基于自然伽馬基線的注水井吸水剖面測量方法技術

本發明專利技術提供一種基于自然伽馬基線的注水井吸水剖面測量方法，包括：根據注水井的自然伽馬基線選擇同位素示蹤劑的放射性強度；根據同位素示蹤劑的放射性強度匹配對應的目標同位素示蹤劑，并將目標同位素示蹤劑釋放到注水井中；采用下井儀在注水井中快速追蹤目標同位素示蹤劑，并獲取同位素伽馬峰值曲線；根據自然伽馬基線以及同位素伽馬峰值曲線獲取注水井的吸水剖面，本發明專利技術提供的基于自然伽馬基線的注水井吸水剖面測量方法，根據注水井的自然伽馬基線選擇同位素示蹤劑的放射性強度，可以滿足自然伽馬基線高幅度異常的注水井在測井時對自然伽馬基線與同位素伽馬峰值曲線放射性強度差異幅度的需求。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及放射性測井
，尤其涉及一種基于自然伽馬基線的注水井吸水剖面測量方法。
技術介紹
隨著油田開發時間的推移，油層壓力逐漸下降，為了能夠保證油田長期穩定的開發，需要給地層補充能量，以保持油層的壓力。目前主要采用向油層中注水的方法，從而實現保持油層壓力的目的。因此，油田開發時除了鉆一批采油井外，還要鉆一批注水井。為了了解注水井注水狀況，需要測吸水剖面，從而了解各個層的絕對注水量。現有技術中，通常采用傳統同位素吸水剖面測井方法，具體地，首先采用伽馬儀測得注水井的自然伽馬基線，然后，在注水條件下向井內注入放射性同位素，隨著注入水的流入，放射性同位素濾積在注水層表面，此時采用伽馬儀測得注水井的伽馬曲線，通過將釋放放射性同位素之后測得的注水井中的伽馬曲線與釋放放射性同位素之前測得的注水井中的自然伽馬基線進行對比，找出放射性同位素在井中的分布情況，并確定注水井的吸水狀況。但是，采用現有技術，在進行同位素吸水剖面測井時，如果遇到自然伽馬基線高幅度異常的注水井，無法準確地判斷地層吸水量。
技術實現思路
本專利技術提供一種基于自然伽馬基線的注水井吸水剖面測量方法，用以解決現有技術中自然伽馬基線高幅度異常的注水井無法采用同位素吸水剖面測井準確地判斷地層吸水量的問題。本專利技術提供一種基于自然伽馬基線的注水井吸水剖面測量方法，包括：根據注水井的自然伽馬基線選擇同位素示蹤劑的放射性強度；根據所述同位素示蹤劑的放射性強度匹配對應的目標同位素示蹤劑，并 將所述目標同位素示蹤劑釋放到所述注水井中；采用下井儀在所述注水井中快速追蹤所述目標同位素示蹤劑，并獲取同位素伽馬峰值曲線；根據所述自然伽馬基線以及所述同位素伽馬峰值曲線獲取所述注水井的吸水剖面。在本專利技術一實施例中，所述根據注水井的自然伽馬基線選擇同位素示蹤劑的放射性強度，包括：采用公式 p = 0.83 × l / 100 + ( h - 15 ) × 0.05 , h ≥ 15 0.83 × l / 100 , h 15 ]]>計算所述同位素示蹤劑的放射性強度，其中，p表示所述同位素示蹤劑的放射性強度，l表示所述自然伽馬基線的放射性強度，h表示所述注水井中射孔段的厚度。在本專利技術一實施例中，所述根據注水井的自然伽馬基線選擇同位素示蹤劑的放射性強度之前，還包括：將下井儀在注水井中測得的伽馬曲線作為自然伽馬基線。在本專利技術一實施例中，所述采用下井儀在所述注水井中快速追蹤所述目標同位素示蹤劑，并獲取同位素伽馬峰值曲線，包括：步驟A：采用所述下井儀在所述注水井中快速追蹤所述目標同位素示蹤劑，所述下井儀在所述注水井中的第一位置獲取第一同位素伽馬峰值曲線的峰值；步驟B：移動所述下井儀，所述下井儀繼續快速追蹤所述目標同位素示蹤劑，所述下井儀在所述注水井中的第二位置獲取第二同位素伽馬峰值曲線的峰值；重復執行步驟B，獲取所述注水井中N個位置的N個同位素伽馬峰值曲線的峰值，直到所述下井儀追蹤不到所述目標同位素示蹤劑。在本專利技術一實施例中，所述根據所述自然伽馬基線以及所述同位素伽馬峰值曲線獲取所述注水井的吸水剖面，包括：根據所述N個同位素伽馬峰值曲線的峰值，計算所述目標同位素示蹤劑的流速；根據所述目標同位素示蹤劑的流速，計算所述注水井的水流量；根據所述注水井的水流量，獲取所述注水井的吸水剖面。在本專利技術一實施例中，所述根據所述N個同位素伽馬峰值曲線的峰值， 計算所述目標同位素示蹤劑的流速，包括：根據所述N個同位素伽馬峰值曲線的峰值中連續相鄰的2個同位素伽馬峰值曲線的峰值，計算所述目標同位素示蹤劑在所述注水井中不同位置的流速。在本專利技術一實施例中，所述根據所述N個同位素伽馬峰值曲線的峰值中連續相鄰的2個同位素伽馬峰值曲線的峰值，計算所述目標同位素示蹤劑在所述注水井中不同位置的流速，包括：采用公式計算所述目標同位素示蹤劑在所述注水井中不同位置的流速，其中，Va表示所述目標同位素示蹤劑在所述注水井中的流速，ΔH表示所述N個同位素伽馬峰值曲線的峰值中連續相鄰的2個同位素伽馬峰值曲線的峰值對應所述注水井中位置的深度差，Δt表示所述下井儀追蹤到所述連續相鄰的2個同位素伽馬峰值曲線的峰值的時間差。在本專利技術一實施例中，所述將所述目標同位素示蹤劑釋放到所述注水井中，包括：在射孔段上方將所述目標同位素示蹤劑釋放到所述注水井中。在本專利技術一實施例中，所述同位素示蹤劑為液體同位素示蹤劑。本專利技術提供的基于自然伽馬基線的注水井吸水剖面測量方法，根據注水井的自然伽馬基線選擇同位素示蹤劑的放射性強度，可以滿足自然伽馬基線高幅度異常的注水井在測井時對自然伽馬基線與同位素伽馬峰值曲線放射性強度差異幅度的需求。附圖說明為了更清楚地說明本專利技術實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作一簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本專利技術的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本專利技術提供的基于自然伽馬基線的注水井吸水剖面測量方法實施例一的流程示意圖；圖2為本專利技術提供的基于自然伽馬基線的注水井吸水剖面測量方法實施例二的流程示意圖；圖3為本專利技術提供的基于自然伽馬基線的注水井吸水剖面測量方法實施 例三的流程示意圖；圖4為本專利技術提供的基于自然伽馬基線的注水井吸水剖面測量方法實施例四的流程示意圖。具體實施方式為使本專利技術實施例的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合本專利技術實施例中的附圖，對本專利技術實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本專利技術一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本專利技術中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本專利技術保護的范圍。圖1為本專利技術提供的基于自然伽馬基線的注水井吸水剖面測量方法實施例一的流程示意圖，該方法包括：S101、根據注水井的自然伽馬基線選擇同位素示蹤劑的放射性強度。需要說明的是，在進行同位素示蹤劑的放射性強度選擇時，根據注水井的自然伽馬基線的放射性強度選擇同位素示蹤劑的放射性強度。S1本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種基于自然伽馬基線的注水井吸水剖面測量方法，其特征在于，包括：根據注水井的自然伽馬基線選擇同位素示蹤劑的放射性強度；根據所述同位素示蹤劑的放射性強度匹配對應的目標同位素示蹤劑，并將所述目標同位素示蹤劑釋放到所述注水井中；采用下井儀在所述注水井中快速追蹤所述目標同位素示蹤劑，并獲取同位素伽馬峰值曲線；根據所述自然伽馬基線以及所述同位素伽馬峰值曲線獲取所述注水井的吸水剖面。

【技術特征摘要】
1.一種基于自然伽馬基線的注水井吸水剖面測量方法，其特征在于，包括：根據注水井的自然伽馬基線選擇同位素示蹤劑的放射性強度；根據所述同位素示蹤劑的放射性強度匹配對應的目標同位素示蹤劑，并將所述目標同位素示蹤劑釋放到所述注水井中；采用下井儀在所述注水井中快速追蹤所述目標同位素示蹤劑，并獲取同位素伽馬峰值曲線；根據所述自然伽馬基線以及所述同位素伽馬峰值曲線獲取所述注水井的吸水剖面。2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據注水井的自然伽馬基線選擇同位素示蹤劑的放射性強度，包括：采用公式 p = 0.83 × l / 100 + ( h - 15 ) × 0.05 , h ≥ 15 0.83 × l / 100 , h < 15 ]]>計算所述同位素示蹤劑的放射性強度，其中，p表示所述同位素示蹤劑的放射性強度，l表示所述自然伽馬基線的放射性強度，h表示所述注水井中射孔段的厚度。3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述根據注水井的自然伽馬基線選擇同位素示蹤劑的放...

【專利技術屬性】
技術研發人員：伍軼鳴，宋中華，潘昭才，劉勇，于志楠，李洪，田新建，劉敏，劉慧榮，陳蘭，黃倩，趙丹陽，姜許健，盧忠沅，周小平，秦民君，路云峰，裴陽，安秀榮，楊立華，趙雨，崔紅珠，笱順超，王璇，王中濤，
申請(專利權)人：中國石油天然氣股份有限公司，
類型：發明
國別省市：北京;11