氣體降塵、混配一體化均配器裝置與降塵、混配方法制造方法及圖紙

本發明專利技術涉及氣體降塵、混配一體化均配器裝置與降塵、混配方法，所述裝置包括一個帶有氣體進口與氣體出口的密閉容器，該容器內設有塵降室、充氣室、均配室。塵降室和均配室之間由充氣室向下的氣體噴射通道隔開，氣體噴射通道下端出口設有垂直向下噴射的氣幕分配器二；塵降室通向均配室的出氣口設有水平向均配室噴射的氣幕分配器一，充氣室的側面設有斜向均配室噴射的氣幕分配器三，充氣管左右兩側的充氣室內由調節氣體流量或改變氣體流向與噴出方向的分腔插板閥間隔成若干隔離室。被混配的氣體介質通過壓下結構形式，經氣幕分配器進行氣流等速交叉混配，達到混合均勻的效果。通過氣體成分分析儀在線監測，調整不同介質氣體的流速與流量。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及氣體混合、凈化治理行業的一種氣體降塵、混配一體化均配裝置系統及降塵、均勻混配的方法，尤其適用于氧化法煙氣脫硫脫硝的煙氣與氧化劑氣體混配工藝。
技術介紹
不同介質的氣體混配工藝廣泛應用于工業、農業、軍工、科研等各領域。氣體混配的均勻性及精準的濃度含量等指標直接影響著某些特定的生產、制氣工藝或氣體凈化治理的效果。目前，各行業的應用領域中，廣泛存在著因兩種或多種氣體混合不完全、不均勻、不可控而嚴重影響制氣、氣體凈化治理工藝或混合氣體產品性能的現象；而某些引進的技術與裝備又特別昂貴，影響著國內相關行業、企業的氣體混合、制氣、氣體凈化治理工藝技術的可持續發展。因此，開發一種節能、環保，實用、性價比經濟的氣體混合均配裝置系統及降塵、均勻混配的方法很有必要。該裝置系統在滿足生產工藝氣體混配要求的同時，具備氣體降塵、均配混合、凈化治理一體化的功能，工藝簡單，控制精準。
技術實現思路
本專利技術所要解決的技術問題是提供滿足氣體混配均勻的一種降塵、混配一體化均配裝置系統和降塵、氣幕均配的工藝方法，具有簡單、實用、低成本，且節能、環保、無公害的新型裝置。為實現上述目的，本專利技術采用以下技術方案實現：氣體降塵、混配一體化均配器裝置，包括一個帶有氣體進口與氣體出口的密閉容器，該容器內設有塵降室、充氣室、均配室，主氣源進氣管與塵降室連接，出氣管與均配室連接，充氣管與充氣室連接，充氣室設置在均配室上方，塵降室和均配室之間由充氣室向下的氣體噴射通道隔開，氣體噴射通道下端出口設有垂直向下噴射的氣幕分配器二；塵降室通向均配室的出氣口設有水平向均配室噴射的氣幕分配器一，充氣室的側面設有斜向均配室噴射的氣幕分配器三，充氣管左右兩側的充氣室內由調節氣體流量或改變氣體流向與噴出方向的分腔插板閥間隔成若干隔離室，均配室內設有扼流板，扼流板與充氣室底部之間的氣體通道上設有氣體成分分析儀監測點，出氣管內設有出口混合氣體成分分析儀監測點。所述的塵降室內設有節流隔板。所述的塵降室下方設有一次降塵斗，均配室下方設有二次降塵斗，一次降塵斗和二次降塵斗的上部均設有插板閥，下部均設有卸灰閥。所述的氣幕分配器一、氣幕分配器二、氣幕分配器三上均設有用于氣體通過的孔隙。所述的密閉容器由金屬材料焊接而成。一種氣體降塵、混配一體化的均配方法，主氣源由進氣管進入降塵室，氣體擴容，流速減慢并撞擊降塵室內的節流隔板，氣體被重力降塵即一次降塵，排出的粉塵進入一次降塵斗內，經一次降塵后的氣體通過折返壓下，經氣幕分配器一水平噴射進入均配室；被混合氣體由充氣管進入充氣室，通過調節充氣室內分腔插板閥，控制均配室內主氣源氣體和被混合氣體的混配形式，進入均配室的氣體經過扼流板二次降塵，排出的粉塵進入二次降塵斗內，氣體混配的效果與混配參數控制由相應配置的氣體成分分析儀來監測，降塵室和均配室需要排灰時，將一次降塵斗和二次降塵斗上方的插板閥關閉，將降塵斗下方的卸灰閥打開，保證裝置的氣密性；均配室內氣體的混配包括以下形式：1)關閉所有分腔插板閥，不予混配氣體；2)只開啟充氣管左側的分腔插板閥，被混配氣體由充氣室的氣體噴射通道向下經氣幕分配器二垂直與經氣幕分配器一噴射的主氣源氣體氣流等速交叉混合，進行混配；3)只開啟充氣管右側的分腔插板閥，被混配氣體則由充氣室的側面出氣口經氣幕分配器三斜向噴射與主氣源氣體交叉混配；4)通過不同程度開啟充氣管左、右兩側的分腔插板閥，被混配氣體可以由充氣室出氣通道向下與主氣源氣體進行一次混配，同時被混配氣體可以由充氣室的側面出氣口噴射與一次混配氣體進行二次交叉混配。與現有的技術相比，本專利技術的有益效果是：1.降塵室采用突擴重力沉降結構設計，降塵室內有節流隔板，一是在降塵室內放緩氣體流速，產生重力沉降；同時通過節流隔板扼流氣體，粉塵、大顆粒再沉降，以便于均配室不同氣體間實現等速均勻混合，除塵后有益于進一步混配均勻。對于含塵量小的氣源介質，可以直接降塵達標排放；即使降塵不達標，在此也緩解了后續除塵器的壓力，可實現減少投資和節能降耗。2.被混配的氣體介質通過壓下結構形式，經氣幕分配器進行氣流等速交叉混配，達到混合均勻的效果。3.通過氣體成分分析儀在線監測，靈活調整不同介質氣體的流速與流量；通過混合氣體出氣口的氣體成分分析儀，控制調整全過程，達到混配均勻之功效。4.均配室通過扼流結構實現粉塵、顆粒的二次沉降，灰塵由二次沉降室的積灰斗排出。5.根據混配氣體的不同種類與數量，可由若干級混配與塵降單元組合來實現混配均勻與除塵的目標。6.全過程自動化，靈活適應工藝要求。生產過程中，可以隨時停止混配，也可以多級連續混配，按工藝需求完全實現間歇和連續混配自動轉換控制。7.尤其適用于氧化法脫硫脫硝的煙氣與氧化劑氣體混配工藝。附圖說明圖1為本專利技術的結構示意圖。圖中：容器1、降塵室2、插板閥一3、一次降塵斗4、卸灰閥5、節流隔板6、氣幕分配器一7、充氣室8、左分腔插板閥9、充氣管10、右分腔插板閥11、氣幕分配器二12、二次降塵斗13、插板閥二14、均配室15、扼流板16、氣體成分分析儀探針一17、氣幕分配器三18、主氣源進氣管19、出氣管20、氣體成分分析儀探針二21。具體實施方式下面結合附圖對本專利技術的具體實施方式進一步說明：如圖1，氣體降塵、混配一體化均配器裝置，包括由金屬材料焊接而成的密閉容器1，密閉容器1內設有降塵室2、充氣室8、均配室15，主氣源進氣管19與降塵室2連接，出氣管20與均配室15連接，充氣管10與充氣室8連接，充氣室8設置在均配室15上方，塵降室2和均配室15之間由充氣室向下的氣體噴射通道隔開，氣體噴射通道下端出口設有垂直向下噴射的氣幕分配器二12，氣幕分配器二12上設有被混配氣體通過的孔隙；降塵室2內設有節流隔板6，塵降室2通向均配室15的出氣口設有水平向均配室噴射的氣幕分配器一7，氣幕分配器一7上設有主氣源氣體通過的孔隙。充氣室8上方設有充氣管10，充氣室8內的充氣管10兩側設有左分腔插板閥9和右分腔插板閥11，用于調節充氣的氣體輸出流量或改變氣體流向與噴出方向。左分腔插板閥9和右分腔插板閥11將充氣室8分成三個隔離室，充氣室8的側面設有斜向均配室噴射的氣幕分配器三18，氣幕分配器三18上設有用于被混合氣體通過的孔隙。均配室15內設有扼流板16，扼流板16與充氣室8底部之間的通道有氣體成分分析儀探針一17伸入；出氣管20內有氣體成分分析儀探針二21伸入。降塵室2下方設有一次降塵斗4，均配室15下方設有二次降塵斗13，一次降塵斗4的上部設有插板閥一3，二次降塵斗13的上部設有插板閥二14，下部均設有卸灰閥5。一種氣體降塵、混配一體化的均配方法，主氣源由進氣管進入降塵室，氣體擴容，流速減慢并撞擊降塵室內的節流隔板，氣體被重力降塵即一次降塵，排出的粉塵進入一次降塵斗內，經一次降塵后的氣體通過折返壓下，經氣幕分配器一水平噴射進入均配室；被混合氣體由充氣管進入充氣室，通過調節充氣室內分腔插板閥，控制均配室內主氣源氣體和被混合氣體的混配形式，均配室內氣體的混配包括以下形式：1)在無需混配氣體時，關閉所有分腔插板閥，不予混配氣體；2)只開啟充氣管左側的分腔插板閥，被混配氣體由充氣室的氣體噴射通道向下經氣幕分配器二垂直與經氣幕分配器一噴射的主氣源氣體氣流等速交叉混合，進行本文檔來自技高網...

【技術保護點】
氣體降塵、混配一體化均配器裝置，其特征在于，包括一個帶有氣體進口與氣體出口的密閉容器，該容器內設有塵降室、充氣室、均配室，主氣源進氣管與塵降室連接，出氣管與均配室連接，充氣管與充氣室連接，充氣室設置在均配室上方，塵降室和均配室之間由充氣室向下的氣體噴射通道隔開，氣體噴射通道下端出口設有垂直向下噴射的氣幕分配器二；塵降室通向均配室的出氣口設有水平向均配室噴射的氣幕分配器一，充氣室的側面設有斜向均配室噴射的氣幕分配器三，充氣管左右兩側的充氣室內由調節氣體流量或改變氣體流向與噴出方向的分腔插板閥間隔成若干隔離室，均配室內設有扼流板，扼流板與充氣室底部之間的氣體通道上設有氣體成分分析儀監測點，出氣管內設有出口混合氣體成分分析儀監測點。

【技術特征摘要】
1.氣體降塵、混配一體化均配器裝置，其特征在于，包括一個帶有氣體進口與氣體出口的密閉容器，該容器內設有塵降室、充氣室、均配室，主氣源進氣管與塵降室連接，出氣管與均配室連接，充氣管與充氣室連接，充氣室設置在均配室上方，塵降室和均配室之間由充氣室向下的氣體噴射通道隔開，氣體噴射通道下端出口設有垂直向下噴射的氣幕分配器二；塵降室通向均配室的出氣口設有水平向均配室噴射的氣幕分配器一，充氣室的側面設有斜向均配室噴射的氣幕分配器三，充氣管左右兩側的充氣室內由調節氣體流量或改變氣體流向與噴出方向的分腔插板閥間隔成若干隔離室，均配室內設有扼流板，扼流板與充氣室底部之間的氣體通道上設有氣體成分分析儀監測點，出氣管內設有出口混合氣體成分分析儀監測點。2.根據權利要求1所述的氣體降塵、混配一體化均配器裝置，其特征在于，所述的塵降室內設有節流隔板。3.根據權利要求1所述的氣體降塵、混配一體化均配器裝置，其特征在于，所述的塵降室下方設有一次降塵斗，均配室下方設有二次降塵斗，一次降塵斗和二次降塵斗的上部均設有插板閥，下部均設有卸灰閥。4.根據權利要求1所述的氣體降塵、混配一體化均配器裝置，其特征在于，所述的氣幕分配器一、氣幕分配器二、氣幕分配器三上均設有用于氣體通過的孔隙。5.根據權利要求1所述的氣體降塵、混配一體化均配器裝置，其特征在于，...

【專利技術屬性】
技術研發人員：畢仕輝，門傳政，張世煜，王晨明，王復越，
申請(專利權)人：中鋼集團鞍山熱能研究院有限公司，
類型：發明
國別省市：遼寧;21