【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本技術(shù)涉及一種樞軸裝置的扭力結(jié)構(gòu)；特別是指一種包括基盤和相對(duì)在基盤上轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)盤等部分的組合，以達(dá)到降低組件之間操作配合產(chǎn)生的壓力的新型。
技術(shù)介紹
應(yīng)用因外力可往復(fù)轉(zhuǎn)動(dòng)自如的樞軸或轉(zhuǎn)軸，來配裝在電子器物上，例如行動(dòng)電話、筆記本電腦、PDA、數(shù)字取像機(jī)、電子書等，使其蓋、顯示屏幕或觀景窗可轉(zhuǎn)動(dòng)而具有開、閉作用，是已為現(xiàn)有技藝。例如，中國臺(tái)灣第97222022號(hào)“轉(zhuǎn)軸結(jié)構(gòu)”、第96217011號(hào)“樞軸定位構(gòu)件”、及第98207366號(hào)“樞軸結(jié)構(gòu)”等專利案，是提供了典型的實(shí)施例。這類樞軸或轉(zhuǎn)軸裝置通常應(yīng)用復(fù)數(shù)個(gè)盤形墊片設(shè)置凹凸定位部，同向或反向迭置的型態(tài)組合在轉(zhuǎn)軸上，構(gòu)成扭力模塊或扭力結(jié)構(gòu)。轉(zhuǎn)軸一端(或稱固定端)裝配在電子器物的機(jī)體模塊和顯示模塊上；轉(zhuǎn)軸另一端以固定件固定或經(jīng)螺帽鎖固迫緊，使轉(zhuǎn)軸在轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，產(chǎn)生一摩擦阻力，讓蓋或顯示屏幕在轉(zhuǎn)動(dòng)開、閉的過程中，獲得定位效果。現(xiàn)有技藝也已揭示一種扭力結(jié)構(gòu)，在盤形墊片的外圍區(qū)域設(shè)置一長形環(huán)狀的第一凸部和形成在盤形墊片內(nèi)圍區(qū)域的第二凸部；對(duì)應(yīng)所述的第一凸部、第二凸部，使另一相對(duì)壓接的盤形墊片的外圍區(qū)域也設(shè)置一長形環(huán)狀的第一凸部、內(nèi)圍區(qū)域設(shè)置第二凸部。并且，在盤形墊片響應(yīng)轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，使第一凸部、第二凸部相對(duì)離開或觸壓另一盤形墊片的第一凸部、第二凸部。一個(gè)有關(guān)上述實(shí)施例的樞軸和扭力定位組件裝配組合在電子器物，執(zhí)行開、閉操作的課題是，該盤形墊片長形環(huán)狀的第一凸部、第二凸部相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)觸壓另一盤形墊片的結(jié)構(gòu)配合型態(tài)，會(huì)在扭力定位組件或盤形墊片彼此之間產(chǎn)生較大的壓力。因?yàn)椋罁?jù)F(作用力或扭力)＝P(壓力)*A(面積)，假設(shè)扭力模塊(...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種樞軸裝置的扭力結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：至少一轉(zhuǎn)軸，在轉(zhuǎn)軸上設(shè)置有基盤和轉(zhuǎn)盤；轉(zhuǎn)盤隨轉(zhuǎn)軸而相對(duì)在基盤上轉(zhuǎn)動(dòng)；基盤設(shè)有第一限制區(qū)、第二限制區(qū)和分別位于第一限制區(qū)、第二限制區(qū)之間的第一接合區(qū)、第二接合區(qū)；基盤的第一限制區(qū)、第二限制區(qū)分別包含有主區(qū)、連接主區(qū)的副區(qū)和界定主區(qū)、副區(qū)的第一邊、第二邊；對(duì)應(yīng)于上述基盤，轉(zhuǎn)盤設(shè)有第一組合區(qū)、第二組合區(qū)和分別位于第一組合區(qū)、第二組合區(qū)之間的第一壓接區(qū)、第二壓接區(qū)；以及轉(zhuǎn)盤的第一組合區(qū)、第二組合區(qū)分別包含有主區(qū)、連接主區(qū)的副區(qū)和界定主區(qū)、副區(qū)的第一邊、第二邊。
【技術(shù)特征摘要】
1.一種樞軸裝置的扭力結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：至少一轉(zhuǎn)軸，在轉(zhuǎn)軸上設(shè)置有基盤和轉(zhuǎn)盤；轉(zhuǎn)盤隨轉(zhuǎn)軸而相對(duì)在基盤上轉(zhuǎn)動(dòng)；基盤設(shè)有第一限制區(qū)、第二限制區(qū)和分別位于第一限制區(qū)、第二限制區(qū)之間的第一接合區(qū)、第二接合區(qū)；基盤的第一限制區(qū)、第二限制區(qū)分別包含有主區(qū)、連接主區(qū)的副區(qū)和界定主區(qū)、副區(qū)的第一邊、第二邊；對(duì)應(yīng)于上述基盤，轉(zhuǎn)盤設(shè)有第一組合區(qū)、第二組合區(qū)和分別位于第一組合區(qū)、第二組合區(qū)之間的第一壓接區(qū)、第二壓接區(qū)；以及轉(zhuǎn)盤的第一組合區(qū)、第二組合區(qū)分別包含有主區(qū)、連接主區(qū)的副區(qū)和界定主區(qū)、副區(qū)的第一邊、第二邊。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的樞軸裝置的扭力結(jié)構(gòu)，其特征在于：該基盤第一限制區(qū)、第二限制區(qū)位于基盤上間隔180°的位置；基盤設(shè)有通孔，以基盤通孔為參考位置，基盤主區(qū)是位于基盤的外圍區(qū)域，基盤副區(qū)是位于內(nèi)圍區(qū)域；轉(zhuǎn)盤第一組合區(qū)、第二組合區(qū)位于轉(zhuǎn)盤上間隔180°的位置；轉(zhuǎn)盤設(shè)有軸孔，以轉(zhuǎn)盤軸孔為參考位置，轉(zhuǎn)盤主區(qū)是位于轉(zhuǎn)盤的外圍區(qū)域，轉(zhuǎn)盤副區(qū)是位于內(nèi)圍區(qū)域；基盤定義有一參考基線，使第一限制區(qū)的主區(qū)第一邊到參考基線的夾角角度大于第一限制區(qū)的主區(qū)第二邊到參考基線的夾角角度；第一限制區(qū)的副區(qū)第一邊到參考基線的夾角角度小于第一限制區(qū)的副區(qū)第二邊到參考基線的夾角角度；第二限制區(qū)的主區(qū)第一邊到參考基線的夾角角度小于第二限制區(qū)的主區(qū)第二邊到參考基線的夾角角度；第二限制區(qū)的副區(qū)第一邊到參考基線的夾角角度大于第二限制區(qū)的副區(qū)第二邊到參考基線的夾角角度；以及轉(zhuǎn)盤定義有一參考軸線，使第一組合區(qū)的主區(qū)第一邊到參考軸線的夾角角度等于第一組合區(qū)的主區(qū)第二邊到參考軸線的夾角角度；第一組合區(qū)的副區(qū)第一邊到參考軸線的夾角角度等于第一組合區(qū)的副區(qū)第二邊到參考軸線的夾角角度；第二組合區(qū)的主區(qū)第一邊到參考軸線Y的夾角角度等于第二組合區(qū)的主區(qū)第二邊到參考軸線的夾角角度；第二組合區(qū)的副區(qū)第一邊到參考軸線的夾角角度等于第二組合區(qū)的副區(qū)第二邊到參考軸線的夾角角度。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的樞軸裝置的扭力結(jié)構(gòu)，其特征在于：該第一限制區(qū)的主區(qū)第一邊到參考基線的夾角角度等于第一限制區(qū)的副區(qū)第二邊到參考基線的夾角角度，第二限制區(qū)的主區(qū)第一邊到參考基線的夾角角度等于第二限制區(qū)的副區(qū)第二邊到參考基線的夾角角度；第一限制區(qū)的主區(qū)第二邊到參考基線的夾角角度等于第一限制區(qū)的副區(qū)第一邊到參考基線的夾角角度；第二限制區(qū)的主區(qū)第二邊到參考基線的夾角角度等于第二限制區(qū)的副區(qū)第一邊到參考基線的夾角角度；以及第一組合區(qū)的主區(qū)第一邊到參考軸線的夾角角度大于第一組合區(qū)的副區(qū)第一邊到參考軸線的夾角角度，第一組合區(qū)的主區(qū)第二邊到參考軸線的夾角角度大于第一組合區(qū)的副區(qū)第二邊到參考軸線的夾角角度；第二組合區(qū)的主區(qū)第一邊到參考軸線的夾角角度小于第二組合區(qū)的副區(qū)第一邊到參考軸線的夾角角度，第二組合區(qū)的主區(qū)第二邊到參考軸線的夾角角度小于第二組合區(qū)的副區(qū)第二邊到參考軸線的夾角角度。4.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的樞軸裝置的扭力結(jié)構(gòu)，其特征在于：該轉(zhuǎn)盤第一組合區(qū)的主區(qū)第一邊到第二邊的夾角角度是108°，大于基盤第一限制區(qū)的主區(qū)第一邊到第二邊的夾角角度；基盤第一限制區(qū)的主區(qū)第一邊到第二邊的夾角角度是96°；以及轉(zhuǎn)盤第二組合區(qū)的副區(qū)第一邊到第二邊的夾角角度是108°，大于基盤第二限制區(qū)的副區(qū)第一邊到第二邊的夾角角度；基盤第二限制區(qū)的副區(qū)第一邊到第二邊的夾角角度是96°。5.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的樞軸裝置的扭力結(jié)構(gòu)，其特征在于：該基盤第一限制區(qū)、第二限制區(qū)形成凹部平面結(jié)構(gòu)，使第一接合區(qū)、第二接合區(qū)相對(duì)形成凸部平面結(jié)構(gòu)；轉(zhuǎn)盤第一組合區(qū)、第二組合區(qū)形成凸部平面結(jié)構(gòu)，使第一壓接區(qū)、第二壓接區(qū)相對(duì)形成凹部平面結(jié)構(gòu)；基盤第一限制區(qū)、第二限制區(qū)的主區(qū)第一邊、第二邊和副區(qū)第一邊、第二邊分別連接一斜面，基盤的斜面分別連接有對(duì)應(yīng)基盤第一邊的第一底邊和對(duì)應(yīng)基盤第二邊的第二底邊；以及轉(zhuǎn)盤第一組合區(qū)、第二組合區(qū)的主區(qū)第一邊、第二邊和副區(qū)第一邊、第二邊分別連接一斜面，轉(zhuǎn)盤的斜面分別連接有對(duì)應(yīng)轉(zhuǎn)盤第一邊的第一底邊、對(duì)應(yīng)轉(zhuǎn)盤第二邊的第二底邊。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的樞軸裝置的扭力結(jié)構(gòu)，其特征在于：該基盤第一限制區(qū)、第二限制區(qū)形成凹部平面結(jié)構(gòu)，使第一接合區(qū)、第二接合區(qū)相對(duì)形成凸部平面結(jié)構(gòu)；轉(zhuǎn)盤第一組合區(qū)、第二組合區(qū)形成凸部平面結(jié)構(gòu)，使第一壓接區(qū)、第二壓接區(qū)相對(duì)形成凹部平面結(jié)構(gòu)；基盤第一限制區(qū)、第二限制區(qū)的主區(qū)第一邊、第二邊和副區(qū)第一邊、第二邊分別連接一斜面，基盤的斜面分別連接有對(duì)應(yīng)基盤第一邊的第一底邊和對(duì)應(yīng)基盤第二邊的第二底邊；以及轉(zhuǎn)盤第一組合區(qū)、第二組合區(qū)的主區(qū)第一邊、第二邊和副區(qū)第一邊、第二邊分別連接一斜面，轉(zhuǎn)盤的斜面分別連接有對(duì)應(yīng)轉(zhuǎn)盤第一邊的第一底邊、對(duì)應(yīng)轉(zhuǎn)盤第二邊的第二底邊。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的樞軸裝置的扭力結(jié)構(gòu)，其特征在于：該轉(zhuǎn)盤組合在基盤上，使轉(zhuǎn)盤第一組合區(qū)的主區(qū)第一邊的斜面部分區(qū)域觸接基盤第一限制區(qū)的主區(qū)第一邊的斜面部分區(qū)域，轉(zhuǎn)盤第一組合區(qū)的主區(qū)第二邊的斜面部分區(qū)域觸接基盤第一限制區(qū)的主區(qū)第二邊的斜面部分區(qū)域；轉(zhuǎn)盤第二組合區(qū)的副區(qū)第一邊的斜面部分區(qū)域觸接基盤第二限制區(qū)的副區(qū)第二邊的斜面部分區(qū)域，轉(zhuǎn)盤第二組合區(qū)的副區(qū)第二邊的斜面部分區(qū)域觸接基盤第二限制區(qū)的副區(qū)第二邊的斜面部分區(qū)域。8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的樞軸裝置的扭力結(jié)構(gòu)，其特征在于：該轉(zhuǎn)盤組合在基盤上，使轉(zhuǎn)盤第一組合區(qū)的主區(qū)第一邊的斜面部分區(qū)域觸接基盤第一限制區(qū)的主區(qū)第一邊的斜面部分區(qū)域，轉(zhuǎn)盤第一組合區(qū)的主區(qū)第二邊的斜面部分區(qū)域觸接基盤第一限制區(qū)的主區(qū)第二邊的斜面部分區(qū)域；轉(zhuǎn)盤第二組合區(qū)的副區(qū)第一邊的斜面部分區(qū)域觸接基盤第二限制區(qū)的副區(qū)第二邊的斜面部分區(qū)域，轉(zhuǎn)盤第二組合區(qū)的副區(qū)第二邊的斜面部分區(qū)域觸接基盤第二限制區(qū)的副區(qū)第二邊的斜面部分區(qū)域。9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的樞軸裝置的扭力結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述的這些斜面形成復(fù)斜面結(jié)構(gòu)；使基盤第一限制區(qū)的主區(qū)第一邊、副區(qū)第一邊的斜面，和第二限制區(qū)的主區(qū)第一邊、副區(qū)第一邊的斜面，分別包括一側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊；基盤第一邊和第一底邊彼此平行，但位于不同的平面上，第一限制區(qū)第一邊、第二限制區(qū)第一邊的側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊彼此平行，但位于不同的平面上；以及基盤第一限制區(qū)的主區(qū)第二邊、副區(qū)第二邊的斜面，和第二限制區(qū)的主區(qū)第二邊、副區(qū)第二邊的斜面，分別包括一側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊；基盤第二邊和第二底邊彼此平行，但位于不同的平面上，第一限制區(qū)第二邊、第二限制區(qū)第二邊的側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊彼此平行，但位于不同的平面上；轉(zhuǎn)盤第一組合區(qū)的主區(qū)第一邊、副區(qū)第一邊的斜面，和第二組合區(qū)的主區(qū)第一邊、副區(qū)第一邊的斜面，分別包括一側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊；轉(zhuǎn)盤第一邊和第一底邊彼此平行，但位于不同的平面上，第一組合區(qū)第一邊、第二組合區(qū)第一邊的側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊彼此平行，但位于不同的平面上；以及轉(zhuǎn)盤第一組合區(qū)的主區(qū)第二邊、副區(qū)第二邊的斜面，和第二組合區(qū)的主區(qū)第二邊、副區(qū)第二邊的斜面，分別包括一側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊；轉(zhuǎn)盤第二邊和第二底邊彼此平行，但位于不同的平面上，第一組合區(qū)第二邊、第二組合區(qū)第二邊的側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊彼此平行，但位于不同的平面上。10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的樞軸裝置的扭力結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述的這些斜面形成復(fù)斜面結(jié)構(gòu)；使基盤第一限制區(qū)的主區(qū)第一邊、副區(qū)第一邊的斜面，和第二限制區(qū)的主區(qū)第一邊、副區(qū)第一邊的斜面，分別包括一側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊；基盤第一邊和第一底邊彼此平行，但位于不同的平面上，第一限制區(qū)第一邊、第二限制區(qū)第一邊的側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊彼此平行，但位于不同的平面上；以及基盤第一限制區(qū)的主區(qū)第二邊、副區(qū)第二邊的斜面，和第二限制區(qū)的主區(qū)第二邊、副區(qū)第二邊的斜面，分別包括一側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊；基盤第二邊和第二底邊彼此平行，但位于不同的平面上，第一限制區(qū)第二邊、第二限制區(qū)第二邊的側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊彼此平行，但位于不同的平面上；轉(zhuǎn)盤第一組合區(qū)的主區(qū)第一邊、副區(qū)第一邊的斜面，和第二組合區(qū)的主區(qū)第一邊、副區(qū)第一邊的斜面，分別包括一側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊；轉(zhuǎn)盤第一邊和第一底邊彼此平行，但位于不同的平面上，第一組合區(qū)第一邊、第二組合區(qū)第一邊的側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊彼此平行，但位于不同的平面上；以及轉(zhuǎn)盤第一組合區(qū)的主區(qū)第二邊、副區(qū)第二邊的斜面，和第二組合區(qū)的主區(qū)第二邊、副區(qū)第二邊的斜面，分別包括一側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊；轉(zhuǎn)盤第二邊和第二底邊彼此平行，但位于不同的平面上，第一組合區(qū)第二邊、第二組合區(qū)第二邊的側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊彼此平行，但位于不同的平面上。11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的樞軸裝置的扭力結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述的這些斜面形成復(fù)斜面結(jié)構(gòu)；使基盤第一限制區(qū)的主區(qū)第一邊、副區(qū)第一邊的斜面，和第二限制區(qū)的主區(qū)第一邊、副區(qū)第一邊的斜面，分別包括一側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊；基盤第一邊和第一底邊彼此平行，但位于不同的平面上，第一限制區(qū)第一邊、第二限制區(qū)第一邊的側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊彼此平行，但位于不同的平面上；以及基盤第一限制區(qū)的主區(qū)第二邊、副區(qū)第二邊的斜面，和第二限制區(qū)的主區(qū)第二邊、副區(qū)第二邊的斜面，分別包括一側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊；基盤第二邊和第二底邊彼此平行，但位于不同的平面上，第一限制區(qū)第二邊、第二限制區(qū)第二邊的側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊彼此平行，但位于不同的平面上；轉(zhuǎn)盤第一組合區(qū)的主區(qū)第一邊、副區(qū)第一邊的斜面，和第二組合區(qū)的主區(qū)第一邊、副區(qū)第一邊的斜面，分別包括一側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊；轉(zhuǎn)盤第一邊和第一底邊彼此平行，但位于不同的平面上，第一組合區(qū)第一邊、第二組合區(qū)第一邊的側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊彼此平行，但位于不同的平面上；以及轉(zhuǎn)盤第一組合區(qū)的主區(qū)第二邊、副區(qū)第二邊的斜面，和第二組合區(qū)的主區(qū)第二邊、副區(qū)第二邊的斜面，分別包括一側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊；轉(zhuǎn)盤第二邊和第二底邊彼此平行，但位于不同的平面上，第一組合區(qū)第二邊、第二組合區(qū)第二邊的側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊彼此平行，但位于不同的平面上。12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的樞軸裝置的扭力結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述的這些斜面形成復(fù)斜面結(jié)構(gòu)；使基盤第一限制區(qū)的主區(qū)第一邊、副區(qū)第一邊的斜面，和第二限制區(qū)的主區(qū)第一邊、副區(qū)第一邊的斜面，分別包括一側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊；基盤第一邊和第一底邊彼此平行，但位于不同的平面上，第一限制區(qū)第一邊、第二限制區(qū)第一邊的側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊彼此平行，但位于不同的平面上；以及基盤第一限制區(qū)的主區(qū)第二邊、副區(qū)第二邊的斜面，和第二限制區(qū)的主區(qū)第二邊、副區(qū)第二邊的斜面，分別包括一側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊；基盤第二邊和第二底邊彼此平行，但位于不同的平面上，第一限制區(qū)第二邊、第二限制區(qū)第二邊的側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊彼此平行，但位于不同的平面上；轉(zhuǎn)盤第一組合區(qū)的主區(qū)第一邊、副區(qū)第一邊的斜面，和第二組合區(qū)的主區(qū)第一邊、副區(qū)第一邊的斜面，分別包括一側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊；轉(zhuǎn)盤第一邊和第一底邊彼此平行，但位于不同的平面上，第一組合區(qū)第一邊、第二組合區(qū)第一邊的側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊彼此平行，但位于不同的平面上；以及轉(zhuǎn)盤第一組合區(qū)的主區(qū)第二邊、副區(qū)第二邊的斜面，和第二組合區(qū)的主區(qū)第二邊、副區(qū)第二邊的斜面，分別包括一側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊；轉(zhuǎn)盤第二邊和第二底邊彼此平行，但位于不同的平面上，第一組合區(qū)第二邊、第二組合區(qū)第二邊的側(cè)邊和對(duì)應(yīng)側(cè)邊彼此平行，但位于不同的平面上。13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的樞軸裝置的扭力結(jié)構(gòu)，其特征在于：該第一限制區(qū)第二邊的斜面，是從其側(cè)邊朝向第一限制區(qū)的方向傾斜延伸，收止于其對(duì)應(yīng)側(cè)邊；第二限制區(qū)第一邊的斜面，是從其側(cè)邊朝向第二限制區(qū)的方向傾斜延伸，收止...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：江宜宏，徐安賜，郭永昇，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：富世達(dá)股份有限公司，
類型：新型
國別省市：中國臺(tái)灣;71
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