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    一種高頻微帶基片式隔離器制造技術(shù)

    技術(shù)編號:14367080 閱讀:155 留言:0更新日期:2017-01-09 13:15
    本實用新型專利技術(shù)公開了一種高頻微帶基片式隔離器,屬于微波通信技術(shù)領(lǐng)域,包括底座、尖晶石鐵氧體基片、電阻膜層、環(huán)行器微帶電路、S形微帶線和永磁體,本實用新型專利技術(shù)具有結(jié)構(gòu)簡單、體積小、重量輕,適用頻率更高,適合表面貼裝和微電路集成等特點。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

    本技術(shù)涉及一種微波通信
    的信號隔離器,尤其涉及一種高頻微帶基片式隔離器
    技術(shù)介紹
    微波通訊在日常生活、教育生產(chǎn)、軍事活動中的地位非常重要,而隨之而來需求對微波電子設(shè)備的發(fā)展有著極大的推動,更小型化、集成化的理念也對其中的鐵氧體隔離器產(chǎn)業(yè)產(chǎn)生影響,傳統(tǒng)的嵌入式隔離器已經(jīng)基本不能滿足系統(tǒng)貼片的需求,同時嵌入式隔離器適用的頻率范圍較低,不能滿足高頻范圍的需求,微帶基片式隔離器逐漸成為高頻段微小型的主流選擇,目前較為常見的微帶基片式隔離器的工作頻率都在20-40GHz左右,無法滿足更高頻率的需求。
    技術(shù)實現(xiàn)思路
    本技術(shù)針對現(xiàn)有技術(shù)的不足,旨在提供一種結(jié)構(gòu)簡單、適用于表面貼裝和微電路集成、并且滿足更高頻率范圍的工作要求,主要為50-70GHz頻率段的微帶基片式隔離器,解決了在50-70GHz的高頻頻率進行微帶基片式隔離的技術(shù)難題,并縮小了隔離器的體積,使其可以在有源相控陣雷達的一個陣面上放置更多的天線收發(fā)單元。為實現(xiàn)上述目的,本技術(shù)采用以下技術(shù)方案:一種高頻微帶基片式隔離器,包括底座、尖晶石鐵氧體基片、電阻膜層、環(huán)行器微帶電路、S形微帶線和永磁體,所述尖晶石鐵氧體基片的飽和磁矩為5000Gs,其上表面設(shè)置有電阻膜層和環(huán)行器微帶電路,所述環(huán)行器微帶電路的一只引腳與S形微帶線連接,S形微帶線設(shè)置在電阻膜層上,所述環(huán)行器微帶電路上設(shè)置有永磁體,所述尖晶石鐵氧體基片固定在底座上,所述S形微帶線的長度為8~10mm。所述尖晶石鐵氧體基片的厚度為0.15-0.2mm。所述環(huán)行器微帶電路通過光刻技術(shù)電鍍在所述尖晶石鐵氧體基片上表面。所述電阻膜層通過薄膜工藝設(shè)置在所述尖晶石鐵氧體基片上。所述尖晶石鐵氧體基片通過焊錫焊接在底座上。所述永磁體通過環(huán)氧樹脂膠合在所述環(huán)行器微帶電路上。所述尖晶石鐵氧體基片的厚度為0.15mm。本技術(shù)所述的一種高頻微帶基片式隔離器,實現(xiàn)了永磁體縱向磁化尖晶石鐵氧體基片,尖晶石鐵氧體基片邊緣磁化均勻,接地良好,并且由于底座與尖晶石鐵氧體基片的熱膨脹系數(shù)相當(dāng),能夠在焊接時保護尖晶石鐵氧體基片,降低了由于焊接而導(dǎo)致尖晶石鐵氧體基片開裂的風(fēng)險,提高了產(chǎn)品的可靠性,本技術(shù)的尖晶石鐵氧體基片上表面采取拋光處理,利用化學(xué)方法去油污以及雜質(zhì)粒子,物理方法對表面進行活化、去除吸附,保證電路膜層的附著力,本技術(shù)的高頻微帶基片式隔離器適用于表面貼裝技術(shù),并通過金絲鍵合技術(shù)與微波電路相連接,本技術(shù)與現(xiàn)有技術(shù)相比,采用長度為8~10mm的S形微帶線結(jié)構(gòu),可以更有效的匹配微波電路,提高隔離效果,并且S形微帶線結(jié)構(gòu)的尺寸小,具有在有源相控陣雷達的一個陣面上放置更多的天線收發(fā)單元的優(yōu)點。附圖說明圖1為本技術(shù)的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為本技術(shù)組裝后的示意圖。其中:1、底座,2、電阻膜層,3、環(huán)行器微帶電路,4、尖晶石鐵氧體基片,5、永磁體,6、S形微帶線。具體實施方式如圖1-2所示的一種高頻微帶基片式隔離器,包括底座1、尖晶石鐵氧體基片4、電阻膜層2、環(huán)行器微帶電路3、S形微帶線6和永磁體5,所述尖晶石鐵氧體基片4的飽和磁矩為5000Gs,其上表面設(shè)置有電阻膜層2和環(huán)行器微帶電路3,所述環(huán)行器微帶電路3的一只引腳與S形微帶線6連接,S形微帶線6設(shè)置在電阻膜層2上,所述環(huán)行器微帶電路3上設(shè)置有永磁體5,所述尖晶石鐵氧體基片4固定在底座1上,所述S形微帶線6的長度為8~10mm。所述尖晶石鐵氧體基片4的厚度為0.15-0.2mm。所述環(huán)行器微帶電路3通過光刻技術(shù)電鍍在所述尖晶石鐵氧體基片4上表面。所述電阻膜層2通過薄膜工藝設(shè)置在所述尖晶石鐵氧體基片4上。所述尖晶石鐵氧體基片4通過焊錫焊接在底座1上。所述永磁體5通過環(huán)氧樹脂膠合在所述環(huán)行器微帶電路3上。所述尖晶石鐵氧體基片4的厚度為0.15mm。工作時,所述飽和磁矩為5000Gs的尖晶石鐵氧體基片4居里溫度高,溫度穩(wěn)定性好,同時減薄基片的厚度能夠隔離器在更高頻范圍內(nèi)工作;本技術(shù)采用長度為8~10mm的S形微帶線6來衰減微波信號,可以很好的匹配環(huán)行器微帶電路3,使其適用于50-70GHz的高頻頻率。本技術(shù)所述的適用于50-70GHz的高頻微帶基片式隔離器,適用于表面貼裝技術(shù),并通過金絲鍵合技術(shù)與微波電路相連接。本技術(shù)的主要技術(shù)指標(biāo)如下:頻率范圍:50-70GHz正向損耗:≤1.2dB反向隔離:≥18dB駐波系數(shù):≤1.6溫度范圍:-30℃~+70℃接頭形式:W→W外形尺寸:5.5×2×3.5mm本技術(shù)所述的一種高頻微帶基片式隔離器,實現(xiàn)了永磁體縱向磁化尖晶石鐵氧體基片,尖晶石鐵氧體基片邊緣磁化均勻,接地良好,并且由于底座與尖晶石鐵氧體基片的熱膨脹系數(shù)相當(dāng),能夠在焊接時保護尖晶石鐵氧體基片,降低了由于焊接而導(dǎo)致尖晶石鐵氧體基片開裂的風(fēng)險,提高了產(chǎn)品的可靠性,本技術(shù)的尖晶石鐵氧體基片上表面采取拋光處理,利用化學(xué)方法去油污以及雜質(zhì)粒子,物理方法對表面進行活化、去除吸附,保證電路膜層的附著力,本技術(shù)的高頻微帶基片式隔離器適用于表面貼裝技術(shù),并通過金絲鍵合技術(shù)與微波電路相連接,本技術(shù)與現(xiàn)有技術(shù)相比,采用長度為8~10mm的S形微帶線結(jié)構(gòu),可以更有效的匹配微波電路,提高隔離效果,并且S形微帶線結(jié)構(gòu)的尺寸小,具有在有源相控陣雷達的一個陣面上放置更多的天線收發(fā)單元的優(yōu)點。如上所述,盡管參照特定的優(yōu)選實施例已經(jīng)表示和表述了本技術(shù),但其不得解釋為對本技術(shù)自身的限制。在不脫離所附權(quán)利要求定義的本技術(shù)的精神和范圍前提下,可對其在形式上和細節(jié)上作出各種變化。本文檔來自技高網(wǎng)...
    一種高頻微帶基片式隔離器

    【技術(shù)保護點】
    一種高頻微帶基片式隔離器,其特征在于:包括底座(1)、尖晶石鐵氧體基片(4)、電阻膜層(2)、環(huán)行器微帶電路(3)、S形微帶線(6)和永磁體(5),所述尖晶石鐵氧體基片(4)的飽和磁矩為5000Gs,其上表面設(shè)置有電阻膜層(2)和環(huán)行器微帶電路(3),所述環(huán)行器微帶電路(3)的一只引腳與S形微帶線(6)連接,S形微帶線(6)設(shè)置在電阻膜層(2)上,所述環(huán)行器微帶電路(3)上設(shè)置有永磁體(5),所述尖晶石鐵氧體基片(4)固定在底座(1)上,所述S形微帶線(6)的長度為8~10mm。

    【技術(shù)特征摘要】
    1.一種高頻微帶基片式隔離器,其特征在于:包括底座(1)、尖晶石鐵氧體基片(4)、電阻膜層(2)、環(huán)行器微帶電路(3)、S形微帶線(6)和永磁體(5),所述尖晶石鐵氧體基片(4)的飽和磁矩為5000Gs,其上表面設(shè)置有電阻膜層(2)和環(huán)行器微帶電路(3),所述環(huán)行器微帶電路(3)的一只引腳與S形微帶線(6)連接,S形微帶線(6)設(shè)置在電阻膜層(2)上,所述環(huán)行器微帶電路(3)上設(shè)置有永磁體(5),所述尖晶石鐵氧體基片(4)固定在底座(1)上,所述S形微帶線(6)的長度為8~10mm。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高頻微帶基片式隔離器,其特征在于:所述尖晶石鐵氧體基片(4)的厚度為0.15-0.2mm。3.根據(jù)權(quán)利...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:劉曠希
    申請(專利權(quán))人:南京廣順電子技術(shù)研究所
    類型:新型
    國別省市:江蘇;32

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