掩模框架組件、其制造方法及有機發光顯示裝置制造方法制造方法及圖紙

本發明專利技術公開了掩模框架組件、其制造方法和有機發光顯示裝置的制造方法。本發明專利技術的一實施方式涉及將掩模與框架接合為一體以使得待被沉積到襯底上的沉積物質選擇性地通過的掩模框架組件，所述掩模框架組件的特征在于包括具有供沉積物質通過的沉積區域的掩模、具有基座部和從基座部凸出形成并支承掩模的支承部的框架，并且掩模的邊角形成為朝著基座部彎曲。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術的實施方式涉及掩模框架組件、其制造方法及有機發光顯示裝置的制造方法。
技術介紹
通常，作為有源發光型顯示元件，作為平坦式顯示器之一的有機發光顯示裝置不僅具有視角寬、對比度優異的優點，而且還具有能夠通過低電壓驅動、呈輕量的扁平狀并且響應速度快的優點，由此作為下一代顯示元件而備受矚目。這種發光元件根據形成發光層的物質劃分為無機發光元件和有機發光元件，并且相比于無機發光元件，有機發光元件具有亮度、響應速度等特性優秀、能夠以彩色顯示等的優點，因此對其的開發最近廣為進行。有機發光顯示裝置通過真空沉積法形成有機膜和/或電極。然而，隨著有機發光顯示裝置逐漸被高分辨率化，沉積工藝中所用的掩模的開放式狹縫(open slit)的寬度逐漸變窄并且其散布也需要被進一步減小。此外，為了制造高分辨率有機發光顯示裝置，需要減少或去除陰影現象(shadow effect)。為此，在襯底與掩模緊貼的狀態下進行沉積工藝，并且正在興起用于改善襯底與掩模的附接度的技術的開發。上述的
技術介紹
是專利技術人為得出本專利技術而擁有的技術信息或者在得出過程中習得的技術信息，并不一定是在本專利技術的實施方式的申請前已公開于一般公眾的公知技術。
技術實現思路
本專利技術的實施方式提供掩模框架組件、其制造方法和有機發光顯示裝置的制造方法。本專利技術的實施方式公開了掩模框架組件，其特征在于包括具有供沉
積物質通過的一個以上的沉積區域的掩模、具有基座部和從基座部凸出形成并支承掩模的支承部的框架，并且掩模的邊角形成為朝著基座部彎曲。在本實施方式中，沉積區域可以包括外圍區域由支承部支承的主體部和形成于主體部并且供沉積物質通過的一個以上的圖案部。在本實施方式中，主體部的外圍區域的邊角可以形成為朝著基座部的方向彎曲。在本實施方式中，框架還可以包括形成為連接支承部的面對掩模的面與基座部的面對掩模的面并且支承掩模的連接面。在本實施方式中，沉積區域可以包括外圍區域由支承部支承的主體部和形成于主體部并且供沉積物質通過的一個以上的圖案部。在本實施方式中，主體部的外圍區域的邊角可以形成為朝著連接面的方向彎曲。在本實施方式中，連接面中可以形成有一個以上的凹陷部。在本實施方式中，沉積區域可以包括外圍區域由支承部支承的主體部和形成于主體部并且供沉積物質通過的一個以上的圖案部。在本實施方式中，主體部的外圍區域的邊角可以形成為朝著凹陷部的方向彎曲。本專利技術的另一實施方式公開了掩模框架組件制造方法，該方法包括準備包括基座部和從基座部凸出的支承部的框架的步驟；準備包括供沉積物質通過的沉積區域和與沉積區域連接而成的盈余區域的掩模的步驟；將掩模對齊到框架上的步驟；用模具部從掩模與框架接觸的面的相反側對掩模施壓而將掩模的形狀變形為與框架的形狀相對應的步驟；以及對盈余區域進行切割的步驟。在本實施方式中，在將掩模對齊到框架上的步驟中，可以將沉積區域與盈余區域相接的界面定位到基座部上。在本實施方式中，框架還可以包括形成為連接支承部的面對掩模的面與基座部的面對掩模的面并且支承掩模的連接面。在本實施方式中，在將掩模對齊到框架上的步驟中，可以將沉積區域與盈余區域相接的界面定位到連接面上。在本實施方式中，連接面中可以形成有一個以上的凹陷部。在本實施方式中，在將掩模對齊到框架上的步驟中，可以將沉積區域與盈余區域相接的界面定位到凹陷部上。在本實施方式中，作為切割盈余區域的方法，可以將激光照射到沉積區域與盈余區域的界面。在本實施方式中，作為切割盈余區域的方法，可以用機械式切割器(mechanical cutter)對沉積區域與盈余區域的界面進行切割。在本實施方式中，在將掩模對齊到框架上的步驟與用模具部對掩模施壓的步驟之間還可以包括對框架與掩模進行接合的步驟。本專利技術的又一實施方式公開了有機發光顯示裝置的制造方法，該方法包括將襯底和掩模框架組件安裝到腔室內部的步驟；對襯底與掩模框架組件進行對齊的步驟；以及通過掩模框架組件的開口部將從沉積源噴射的沉積物質沉積到襯底上的步驟，并且掩模框架組件包括具有供沉積物質通過的一個以上的沉積區域的掩模和具有基座部和從所述基座部凸出形成并支承掩模的支承部的框架，并且掩模的邊角形成為朝著基座部彎曲。通過權利要求范圍和專利技術的詳細說明，除了上述以外的其他方面、特征、優點將變得明確。根據本專利技術的實施方式，掩模框架組件、其制造方法和有機發光顯示裝置的制造方法提升了襯底與掩模的緊貼性，從而可以將沉積物質精密地沉積到襯底上。附圖說明圖1是示出根據本專利技術的實施方式的掩模框架組件的分解立體圖。圖2至圖7是示出根據本專利技術的實施方式的掩模框架組件的制造方法的剖視圖。圖8是示出使用圖1中所示的掩模框架組件制造的有機發光顯示裝置的視圖。具體實施方式本專利技術可以實施多種變型并且可以具有多種實施方式，并且旨在附圖中示出特定實施方式并對其進行詳細說明。通過參照結合附圖詳細說明的實施方式，本專利技術的效果和特征以及實現其的方法將變得明確。然而，本專利技術并不限于下面所公開的實施方式，而是可以多種形態實現。在下面的實施方式中，“第一”、“第二”等的措辭并不具有限定的含義，而是以將一個構成要素與其他構成要素區分開的目的使用。此外，除非文中另有明確指示，否則單數的表述包括復數的表述。此外，“包括”或“具有”等的措辭是指說明書中所述記載的特征或構成要素的存在，而不是提前排除一個以上的其他特征或構成要素的附加可能性。此外，為了說明的便利，附圖中構成要素的大小可以被夸大或被縮小。例如，為了說明的便利，附圖中所示的各構件的大小和厚度被任意示出，因此本專利技術并不一定限定于圖中所示。此外，當能夠以不同的方式實現某些實施方式時，特定的工藝可以按照與所說明的順序不同的順序執行。例如，連續說明的兩個工藝可以實質上同時執行，也可以按照與所說明的順序相反的順序進行。下面，將參照附圖對本專利技術的實施方式進行詳細說明，并且在參照附圖進行說明時，將對相同或對應的構成要素賦予相同的附圖標記，并且將省略對其的重復描述。圖1是示出根據本專利技術的實施方式的掩模框架組件10的分解立體圖。參照圖1，掩模框架組件10包括掩模100和框架200，并且掩模100與框架200接合為一體以使得待被沉積到襯底(未示出)上的沉積物質可以選擇性地通過。掩模100可以包括供沉積物質通過的沉積區域110、將在下文中描述的在掩模框架組件10的制造過程中待被切割的盈余區域120和接合掩模100與框架200的焊接部130。沉積區域110可以包括外圍區域由框架200的支承部220支承的主體部112和以孔(hole)或狹縫(slit)形狀形成于主體部112并且供沉積物質通過的一個以上的圖案部111。沉積區域110被布置成與框架200的開口部230對應，圖案部111形成貫穿掩模100的沉積用圖案。主體部112被形成在各個圖案部111之間以及
沉積區域110的外圍，從而執行阻擋從沉積源(未示出)放射的沉積物質的作用。因此，從沉積源放射的沉積物質通過圖案部111沉積到襯底上，這意味著沉積到襯底上的沉積物質的排列可以根據圖案部111的形狀而有所不同。也就是說，圖案部111不僅可以形成為如圖1中所示的條紋(stripe)形態，而且還可以形成為例如多個點狀(dot)形態。因此，圖1中所示的圖案部111的數量本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種掩模框架組件，包括：掩模，包括供沉積物質通過的一個以上的沉積區域；以及框架，包括基座部和從所述基座部凸出形成并支承所述掩模的支承部，其中，所述掩模的邊角形成為朝著所述基座部彎曲。

【技術特征摘要】
2014.10.24 KR 10-2014-01453961.一種掩模框架組件，包括：掩模，包括供沉積物質通過的一個以上的沉積區域；以及框架，包括基座部和從所述基座部凸出形成并支承所述掩模的支承部，其中，所述掩模的邊角形成為朝著所述基座部彎曲。2.如權利要求1所述的掩模框架組件，其中，所述沉積區域包括：主體部，其外圍區域由所述支承部支承；以及一個以上的圖案部，形成于所述主體部并且供沉積物質通過。3.如權利要求2所述的掩模框架組件，其中，所述主體部的所述外圍區域的邊角形成為朝著所述基座部的方向彎曲。4.如權利要求1所述的掩模框架組件，其中，所述框架還包括：連接面，形成為連接所述支承部的面對所述掩模的面與所述基座部的面對所述掩模的面，并且支承所述掩模。5.如權利要求4所述的掩模框架組件，其中，所述沉積區域包括：主體部，其外圍區域由所述支承部支承；以及一個以上的圖案部，形成于所述主體部并且供沉積物質通過。6.如權利要求5所述的掩模框架組件，其中，所述主體部的所述外圍區域的邊角形成為朝著所述連接面的方向彎曲。7.如權利要求4所述的掩模框架組件，其中，所述連接面中形成有一個以上的凹陷部。8.如權利要求7所述的掩模框架組件，其中，所述沉積區域包括：主體部，其外圍區域由所述支承部支承；以及一個以上的圖案部，形成于所述主體部并且供沉積物質通過。9.如權利要求8所述的掩模框架組件，其中，所述主體部的所述外圍區域的邊角形成為朝著所述凹陷部的方向彎曲。10.一種掩模框架組件制造方法，包括：準備包括基座部和從所述基座部凸出的支承部的框架的步驟；準備包括供沉積物質通過的沉積區域和與所述沉積區域連接而成的盈余區域的掩模的步驟；將所述掩模對齊到所述框架上的步驟；用模具部從所述掩模與所述框架接觸的面的相反側對所述掩模施壓而將所述掩模的形狀變形為與所...

【專利技術屬性】
技術研發人員：韓政洹，
申請(專利權)人：三星顯示有限公司，
類型：發明
國別省市：韓國;KR