圖像加熱裝置和其中使用的加熱器制造方法及圖紙

本發(fā)明專利技術涉及一種圖像加熱裝置，該圖像加熱裝置包括加熱器，該加熱器在其縱向方向上包括多個可獨立控制的加熱塊，每個加熱塊包括第一導體、第二導體和加熱元件。與各個加熱塊對應的電極中的至少一個設置在第二表面上縱向方向上加熱元件所在的區(qū)域中，第二表面與加熱器的接觸環(huán)形帶的第一表面相反。電觸點被布置為面對加熱器的第二表面。當形成在具有小尺寸的記錄材料上的圖像被加熱時在無介質通過部分中發(fā)生的過熱被抑制或減小。

【技術實現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及圖像加熱裝置和其中使用的加熱器。更具體地說，本專利技術涉及一種圖像加熱裝置和該圖像加熱裝置中使用的加熱器，該圖像加熱裝置諸如合并在電子照相記錄型圖像形成裝置(諸如復印機或打印機)中的定影裝置、或用于進一步加熱記錄材料上的定影的調色劑圖像以改進該調色劑圖像的光澤度的光澤施加裝置。
技術介紹
上述圖像加熱裝置之一是包括環(huán)形帶(也被稱為環(huán)形膜)、加熱器和輥的裝置，加熱器與環(huán)形帶的內表面接觸，輥與加熱器合作以在環(huán)形帶介于它們之間的情況下在它們之間形成壓合部分。小尺寸片材上的使用包括這樣的圖像加熱裝置的圖像形成裝置的連續(xù)打印引起在壓合部分的縱向方向上片材不通過的壓合部分的區(qū)域中發(fā)生逐漸升溫的現(xiàn)象。該現(xiàn)象被稱為無介質通過部分中的過熱。無介質通過部分的溫度太高可能損壞裝置中的組件，或者可能使調色劑在大尺寸片材的與無介質通過部分對應的區(qū)域中偏移到環(huán)形帶。抑制無介質通過部分中的過熱的技術之一如下。加熱器的基板上的加熱電阻器(在下文中被稱為“加熱元件”)由具有正的電阻溫度系數(shù)的材料形成。兩個導體設置在基板的相對端部處、加熱器的橫向方向(記錄片材被傳送的方向)上，以使得電流在橫向方向上流過加熱元件(在下文中被稱為傳送方向上的電流路徑)(參見PTL 1)。在PTL 1中公開的構思中，隨著無介質通過部分的溫度上升，無介質通過部分中的加熱元件的電阻增大，抑制電流流過無介質通過部分中的加熱元件，從而防止無介質通過部分中的過熱。正的電阻溫度系數(shù)是電阻隨著溫度上升而增大的特性，在下文中被稱為PTC。然而，同樣地在上述加熱器中，一定量的電流流過無介質通過部分中的加熱元件。引文列表專利文獻PTL 1：日本專利公開No.2011-151003
技術實現(xiàn)思路
本專利技術提供了一種加熱器和圖像加熱裝置，該加熱器和圖像加熱裝置被配置為在不增大加熱器的尺寸的情況下抑制或至少減小加熱器的無介質通過部分中的過熱。為此，本專利技術的一方面提供一種圖像加熱裝置，該圖像加熱裝置包括：環(huán)形帶；被配置為與環(huán)形帶的內表面接觸的加熱器，該加熱器包括基板、第一導體、第二導體以及加熱元件，第一導體設置在基板上的第一位置處以在基板的縱向方向上延伸，第二導體設置在基板上的第二位置處以在縱向方向上延伸，第二位置在基板的橫向于縱向方向的橫向方向上不同于第一位置，加熱元件設置在第一導體和第二導體之間，并且被配置為通過經由第一導體和第二導體供給該加熱元件的功率來產生熱量；以及電觸點，其被配置為與加熱器的電極接觸以將功率供給加熱元件。加熱器在縱向方向上具有可獨立控制的多個加熱塊，可獨立控制的所述多個加熱塊中的每個包括第一導體、第二導體和加熱元件。分別與所述多個加熱塊之一對應的電極中的至少一個設置在第二表面上縱向方向上加熱元件所在的區(qū)域中，第二表面與加熱器的接觸環(huán)形帶的第一表面相反。電觸點被布置為面對加熱器的第二表面。本專利技術的另一個方面提供一種加熱器，該加熱器包括：基板；第一導體，其設置在基板上的第一位置處以在基板的縱向方向上延伸；第二導體，其設置在基板上的第二位置處以在縱向方向上延伸，第二位置在基板的橫向于縱向方向的橫向方向上不同于第一位置；加熱元件，其設置在第一導體和第二導體之間，并且被配置為通過經由第一導體和第二導體供給該加熱元件的功率來產生熱量。加熱器在縱向方向上具有可獨立控制的多個加熱塊，可獨立控制的所述多個加熱塊中的每個包括第一導體、第二導體和加熱元件。分別與所述多個加熱塊之一對應的電極中的至少一個設置在縱向方向上加熱元件所在的區(qū)域中。本專利技術的又一個方面提供一種圖像加熱裝置，該圖像加熱裝置包括：環(huán)形帶；被配置為與環(huán)形帶的內表面接觸的加熱器，該加熱器包括基板、第一導體、第二導體以及加熱元件，第一導體設置在基板上的第一位置處以在基板的縱向方向上延伸，第二導體設置在基板上的第二位置處以在縱向方向上延伸，第二位置在基板的橫向于縱向方向的橫向方向上不同于第一位置，加熱元件設置在第一導體和第二導體之間，并且被配置為通過經由第一導體和第二導體供給該加熱元件的功率來產生熱量。加熱器在縱向方向上具有可獨立控制的多個加熱塊，可獨立控制的所述多個加熱塊中的每個包括第一導體、第二導體和加熱元件。所述多個加熱塊中的每個在基板的橫向方向上具有多個加熱元件。所述多個加熱塊中的每個加熱塊中的多個加熱元件也是可獨立控制的。本專利技術的又一個方面提供一種加熱器，該加熱器包括：基板；第一導體，其設置在基板上的第一位置處以在基板的縱向方向上延伸；第二導體，其設置在基板上的第二位置處以在縱向方向上延伸，第二位置在基板的橫向于縱向方向的橫向方向上不同于第一位置；以及加熱元件，其設置在第一導體和第二導體之間，并且被配置為通過經由第一導體和第二導體供給該加熱元件的功率來產生熱量。加熱器在縱向方向上具有可獨立控制的多個加熱塊，可獨立控制的所述多個加熱塊中的每個包括第一導體、第二導體和加熱元件。所述多個加熱塊中的每個在基板的橫向方向上具有多個加熱元件。所述多個加熱塊中的每個加熱塊中的多個加熱元件也是可獨立控制的。本專利技術的又一個方面提供一種圖像加熱裝置，該圖像加熱裝置包括：環(huán)形帶；以及被配置為與環(huán)形帶的內表面接觸的加熱器，該加熱器包括基板、第一加熱塊和第二加熱塊，第一加熱塊設置在基板上，第二加熱塊設置在基板上在基板的縱向方向上與第一加熱塊的位置不同的位置處。該圖像加熱裝置具有：用于第二加熱塊的第一導線，第一導線連接到用于將功率供給第二加熱塊的導體；以及第二導線，其具有第一端部，并且具有第二端部，第一端部在與用于第二加熱塊的第一導線連接到所述導體的位置不同的位置處連接到用于第二加熱塊的第一導線連接的所述導體，第二端部連接到用于第一加熱塊的導體以將功率供給第一加熱塊。功率經由用于第二加熱塊的第一導線連接的所述導體并且經由第二導線被供給第一加熱塊。本專利技術的有益效果根據本專利技術的一些方面，加熱器和圖像加熱裝置可以在不增大加熱器的尺寸的情況下抑制或減小無介質通過部分中的過熱。從以下參照附圖對示例性實施例的描述，本專利技術的進一步的特征將變得清楚。附圖說明圖1是圖像形成裝置的截面圖。圖2是根據第一示例性實施例的圖像加熱裝置的截面圖。圖3A是根據第一示例性實施例的加熱器的配置圖。圖3B是根據第一示例性實施例的加熱器的配置圖。圖3C是根據第一示例性實施例的加熱器的配置圖。圖4是根據第一示例性實施例的用于加熱器的控制電路的電路圖。圖5是根據第一示例性實施例的加熱器控制處理的流程圖。圖6A是描繪根據第一示例性實施例的減小加熱器的無介質通過部分中的過熱的效果的示圖。圖6B是描繪根據第一示例性實施例的減小加熱器的無介質通過部分中的過熱的效果的示圖。圖7A是根據第二示例性實施例的加熱器的配置圖。圖7B是根據第二示例性實施例的加熱器的配置圖。圖7C是根據第二示例性實施例的加熱器的配置圖。圖8是根據第二示例性實施例的用于加熱器的控制電路的電路圖。圖9是根據第二示例性實施例的加熱器控制處理的流程圖。圖10A是根據第三示例性實施例的加熱器的配置圖。圖10B是根據第三示例性實施例的加熱器的配置圖。圖11A是根據第四示例性實施例的加熱器的配置圖。圖11B是根據第四示例性實施例的加熱器的配置圖。圖12A是根據第五示例性實施例的加熱器的配置圖。圖12B是根據第五示例性本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種用于對形成在記錄材料上的圖像進行加熱的圖像加熱裝置，包括：環(huán)形帶；加熱器，所述加熱器被配置為與環(huán)形帶的內表面接觸，所述加熱器包括基板、第一導體、第二導體以及加熱元件，第一導體設置在基板上的第一位置處以在基板的縱向方向上延伸，第二導體設置在基板上的第二位置處以在所述縱向方向上延伸，第二位置在基板的橫向于所述縱向方向的橫向方向上不同于第一位置，加熱元件設置在第一導體和第二導體之間，并且被配置為通過經由第一導體和第二導體供給加熱元件的功率來產生熱量；以及電觸點，所述電觸點被配置為與加熱器的電極接觸以將功率供給加熱元件，其中，所述加熱器在所述縱向方向上具有可獨立控制的多個加熱塊，可獨立控制的所述多個加熱塊中的每個包括第一導體、第二導體和加熱元件，分別與所述多個加熱塊之一對應的電極中的至少一個設置在與加熱器的接觸環(huán)形帶的第一表面相反的第二表面上的加熱元件在所述縱向方向上位于的區(qū)域中，以及所述電觸點被布置為面對加熱器的第二表面。

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2014.03.19 JP 2014-057058;2015.01.26 JP 2015-012811.一種用于對形成在記錄材料上的圖像進行加熱的圖像加熱裝置，包括：環(huán)形帶；加熱器，所述加熱器被配置為與環(huán)形帶的內表面接觸，所述加熱器包括基板、第一導體、第二導體以及加熱元件，第一導體設置在基板上的第一位置處以在基板的縱向方向上延伸，第二導體設置在基板上的第二位置處以在所述縱向方向上延伸，第二位置在基板的橫向于所述縱向方向的橫向方向上不同于第一位置，加熱元件設置在第一導體和第二導體之間，并且被配置為通過經由第一導體和第二導體供給加熱元件的功率來產生熱量；以及電觸點，所述電觸點被配置為與加熱器的電極接觸以將功率供給加熱元件，其中，所述加熱器在所述縱向方向上具有可獨立控制的多個加熱塊，可獨立控制的所述多個加熱塊中的每個包括第一導體、第二導體和加熱元件，分別與所述多個加熱塊之一對應的電極中的至少一個設置在與加熱器的接觸環(huán)形帶的第一表面相反的第二表面上的加熱元件在所述縱向方向上位于的區(qū)域中，以及所述電觸點被布置為面對加熱器的第二表面。2.根據權利要求1所述的圖像加熱裝置，其中，所述加熱元件具有正的電阻溫度系數(shù)。3.根據權利要求1所述的圖像加熱裝置，其中，多個加熱元件并聯(lián)地電連接在包括在所述多個加熱塊中的至少一個中的第一導體和第二導體之間，并聯(lián)連接的所述多個加熱元件被布置為相對于加熱器的所述縱向方向和所述橫向方向傾斜，以及每個加熱元件在所述縱向方向上與另一個加熱元件重疊。4.根據權利要求1所述的圖像加熱裝置，其中，所述多個加熱塊設置在加熱器的第二表面上。5.根據權利要求1所述的圖像加熱裝置，其中，所述多個加熱塊設置在加熱器的第一表面上，以及電極中的每個經由形成在基板中的通孔電連接到加熱塊中的第一導體或第二導體。6.根據權利要求1所述的圖像加熱裝置，其中，所述多個加熱塊中的每個在記錄材料的傳送方向上包括兩個加熱元件，以及所述兩個加熱元件在它們之間具有所述兩個加熱元件共用的共用第二導體。7.根據權利要求1所述的圖像加熱裝置，還包括：多個溫度感測元件，每個溫度感測元件對應于所述多個加熱塊之一，其中，根據所述多個溫度感測元件的感測溫度對將被供給所述多個加熱塊的功率進行控制。8.根據權利要求1所述的圖像加熱裝置，其中，分別與所述多個加熱塊之一對應的電極在所述縱向方向上設置在離加熱器的中心更近的位置處、而不是各個加熱塊的中心處。9.根據權利要求1所述的圖像加熱裝置，其中，對于所述多個加熱塊中的每個中的第二導體提供多個電極。10.根據權利要求1所述的圖像加熱裝置，其中，所述多個加熱塊之中的相鄰加熱塊中的加熱元件彼此連接。11.根據權利要求6所述的圖像加熱裝置，其中，所述共用第二導體被所述多個加熱塊之中的相鄰加熱塊之間的邊界劃分，以及所述邊界相對于所述縱向方向和記錄材料的傳送方向傾斜。12.一種在圖像加熱裝置中使用的加熱器，包括：基板；第一導體，所述第一導體設置在基板上的第一位置處以在基板的縱向方向上延伸；第二導體，所述第二導體設置在基板上的第二位置處以在所述縱向方向上延伸，第二位置在基板的橫向于所述縱向方向的橫向方向上不同于第一位置；以及加熱元件，所述加熱元件設置在第一導體和第二導體之間，并且被配置為通過經由第一導體和第二導體供給加熱元件的功率來產生熱量，其中，所述加熱器在所述縱向方向上具有可獨立控制的多個加熱塊，可獨立控制的所述多個加熱塊中的每個包括第一導體、第二導體和加熱元件，以及分別與所述多個加熱塊之一對應的電極中的至少一個設置在加熱元件在所述縱向方向上位于的區(qū)域中。13.根據權利要求12所述的加熱器，其中，所述加熱元件具有正的電阻溫度系數(shù)。14.根據權利要求12所述的加熱器，其中，多個加熱元件并聯(lián)地電連接在包括在所述多個加熱塊中的至少一個中的第一導體和第二導體之間，并聯(lián)連接的所述多個加熱元件被布置為相對于加熱器的所述縱向方向和所述橫向方向傾斜，以及每個加熱元件在所述縱向方向上與另一個加熱元件重疊。15.根據權利要求12所述的加熱器，其中，所述多個加熱塊中的每個在記錄材料的傳送方向上包括兩個加熱元件，以及所述兩個加熱元件在它們之間具有所述兩個加熱元件共用的共用第二導體。16.根據權利要求12所述的加熱器，其中，分別與所述多個加熱塊之一對應的電極在所述縱向方向上設置在離加熱器的中心更近的位置處、而不是各個加熱塊的中心處。17.根據權利要求12所述的加熱器，其中，對于所述多個加熱塊中的每個中的第二導體提供多個電極。18.根據權利要求12所述的加熱器，其中，所述多個加熱塊之中的相鄰加熱塊中的加熱元件彼此...

【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：志村泰洋，二本柳亙兒，小椋亮太，
申請(專利權)人：佳能株式會社，
類型：發(fā)明
國別省市：日本;JP