半導(dǎo)體設(shè)備工藝運(yùn)行狀態(tài)的管理及管理裝置制造方法及圖紙

本發(fā)明專(zhuān)利技術(shù)公開(kāi)了一種半導(dǎo)體設(shè)備工藝運(yùn)行狀態(tài)的管理方法，包括：根據(jù)半導(dǎo)體工藝流程創(chuàng)建工藝運(yùn)行狀態(tài)隊(duì)列、事件列表和轉(zhuǎn)換函數(shù)；根據(jù)上述工藝運(yùn)行狀態(tài)隊(duì)列、事件列表和轉(zhuǎn)換函數(shù)生成二維狀態(tài)轉(zhuǎn)換表；對(duì)所述二維狀態(tài)轉(zhuǎn)換表逐行或逐列查詢(xún)，依次生成多個(gè)狀態(tài)源臨時(shí)管理文件，每一所述狀態(tài)源臨時(shí)管理文件記錄一個(gè)所述工藝運(yùn)行狀態(tài)，其配置的一個(gè)所述轉(zhuǎn)換事件，以及所述工藝運(yùn)行狀態(tài)經(jīng)該轉(zhuǎn)換事件后的狀態(tài)結(jié)果；以及將全部所述狀態(tài)源臨時(shí)管理文件合并生成動(dòng)態(tài)配置管理文件。本發(fā)明專(zhuān)利技術(shù)能夠解決特定工藝和異常處理等狀態(tài)轉(zhuǎn)換效率低下和邏輯復(fù)雜造成的成功率低的問(wèn)題。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本專(zhuān)利技術(shù)涉及半導(dǎo)體
，特別涉及一種半導(dǎo)體設(shè)備的工藝控制方法及工藝控制裝置。
技術(shù)介紹
通常來(lái)說(shuō)，當(dāng)半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)行工藝時(shí)，可為Auto和Maintenance兩種模式，其中Auto模式是自動(dòng)控制模式，多用于半導(dǎo)體設(shè)備正常工藝的運(yùn)行狀態(tài)的情況，是一種高度的自動(dòng)模式；而Maintenance模式是維護(hù)模式，多用于半導(dǎo)體設(shè)備的檢修和工藝異常后手動(dòng)處理的情況。當(dāng)半導(dǎo)體設(shè)備處于Auto模式下時(shí)，工藝過(guò)程中會(huì)出現(xiàn)多種工藝狀態(tài)，如能夠?qū)崿F(xiàn)正常和特定工藝的狀態(tài)，以及會(huì)造成報(bào)警的異常狀態(tài)。這些工藝狀態(tài)的轉(zhuǎn)換可通過(guò)調(diào)用相應(yīng)工藝菜單來(lái)實(shí)現(xiàn)。然而，由于工藝特殊要求、工藝穿插執(zhí)行和異常情況的出現(xiàn)，半導(dǎo)體設(shè)備的狀態(tài)有十幾種甚至幾十種狀態(tài)。每個(gè)狀態(tài)之間的轉(zhuǎn)換和轉(zhuǎn)換條件都不盡相同，且隨著狀態(tài)的增加，軟件代碼就需要成倍的增加，因此給實(shí)現(xiàn)狀態(tài)的切換控制造成了諸多困難，往往造成狀態(tài)無(wú)法切換或者切換失敗，以至于工藝效率低下、產(chǎn)片合格率下降，甚至由于異常情況切換狀態(tài)失敗造成處理不及時(shí)，給設(shè)備造成損壞和人員造成危險(xiǎn)。因此處理如何正確高效的實(shí)現(xiàn)狀態(tài)控制成為本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的問(wèn)題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專(zhuān)利技術(shù)的主要目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種高效的半導(dǎo)體設(shè)備工藝運(yùn)行狀態(tài)管理方法。為達(dá)成上述目的，本專(zhuān)利技術(shù)提供一種半導(dǎo)體設(shè)備工藝運(yùn)行狀態(tài)的管理方法，包括：根據(jù)半導(dǎo)體工藝流程創(chuàng)建工藝運(yùn)行狀態(tài)隊(duì)列、事件列表和轉(zhuǎn)換函數(shù)，其中所述工藝運(yùn)行狀態(tài)隊(duì)列包括半導(dǎo)體設(shè)備的多個(gè)工藝運(yùn)行狀態(tài)，所述事件列表包括使所述多個(gè)工藝運(yùn)行狀態(tài)發(fā)生狀態(tài)轉(zhuǎn)換的多個(gè)轉(zhuǎn)換事件，每一所述工藝運(yùn)行狀態(tài)配置一個(gè)或多個(gè)所述轉(zhuǎn)換事件；所述轉(zhuǎn)換函數(shù)用于表示所述工藝運(yùn)行狀態(tài)經(jīng)過(guò)所述轉(zhuǎn)換事件后的狀態(tài)結(jié)果；根據(jù)上述工藝運(yùn)行狀態(tài)隊(duì)列、事件列表和轉(zhuǎn)換函數(shù)生成二維狀態(tài)轉(zhuǎn)換表；對(duì)所述二維狀態(tài)轉(zhuǎn)換表逐行或逐列查詢(xún)，依次生成多個(gè)狀態(tài)源臨時(shí)管理文件，每一所述狀態(tài)源臨時(shí)管理文件記錄一個(gè)所述工藝運(yùn)行狀態(tài)，其配置的一個(gè)所述轉(zhuǎn)換事件，以及所述工藝運(yùn)行狀態(tài)經(jīng)該轉(zhuǎn)換事件后的狀態(tài)結(jié)果；以及將全部所述狀態(tài)源臨時(shí)管理文件合并生成動(dòng)態(tài)配置管理文件。優(yōu)選地，所述二維狀態(tài)轉(zhuǎn)換表的第一列/行為各所述工藝運(yùn)行狀態(tài)，第一行/列為各所述狀態(tài)結(jié)果，行、列交叉處為使同行/列所述工藝運(yùn)行狀態(tài)轉(zhuǎn)換至同列/行所述狀態(tài)結(jié)果的轉(zhuǎn)換事件。優(yōu)選地，所述工藝運(yùn)行狀態(tài)包括開(kāi)始、未知、準(zhǔn)備、冷態(tài)、工藝前熱態(tài)、工藝熱態(tài)、工藝運(yùn)行態(tài)、工藝掛起、工藝錯(cuò)誤完成、工藝正常完成、結(jié)束；所述轉(zhuǎn)換事件包括上電、下電、初始化、運(yùn)行冷態(tài)工藝、運(yùn)行熱開(kāi)始工藝、運(yùn)行熱態(tài)工藝、運(yùn)行正常工藝、取消工藝、暫停工藝、恢復(fù)工藝、終止工藝、工藝運(yùn)行成功、工藝菜單完成、關(guān)機(jī)。優(yōu)選地，所述半導(dǎo)體設(shè)備為單片硅外延設(shè)備。優(yōu)選地，所述管理方法還包括：更新所述工藝運(yùn)行狀態(tài)隊(duì)列和/或所述事件列表和/或所述轉(zhuǎn)換函數(shù)；更新所述二維狀態(tài)轉(zhuǎn)換表；對(duì)所述二維狀態(tài)轉(zhuǎn)換表的更新部分查詢(xún)，相應(yīng)生成新的所述狀態(tài)源臨時(shí)管理文件并替換之前由所述二維狀態(tài)轉(zhuǎn)換表被更新部分所生成的所述狀態(tài)源臨時(shí)管理文件；以及將全部所述狀態(tài)源臨時(shí)管理文件合并生成新的動(dòng)態(tài)配置管理文件。根據(jù)本專(zhuān)利技術(shù)的另一方面，提供了一種半導(dǎo)體設(shè)備工藝運(yùn)行狀態(tài)的管理裝置，包括：狀態(tài)事件構(gòu)建模塊，根據(jù)半導(dǎo)體工藝流程創(chuàng)建工藝運(yùn)行狀態(tài)隊(duì)列、事件列表和轉(zhuǎn)換函數(shù)，其中所述工藝運(yùn)行狀態(tài)隊(duì)列包括半導(dǎo)體設(shè)備的多個(gè)工藝運(yùn)行狀態(tài)，所述事件列表包括使所述多個(gè)工藝運(yùn)行狀態(tài)發(fā)生狀態(tài)轉(zhuǎn)換的多個(gè)轉(zhuǎn)換事件，每一所述工藝運(yùn)行狀態(tài)配置一個(gè)或多個(gè)所述轉(zhuǎn)換事件；所述轉(zhuǎn)換函數(shù)用于表示所述工藝運(yùn)行狀態(tài)經(jīng)過(guò)所述轉(zhuǎn)換事件后的狀態(tài)結(jié)果；狀態(tài)轉(zhuǎn)換表生成模塊，根據(jù)上述工藝運(yùn)行狀態(tài)隊(duì)列、事件列表和轉(zhuǎn)換函數(shù)生成二維狀態(tài)轉(zhuǎn)換表；查詢(xún)模塊，對(duì)所述二維狀態(tài)轉(zhuǎn)換表逐行或逐列查詢(xún)，依次生成多個(gè)狀態(tài)源臨時(shí)管理文件，每一所述狀態(tài)源臨時(shí)管理文件記錄一個(gè)所述工藝運(yùn)行狀態(tài)，該工藝運(yùn)行狀態(tài)所配置的一個(gè)所述轉(zhuǎn)換事件，以及該工藝運(yùn)行狀態(tài)經(jīng)該轉(zhuǎn)換事件后的狀態(tài)結(jié)果；以及管理文件生成模塊，將全部所述狀態(tài)源臨時(shí)管理文件合并生成動(dòng)態(tài)配置管理文件。優(yōu)選地，所述二維狀態(tài)轉(zhuǎn)換表的第一列/行為各所述工藝運(yùn)行狀態(tài)，第一行/列為各所述狀態(tài)結(jié)果，行、列交叉處為使同行/列所述工藝運(yùn)行狀態(tài)轉(zhuǎn)換至同列/行所述狀態(tài)結(jié)果的轉(zhuǎn)換事件。優(yōu)選地，所述工藝運(yùn)行狀態(tài)包括開(kāi)始、未知、準(zhǔn)備、冷態(tài)、工藝前熱態(tài)、工藝熱態(tài)、工藝運(yùn)行態(tài)、工藝掛起、工藝錯(cuò)誤完成、工藝正常完成、結(jié)束；所述轉(zhuǎn)換事件包括上電、下電、初始化、運(yùn)行冷態(tài)工藝、運(yùn)行熱開(kāi)始工藝、運(yùn)行熱態(tài)工藝、運(yùn)行正常工藝、取消工藝、暫停工藝、恢復(fù)工藝、終止工藝、工藝運(yùn)行成功、工藝菜單完成、關(guān)機(jī)。優(yōu)選地，所述半導(dǎo)體設(shè)備為單片硅外延設(shè)備。優(yōu)選地，所述管理裝置還包括：狀態(tài)事件更新模塊，更新所述工藝運(yùn)行狀態(tài)隊(duì)列和/或所述事件列表和/或所述轉(zhuǎn)換函數(shù)；狀態(tài)轉(zhuǎn)換表更新模塊，更新所述二維狀態(tài)轉(zhuǎn)換表；所述查詢(xún)模塊對(duì)所述二維狀態(tài)轉(zhuǎn)換表的更新部分查詢(xún)，相應(yīng)生成新的所述狀態(tài)源臨時(shí)管理文件并替換之前由所述二維狀態(tài)轉(zhuǎn)換表被更新部分所生成的所述狀態(tài)源臨時(shí)管理文件；所述管理文件生成模塊將全部所述狀態(tài)源臨時(shí)管理文件合并生成新的動(dòng)態(tài)配置管理文件。本專(zhuān)利技術(shù)的有益效果在于利用狀態(tài)機(jī)機(jī)制為半導(dǎo)體設(shè)備提供一種準(zhǔn)確度高、實(shí)現(xiàn)方便的工藝運(yùn)行狀態(tài)管理方法；解決特定工藝和異常處理等狀態(tài)轉(zhuǎn)換效率低下和邏輯復(fù)雜造成的成功率低的問(wèn)題。此外，本專(zhuān)利技術(shù)是利用常見(jiàn)的配置文件進(jìn)行實(shí)現(xiàn)，更新?tīng)顟B(tài)或時(shí)間只需更改增添或刪除狀態(tài)配置屬性即可，實(shí)現(xiàn)高效和動(dòng)態(tài)管理。附圖說(shuō)明圖1所示為本專(zhuān)利技術(shù)一實(shí)施例的半導(dǎo)體設(shè)備的示意圖；圖2所示為本專(zhuān)利技術(shù)一實(shí)施例的半導(dǎo)體設(shè)備工藝運(yùn)行狀態(tài)轉(zhuǎn)換的示意圖；圖3所示為本專(zhuān)利技術(shù)一實(shí)施例的半導(dǎo)體設(shè)備工藝運(yùn)行狀態(tài)管理方法的流程圖；圖4所示為本專(zhuān)利技術(shù)一實(shí)施例的半導(dǎo)體設(shè)備工藝運(yùn)行狀態(tài)管理方法的示意圖；圖5所示為本專(zhuān)利技術(shù)一實(shí)施例的半導(dǎo)體設(shè)備工藝運(yùn)行狀態(tài)管理裝置的方塊圖。具體實(shí)施方式為使本專(zhuān)利技術(shù)的內(nèi)容更加清楚易懂，以下結(jié)合說(shuō)明書(shū)附圖，對(duì)本專(zhuān)利技術(shù)的內(nèi)容作進(jìn)一步說(shuō)明。當(dāng)然本專(zhuān)利技術(shù)并不局限于該具體實(shí)施例，本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員所熟知的一般替換也涵蓋在本專(zhuān)利技術(shù)的保護(hù)范圍內(nèi)。圖1顯示了本專(zhuān)利技術(shù)的半導(dǎo)體設(shè)備的一種實(shí)施方式。應(yīng)該理解，本專(zhuān)利技術(shù)中的半導(dǎo)體設(shè)備可以是用于進(jìn)行外延生長(zhǎng)、沉積、拋光、灰化、刻蝕、清洗等半導(dǎo)體工藝的設(shè)備，圖2所示的半導(dǎo)體設(shè)備僅僅是示例性的，其可以包括更少或更多的組成元件，或該組成元件的安排可能與圖中所示相同或不同。請(qǐng)參考圖1，本實(shí)施例的半導(dǎo)體設(shè)備為單硅片外延設(shè)備，用于進(jìn)行單硅片外延生長(zhǎng)工藝。單硅片外延設(shè)備包括兩個(gè)真空盒倉(cāng)1，2、調(diào)整器3、工藝腔室4、冷卻室5、傳輸平臺(tái)6和機(jī)械手7等幾個(gè)部分。設(shè)備的工藝流程如下：首先機(jī)械手6在真空盒倉(cāng)1或2取出工藝硅片，然后傳輸?shù)秸{(diào)整器3上進(jìn)行校準(zhǔn)，完成校準(zhǔn)后機(jī)械手6將硅片傳輸?shù)焦に嚽皇?中進(jìn)行工藝處理，然后取出工藝后的硅片放置在冷卻室5中進(jìn)行降溫，完成降溫后傳回真空盒倉(cāng)1或2中，實(shí)現(xiàn)整個(gè)硅片的工藝流程。請(qǐng)參見(jiàn)圖2，其顯示了半導(dǎo)體設(shè)備工藝運(yùn)行狀態(tài)的轉(zhuǎn)換示意圖，其中各狀態(tài)之間的箭頭表示狀態(tài)轉(zhuǎn)換，箭頭指向的狀態(tài)表示轉(zhuǎn)換后的狀態(tài)結(jié)果，箭頭上示出了實(shí)現(xiàn)狀態(tài)轉(zhuǎn)換的轉(zhuǎn)換條件，稱(chēng)為轉(zhuǎn)換事件。在上述工藝流程中，設(shè)備從開(kāi)始狀態(tài)上電后處于未知狀態(tài)，通過(guò)初始化處理后，設(shè)備處于準(zhǔn)備狀態(tài)。之后，設(shè)備在Auto(自動(dòng))模式下本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種半導(dǎo)體設(shè)備工藝運(yùn)行狀態(tài)的管理方法，其特征在于，包括：根據(jù)半導(dǎo)體工藝流程創(chuàng)建工藝運(yùn)行狀態(tài)隊(duì)列、事件列表和轉(zhuǎn)換函數(shù)，其中所述工藝運(yùn)行狀態(tài)隊(duì)列包括半導(dǎo)體設(shè)備的多個(gè)工藝運(yùn)行狀態(tài)，所述事件列表包括使所述多個(gè)工藝運(yùn)行狀態(tài)發(fā)生狀態(tài)轉(zhuǎn)換的多個(gè)轉(zhuǎn)換事件，每一所述工藝運(yùn)行狀態(tài)配置一個(gè)或多個(gè)所述轉(zhuǎn)換事件；所述轉(zhuǎn)換函數(shù)用于表示所述工藝運(yùn)行狀態(tài)經(jīng)過(guò)所述轉(zhuǎn)換事件后的狀態(tài)結(jié)果；根據(jù)上述工藝運(yùn)行狀態(tài)隊(duì)列、事件列表和轉(zhuǎn)換函數(shù)生成二維狀態(tài)轉(zhuǎn)換表；對(duì)所述二維狀態(tài)轉(zhuǎn)換表逐行或逐列查詢(xún)，依次生成多個(gè)狀態(tài)源臨時(shí)管理文件，每一所述狀態(tài)源臨時(shí)管理文件記錄一個(gè)所述工藝運(yùn)行狀態(tài)，其配置的一個(gè)所述轉(zhuǎn)換事件，以及所述工藝運(yùn)行狀態(tài)經(jīng)該轉(zhuǎn)換事件后的狀態(tài)結(jié)果；以及將全部所述狀態(tài)源臨時(shí)管理文件合并生成動(dòng)態(tài)配置管理文件。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種半導(dǎo)體設(shè)備工藝運(yùn)行狀態(tài)的管理方法，其特征在于，包括：根據(jù)半導(dǎo)體工藝流程創(chuàng)建工藝運(yùn)行狀態(tài)隊(duì)列、事件列表和轉(zhuǎn)換函數(shù)，其中所述工藝運(yùn)行狀態(tài)隊(duì)列包括半導(dǎo)體設(shè)備的多個(gè)工藝運(yùn)行狀態(tài)，所述事件列表包括使所述多個(gè)工藝運(yùn)行狀態(tài)發(fā)生狀態(tài)轉(zhuǎn)換的多個(gè)轉(zhuǎn)換事件，每一所述工藝運(yùn)行狀態(tài)配置一個(gè)或多個(gè)所述轉(zhuǎn)換事件；所述轉(zhuǎn)換函數(shù)用于表示所述工藝運(yùn)行狀態(tài)經(jīng)過(guò)所述轉(zhuǎn)換事件后的狀態(tài)結(jié)果；根據(jù)上述工藝運(yùn)行狀態(tài)隊(duì)列、事件列表和轉(zhuǎn)換函數(shù)生成二維狀態(tài)轉(zhuǎn)換表；對(duì)所述二維狀態(tài)轉(zhuǎn)換表逐行或逐列查詢(xún)，依次生成多個(gè)狀態(tài)源臨時(shí)管理文件，每一所述狀態(tài)源臨時(shí)管理文件記錄一個(gè)所述工藝運(yùn)行狀態(tài)，其配置的一個(gè)所述轉(zhuǎn)換事件，以及所述工藝運(yùn)行狀態(tài)經(jīng)該轉(zhuǎn)換事件后的狀態(tài)結(jié)果；以及將全部所述狀態(tài)源臨時(shí)管理文件合并生成動(dòng)態(tài)配置管理文件。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的管理方法，其特征在于，所述二維狀態(tài)轉(zhuǎn)換表的第一列/行為各所述工藝運(yùn)行狀態(tài)，第一行/列為各所述狀態(tài)結(jié)果，行、列交叉處為使同行/列所述工藝運(yùn)行狀態(tài)轉(zhuǎn)換至同列/行所述狀態(tài)結(jié)果的轉(zhuǎn)換事件。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的管理方法，其特征在于，所述工藝運(yùn)行狀態(tài)包括開(kāi)始、未知、準(zhǔn)備、冷態(tài)、工藝前熱態(tài)、工藝熱態(tài)、工藝運(yùn)行態(tài)、工藝掛起、工藝錯(cuò)誤完成、工藝正常完成、結(jié)束；所述轉(zhuǎn)換事件包括上電、下電、初始化、運(yùn)行冷態(tài)工藝、運(yùn)行熱開(kāi)始工藝、運(yùn)行熱態(tài)工藝、運(yùn)行正常工藝、取消工藝、暫停工藝、恢復(fù)工藝、終止工藝、工藝運(yùn)行成功、工藝菜單完成、關(guān)機(jī)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的管理方法，其特征在于，所述半導(dǎo)體設(shè)備為單片硅外延設(shè)備。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的管理方法，其特征在于，還包括：更新所述工藝運(yùn)行狀態(tài)隊(duì)列和/或所述事件列表和/或所述轉(zhuǎn)換函數(shù)；更新所述二維狀態(tài)轉(zhuǎn)換表；對(duì)所述二維狀態(tài)轉(zhuǎn)換表的更新部分查詢(xún)，相應(yīng)生成新的所述狀態(tài)源臨時(shí)管理文件并替換之前由所述二維狀態(tài)轉(zhuǎn)換表被更新部分所生成的所述狀態(tài)源臨時(shí)管理文件；以及將全部所述狀態(tài)源臨時(shí)管理文件合并生成新的動(dòng)態(tài)配置管理文件。6.一種半導(dǎo)體設(shè)備工藝運(yùn)行狀態(tài)的管理裝置，其特征在于，包括：狀態(tài)事件構(gòu)建...

【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：周法福，
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人：北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司，
類(lèi)型：發(fā)明
國(guó)別省市：北京;11