一種用加熱板加熱的真空烤箱制造技術(shù)

本實(shí)用新型專(zhuān)利技術(shù)公開(kāi)了一種用加熱板加熱的真空烤箱，包括外殼和置于外殼內(nèi)的箱體，所述箱體的正面設(shè)有密封箱門(mén)，所述箱體的內(nèi)腔沿著箱體的上下方向設(shè)有多層間隔設(shè)置的加熱板，所述箱體的后壁設(shè)有分布在各加熱板的上側(cè)的通孔，所述通孔在箱體的后壁外部連接有管體，所述管體的末端安裝有真空法蘭，其中一個(gè)通孔所連接的管體末端的真空法蘭連接有抽真空管路。本實(shí)用新型專(zhuān)利技術(shù)的用加熱板加熱的真空烤箱，能保證烤箱溫度達(dá)到150℃時(shí)，溫度均勻度達(dá)到±5％℃，且氣密性好，可使得箱體內(nèi)抽真空度可達(dá)到1torr，從而可烘烤出質(zhì)量高的產(chǎn)品，可烘烤出質(zhì)量高的產(chǎn)品。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本技術(shù)涉及一種烤箱，尤其涉及一種用加熱板加熱的真空烤箱。
技術(shù)介紹
傳統(tǒng)的烤箱是通過(guò)向烤箱腔體內(nèi)吹熱風(fēng)來(lái)對(duì)工作物進(jìn)行烘烤的，這種烤箱由于不是真空烤箱，因此存在的缺點(diǎn)是：溫度均勻性不好，烘烤的產(chǎn)品質(zhì)量不高。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本技術(shù)的目的是提供一種用加熱板加熱的真空烤箱，能保證烤箱溫度達(dá)到150℃時(shí)，溫度均勻度達(dá)到±5％℃，且氣密性好，可使得箱體內(nèi)抽真空度可達(dá)到1torr，可烘烤出質(zhì)量高的產(chǎn)品。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本技術(shù)提供一種用加熱板加熱的真空烤箱，包括外殼和置于外殼內(nèi)的箱體，所述箱體的正面設(shè)有密封箱門(mén)，所述箱體的內(nèi)腔沿著箱體的上下方向設(shè)有多層間隔設(shè)置的加熱板，所述箱體的后壁設(shè)有分布在各加熱板的上側(cè)的通孔，所述通孔在箱體的后壁外部連接有管體，所述管體的末端安裝有真空法蘭，其中一個(gè)通孔所連接的管體末端的真空法蘭連接有抽真空管路。作為本技術(shù)的進(jìn)一步改進(jìn)，所述通孔從箱體的左側(cè)至右側(cè)分為第一列、第二列、第三列、第四列和第五列，其中，第一列和第五列通孔數(shù)量相同且一一對(duì)應(yīng)，第三列和第四列通孔數(shù)量相同且一一對(duì)應(yīng)，第三列和第四列通孔的數(shù)量少于第一列和第二列通孔的數(shù)量，第二列通孔數(shù)量少于第三列通孔數(shù)量。作為本技術(shù)的更進(jìn)一步改進(jìn)，所述第一列和第五列通孔的數(shù)量均為六個(gè)且每個(gè)加熱板的上側(cè)均有第一列的一個(gè)通孔和第五列的一個(gè)通孔，第三列和
第四列通孔的數(shù)量均為三個(gè)，第三列通孔中的每相鄰的兩個(gè)通孔之間有兩塊加熱板，且位于最下層的加熱板的上側(cè)有第三列的一個(gè)通孔和第四列的一個(gè)通孔，第二列通孔的數(shù)量為一個(gè)且位于最下層的加熱板的上側(cè)。作為本技術(shù)的更進(jìn)一步改進(jìn)，所述加熱板等間隔設(shè)置。作為本技術(shù)的更進(jìn)一步改進(jìn)，所述真空法蘭為KF法蘭。作為本技術(shù)的更進(jìn)一步改進(jìn)，所述外殼的底部設(shè)有滾輪和支撐腳。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本技術(shù)的用加熱板加熱的真空烤箱的有益效果如下：(1)通過(guò)采用加熱板加熱烘烤，烘烤時(shí)工作物置于加熱板的表面，加熱板的溫度均勻度高，能保證烤箱溫度達(dá)到150℃時(shí)，溫度均勻度達(dá)到±5％℃，從而可烘烤出質(zhì)量高的產(chǎn)品。(2)采用真空法蘭，可使得箱體內(nèi)抽真空度可達(dá)到1torr，從而可烘烤出質(zhì)量高的產(chǎn)品。(3)真空法蘭采用KF法蘭，可保證氣密性，避免影響烤箱內(nèi)的溫度均勻性，保證產(chǎn)品烘烤質(zhì)量。(4)加熱板等間隔設(shè)置，從而可使得烤箱內(nèi)溫度均勻度高，保證產(chǎn)品烘烤質(zhì)量。通過(guò)以下的描述并結(jié)合附圖，本技術(shù)將變得更加清晰，這些附圖用于解釋本技術(shù)的實(shí)施例。附圖說(shuō)明圖1為真空烤箱的立體圖。圖2為箱體的立體圖。圖3為箱體的主視圖。具體實(shí)施方式現(xiàn)在參考附圖描述本技術(shù)的實(shí)施例，附圖中類(lèi)似的元件標(biāo)號(hào)代表類(lèi)似
的元件。請(qǐng)參考圖1-3，所述的用加熱板加熱的真空烤箱包括外殼1和置于外殼1內(nèi)的箱體2，所述箱體2的正面設(shè)有密封箱門(mén)3。所述箱體2的內(nèi)腔沿著箱體2的上下方向設(shè)有多層間隔設(shè)置的加熱板21，加熱板21能保證烤箱溫度達(dá)到150℃時(shí)，溫度均勻度達(dá)到±5％℃。所述箱體2的后壁設(shè)有分布在各加熱板的上側(cè)的通孔22，所述通孔22在箱體2的后壁外部連接有管體23，所述管體23的末端安裝有真空法蘭，其中一個(gè)通孔22所連接的管體23末端的真空法蘭連接有抽真空管路24。真空法蘭可使得箱體內(nèi)抽真空度可達(dá)到1torr。具體而言，部分通孔22作為電源線(xiàn)、傳感器線(xiàn)的接線(xiàn)孔，所述通孔22從箱體2的左側(cè)至右側(cè)分為第一列、第二列、第三列、第四列和第五列，其中，第一列和第五列通孔數(shù)量相同且一一對(duì)應(yīng)，第三列和第四列通孔數(shù)量相同且一一對(duì)應(yīng)，第三列和第四列通孔的數(shù)量少于第一列和第二列通孔的數(shù)量，第二列通孔數(shù)量少于第三列通孔數(shù)量。所述第一列和第五列通孔的數(shù)量均為六個(gè)且每個(gè)加熱板21的上側(cè)均有第一列的一個(gè)通孔和第五列的一個(gè)通孔，第三列和第四列通孔的數(shù)量均為三個(gè)，第三列通孔中的每相鄰的兩個(gè)通孔之間有兩塊加熱板21，且位于最下層的加熱板21的上側(cè)有第三列的一個(gè)通孔和第四列的一個(gè)通孔，第二列通孔的數(shù)量為一個(gè)且位于最下層的加熱板21的上側(cè)。所述加熱板21等間隔設(shè)置。所述真空法蘭為KF法蘭，可保證氣密性。所述外殼1的底部設(shè)有滾輪11和支撐腳12，滾輪11方便移動(dòng)，支撐腳12可保持穩(wěn)定。使用時(shí)，將抽真空管路24連接至抽真空泵，對(duì)箱體2抽真空，將工作物置于加熱板21的表面，對(duì)工作物進(jìn)行烘烤，由于加熱板21的溫度均勻度高，能保證烤箱溫度達(dá)到150℃時(shí)，溫度均勻度達(dá)到±5％℃。各加熱板21的溫度可獨(dú)立控制，也能夠保證烤箱內(nèi)溫度的均勻性。以上結(jié)合最佳實(shí)施例對(duì)本技術(shù)進(jìn)行了描述，但本技術(shù)并不局限于以上揭示的實(shí)施例，而應(yīng)當(dāng)涵蓋各種根據(jù)本技術(shù)的本質(zhì)進(jìn)行的修改、等效組合。本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種用加熱板加熱的真空烤箱，包括外殼和置于外殼內(nèi)的箱體，所述箱體的正面設(shè)有密封箱門(mén)，其特征在于：所述箱體的內(nèi)腔沿著箱體的上下方向設(shè)有多層間隔設(shè)置的加熱板，所述箱體的后壁設(shè)有分布在各加熱板的上側(cè)的通孔，所述通孔在箱體的后壁外部連接有管體，所述管體的末端安裝有真空法蘭，其中一個(gè)通孔所連接的管體末端的真空法蘭連接有抽真空管路。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種用加熱板加熱的真空烤箱，包括外殼和置于外殼內(nèi)的箱體，所述箱體的正面設(shè)有密封箱門(mén)，其特征在于：所述箱體的內(nèi)腔沿著箱體的上下方向設(shè)有多層間隔設(shè)置的加熱板，所述箱體的后壁設(shè)有分布在各加熱板的上側(cè)的通孔，所述通孔在箱體的后壁外部連接有管體，所述管體的末端安裝有真空法蘭，其中一個(gè)通孔所連接的管體末端的真空法蘭連接有抽真空管路。2.如權(quán)利要求1所述的用加熱板加熱的真空烤箱，其特征在于：所述通孔從箱體的左側(cè)至右側(cè)分為第一列、第二列、第三列、第四列和第五列，其中，第一列和第五列通孔數(shù)量相同且一一對(duì)應(yīng)，第三列和第四列通孔數(shù)量相同且一一對(duì)應(yīng)，第三列和第四列通孔的數(shù)量少于第一列和第二列通孔的數(shù)量，第二列通孔數(shù)量少于第三列通...

【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：田丹丹，陳海軍，
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人：志圣科技廣州有限公司，
類(lèi)型：新型
國(guó)別省市：廣東;44