一種可調控厭氧程度的厭氧操控綜合系統技術方案

本實用新型專利技術公開了一種可調控厭氧程度的厭氧操控綜合系統，包括底座1、通氣架2、真空泵3、冷凝回流管4、固定架5、冷凝回流泵6、加熱裝置7和厭氧操作容器8；其中，通氣架2設置于底座1上，通氣架2側面連接真空泵3；冷凝回流管4固定于固定架5上，上方通過導氣管與通氣架2連接，下方連接厭氧操作容器8，側面連接冷凝回流泵6；厭氧操作容器8下方設有加熱裝置7。本系統可以通過抽真空和吹氮氣等方式結合，輔助以加熱等手段以達到除氧目的，同時還可以在體系內加入還原劑以進一步確保嚴格厭氧環境。而且，通過調節和控制通氮氣和抽真空的時間，可以有效控制體系內的厭氧程度，從而滿足不同種類厭氧微生物培養需求。

【技術實現步驟摘要】

本技術屬于無氧操作裝置制造
更具體地，涉及一種可調控厭氧程度的厭氧操控綜合系統。
技術介紹
在有關厭氧微生物的實驗中，嚴格控制厭氧環境對于微生物的生長和培養是至關重要的。目前，普遍使用的厭氧操作箱一方面難以保證嚴格的厭氧環境，在頻繁的操作過程中存在著連接處漏氣等問題；另一方面箱內環境的厭氧程度無法調節，這無法滿足生長條件不同的厭氧微生物的培養。因此，已有的厭氧微生物培養基制備平臺難以滿足實際需求，設計出一套既能滿足實驗需求，又能保證較大操作空間的實驗器械成為在教學和實驗生產中亟待解決的重要課題。
技術實現思路
本技術要解決的技術問題是克服上述現有技術的缺陷和不足，提供一種一種可嚴格控制厭氧環境并可調節控制體系內厭氧程度的厭氧操控綜合系統。本技術的目的是提供一種可調控厭氧程度的厭氧操控綜合系統。本技術上述目的通過以下技術方案實現：一種可調控厭氧程度的厭氧操控綜合系統，包括氣體分配系統、加熱系統、冷凝回流系統和抽真空系統4個部分，氣體分配系統可提供氫氣、氮氣或二氧化碳三種氣體；加熱系統溫度可調節30～150℃。具體地，所述厭氧操控綜合系統包括底座1、通氣架2、真空泵3、冷凝回流管4、固定架5、冷凝回流泵6、加熱裝置7和厭氧操作容器8。其中，通氣架2設置于底座1上，通氣架2側面連接真空泵3；冷凝回流管4固定于固定架5上，上方通過導氣管與通氣架2連接，下方連接厭氧操作容器8，側面連接冷凝回流泵6；厭氧操作容器8下方設有加熱裝置7。進一步地，所述加熱裝置7右側還設有冷卻鍋9。另外，所述厭氧操作容器8為密封容器或開口容器。優選地，所述厭氧操作容器8為開口容器時，優選為三頸圓底燒瓶，上頸口與冷凝回流管4連接，一側口連接pH計10，另一側口密封。所述厭氧操作容器8為密封容器，如厭氧培養瓶等。另外，優選地，所述通氣架2上還設置有若干個帶有閥門的通氣口。實際操作中有需要時，可以在此連接充氫氣、氮氣或二氧化碳的充氣裝置。優選地，所述加熱裝置7溫度可調節至30～400℃。優選地，所述冷卻鍋9為冰水浴冷卻鍋，鍋內溫度控制在4℃。冷卻鍋的作用是：當厭氧操作容器8經過加熱氮吹等處理后需要降溫時，將厭氧操作容器8置入冷卻鍋冷卻至室溫。本技術的厭氧操控綜合系統可以通過抽真空和吹氮氣等方式結合，輔助以加熱等手段以達到除氧目的，同時還可以在體系內加入還原劑以進一步確保嚴格厭氧環境。當厭氧操作容器8為開口容器，如三頸圓底燒瓶時，可以通過加熱結合吹氮氣的方式實現瓶內的厭氧環境，以滿足瓶內的厭氧操作，同時還可以在體系內加入還原劑以進一步確保嚴格厭氧環境。而當厭氧操作容器8為密封容器，如厭氧培養瓶時（不可以加熱），可以通過抽真空和吹氮氣結合方式實現瓶內的厭氧環境，培養瓶即可密封后進行厭氧培養。本技術具有以下有益效果：本專利技術提供了一種厭氧微生物培養基制備與厭氧培養環境操控綜合系統，可以通過抽真空和吹氮氣等方式結合，輔助以加熱等手段以達到除氧目的，同時還可以在體系內加入還原劑以進一步確保嚴格厭氧環境。再者，本裝置通過調節和控制通氮氣和抽真空的時間，可以有效控制體系內的厭氧程度，從而滿足不同種類厭氧微生物培養需求。此外，本技術的操作空間增大、操作難度減小，能有效減少操作失誤等情況的發生。附圖說明圖1為本技術的結構示意圖。圖2為實施例1系統的結構示意圖。具體實施方式以下結合說明書附圖和具體實施例來進一步說明本技術，但實施例并不對本技術做任何形式的限定。除非特別說明，本技術采用的試劑、方法和設備為本
常規試劑、方法和設備。實施例1本技術的厭氧操控綜合系統如附圖1所示，以下舉例說明，其中，所示厭氧操作容器8為三頸圓底燒瓶。一種可調控厭氧程度的厭氧操控綜合系統，如附圖2所示，包括底座1、通氣架2、真空泵3、冷凝回流管4、固定架5、冷凝回流泵6、加熱鍋7、三頸圓底燒瓶8、冷卻鍋9和pH計10。其中，通氣架2設置于底座1上，通氣架2側面連接真空泵3；冷凝回流管4固定于固定架5上，上方通過導氣管與通氣架2連接，下方連接三頸圓底燒瓶8，側面連接冷凝回流泵6；三頸圓底燒瓶8下方設有加熱鍋7右側還設有冷卻鍋9。所述三頸圓底燒瓶8上頸口與冷凝回流管4連接，一側口連接pH計10，另一側口密封。另外，所述通氣架2上還設置有若干個帶有閥門的通氣口。實際操作中有需要時，可以在此連接充氫氣、氮氣或二氧化碳的充氣裝置。所述加熱裝置7溫度可調節至30～400℃。所述冷卻鍋9為冰水浴冷卻裝置，溫度控制在4℃。本技術的厭氧操控綜合系統可以通過加熱結合吹氮氣的方式實現瓶內的厭氧環境，以滿足瓶內的厭氧操作，同時還可以在體系內加入還原劑以進一步確保嚴格厭氧環境。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種可調控厭氧程度的厭氧操控綜合系統，其特征在于，包括底座（1）、通氣架（2）、真空泵（3）、冷凝回流管（4）、固定架（5）、冷凝回流泵（6）、加熱裝置（7）和厭氧操作容器（8）；其中，通氣架（2）設置于底座（1）上，通氣架（2）側面連接真空泵（3）；冷凝回流管（4）固定于固定架（5）上，上方通過導氣管與通氣架（2）連接，下方連接厭氧操作容器（8），側面連接冷凝回流泵（6）；厭氧操作容器（8）下方設有加熱裝置（7）。

【技術特征摘要】
1.一種可調控厭氧程度的厭氧操控綜合系統，其特征在于，包括底座（1）、通氣架（2）、真空泵（3）、冷凝回流管（4）、固定架（5）、冷凝回流泵（6）、加熱裝置（7）和厭氧操作容器（8）；其中，通氣架（2）設置于底座（1）上，通氣架（2）側面連接真空泵（3）；冷凝回流管（4）固定于固定架（5）上，上方通過導氣管與通氣架（2）連接，下方連接厭氧操作容器（8），側面連接冷凝回流泵（6）；厭氧操作容器（8）下方設有加熱裝置（7）。2.根據權利要求1所述的可調控厭氧程度的厭氧操控綜合系統，其特征在于，所述加熱裝置（7）右側設有冷卻鍋（9）。3.根據權利要求1所述的可調控厭氧程度的厭...

【專利技術屬性】
技術研發人員：汪善全，陳思媛，
申請(專利權)人：中山大學，
類型：新型
國別省市：廣東;44