方式中，光學(xué)裝置包括顯示模塊、相機模塊以及控制器，該顯示模塊包括響應(yīng)于電信號而改變顏色的多個像素，根據(jù)第三實施方式的相機模塊用于將通過透鏡引入的圖像轉(zhuǎn)換為電信號，該控制器用于控制顯示模塊和相機模塊的操作。附圖說明可以參照以下附圖對布局和實施方式進行詳細描述，在附圖中，相同的附圖標(biāo)記指代相同的元件，并且其中：圖1是圖示了根據(jù)實施方式的透鏡移動裝置的立體圖；圖2是圖1中圖示的透鏡移動裝置的分解立體圖；圖3是圖示了圖1中示出的透鏡移動裝置的組裝好的立體圖，其中的蓋構(gòu)件被移除；圖4是圖2中所圖示的線圈架、第一線圈、第一磁體、第二磁體、第一位置傳感器以及傳感器板的分解立體圖；圖5A是圖示了圖4所中圖示的線圈架和第二磁體的平面圖；圖5B是圖示了圖4中所圖示的傳感器板和第一位置傳感器的分解立體圖；圖5C是圖示了圖4中所圖示的傳感器板的實施方式的后視立體圖；圖6是圖1中所圖示本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】
一種透鏡移動裝置，包括：線圈架，所述線圈架包括布置在所述線圈架的外周表面上的第一線圈；殼體，所述殼體設(shè)置有用于通過與所述第一線圈相互作用而使所述線圈架移動的第一磁體和第二磁體；上彈性構(gòu)件和下彈性構(gòu)件，所述上彈性構(gòu)件和所述下彈性構(gòu)件各自聯(lián)接至所述線圈架和所述殼體兩者；以及第一位置傳感器，所述第一位置傳感器用于檢測所述第一磁體的磁場強度和所述第二磁體的磁場強度之和，其中，當(dāng)所述線圈架布置在初始位置處時，所述第一位置傳感器布置在位于所述第一磁體與所述第二磁體之間的空間中。

【技術(shù)特征摘要】
2015.04.30 KR 10-2015-0061040;2015.06.29 KR 10-2011.一種透鏡移動裝置，包括：線圈架，所述線圈架包括布置在所述線圈架的外周表面上的第一線圈；殼體，所述殼體設(shè)置有用于通過與所述第一線圈相互作用而使所述線圈架移動的第一磁體和第二磁體；上彈性構(gòu)件和下彈性構(gòu)件，所述上彈性構(gòu)件和所述下彈性構(gòu)件各自聯(lián)接至所述線圈架和所述殼體兩者；以及第一位置傳感器，所述第一位置傳感器用于檢測所述第一磁體的磁場強度和所述第二磁體的磁場強度之和，其中，當(dāng)所述線圈架布置在初始位置處時，所述第一位置傳感器布置在位于所述第一磁體與所述第二磁體之間的空間中。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透鏡移動裝置，其中，所述第一位置傳感器布置在所述線圈架的外周表面上并且布置成與所述第一線圈間隔開，以便使得當(dāng)所述線圈架布置在所述初始位置處時，所述第一位置傳感器布置在位于所述第一磁體與所述第二磁體之間的空間中。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透鏡移動裝置，其中，所述第一磁體布置在所述殼體的上端處，并且所述第二磁體布置在所述殼體的下端處而與所述第一磁體間隔開。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的透鏡移動裝置，其中，當(dāng)所述線圈架布置在所述初始位置處時，所述第一位置傳感器在垂直于光軸的方向上不與所述第一磁體和所述第二磁體中的任一者重疊。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透鏡移動裝置，其中，所述第一位置傳感器包括用于檢測磁場強度的檢測部，并且，當(dāng)所述線圈架布置在所述初始位置處時，所述第一位置傳感器的檢測部布置在位于所述第一磁體與
\t所述第二磁體之間的空間中并且在垂直于光軸的方向上不與所述第一磁體和所述第二磁體中的任一者重疊。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的透鏡移動裝置，其中，所述第一位置傳感器的所述檢測部定位成面對所述線圈架的外周表面。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的透鏡移動裝置，其中，所述第一位置傳感器的檢測部對其中磁力線從所述線圈架的內(nèi)周表面指向所述線圈架的外周表面的磁場的強度進行檢測。8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的透鏡移動裝置，其中，當(dāng)所述線圈架布置在第一位置處時，所述第一位置傳感器的檢測部在所述垂直于光軸的方向上與所述第一磁體的上表面對準(zhǔn)，并且所述第一位置是所述線圈架通過所述第一線圈與所述第一磁體和所述第二磁體之間的相互作用而移動到達的最高位置。9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的透鏡移動裝置，其中，當(dāng)所述線圈架布置在第一位置處時，所述第一位置傳感器的檢測部在所述垂直于光軸的方向上與相對于所述第一磁體的上表面向上地間隔開第一距離的假想線或平面對準(zhǔn)，并且所述第一位置是所述線圈架通過所述第一線圈與所述第一磁體和所述第二磁體之間的相互作用而移動到達的最高位置。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的透鏡移動裝置，其中，所述第一距離是100μm或更小。11.根據(jù)權(quán)利要求5所述的透鏡移動裝置，其中，當(dāng)所述線圈架布置在第二位置處時，所述第一位置傳感器的檢測部在所述垂直于光軸的方向上與所述第二磁體的上表面對準(zhǔn)，并且所述第二位置是所述線圈架通過所述第一線圈與所述第一磁體和所述第二磁體之間的相互作用而
\t移動到達的最低位置。12.根據(jù)權(quán)利要求5所述的透鏡移動裝置，其中，當(dāng)所述線圈架布置在第二位置處時，所述第一位置傳感器的檢測部在所述垂直于光軸的方向上與相對于所述第二磁體的上表面向下地間隔開第二距離的假想線或平面對準(zhǔn)，并且所述第二位置是所述線圈架通過所述第一線圈與所述第一磁體和所述第二磁體之間的相互作用而移動到達的最低位置。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的透鏡移動裝置，其中，所述第二距離是100μm或更小。14.根據(jù)權(quán)利要求1至13中的任一...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：樸相沃，李準(zhǔn)澤，孫秉旭，閔相竣，劉庚皓，
申請(專利權(quán))人：LG伊諾特有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：韓國;KR