【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及半導體設備工廠自動化(FactoryAutomation)
,尤其涉及一種半導體立式爐設備異常恢復及物料保護的方法。
技術介紹
半導體立式爐設備是半導體生產線前工序的重要工藝設備之一,用于大規模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件和光導纖維等行業的擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝。隨著晶圓尺寸的不斷增加,芯片制造商們可以利用單片晶圓上制造出更多的芯片。從2000年以后,半導體工業的晶圓標準被定為300毫米。為了簡化運輸和盡可能降低被污染的風險,芯片制造商利用“前開式標準晶圓盒”即所謂的FOUP來搬運晶圓。每個無塵超凈的晶圓盒中可放置25塊硅晶圓。FOUP可以對接在大多數應用材料機器系統的前端,機器可以將晶圓一片片的吸進去,自動進行加工。也就是說,在半導體立式爐設備自動化運行過程中,通常,參加工藝的物料(即晶圓超過125片,晶圓盒超過5個)價值非常巨大。如果機臺發生異常狀態下,位于處理機臺中的物料面臨報廢的危險。本領域技術人員清楚,半導體立式爐設備自動化運行的異常恢復是半導體立式爐設備關鍵的一環。當機臺發生狀態異常時,需盡快采取相應的措施使機臺恢復到正常狀態,其能有效保護機臺異常下的物料不被報廢。即在半導體設備中,設備異常狀態下對物料的處理,以及異常恢復的時間都是考察機臺的重要指標之一。然而,異常恢復機制相對比較匱乏,因此,業界迫切需要先進可靠的異常恢復機制,具體地,一套適合半導體設備運行的異常恢復機制去處理物料和恢復設備。異常恢復系統包括在機臺異常狀態下如何保全和處理機臺中的物料,如何盡快的恢復機臺的自動化運行。
技術實現思路
為了克 ...
【技術保護點】
一種半導體立式爐設備異常恢復的方法,所述半導體立式爐設備包括外部裝載臺模塊、緩沖倉儲模塊、倉儲機械手模塊、晶圓機械手模塊、內部裝載臺模塊和/或工藝模塊,其特征在于,其還包括信息存儲模塊和控制模塊;所述方法包括如下步驟:步驟S1:按照信息存儲模塊中記錄的所述半導體立式爐設備各模塊屬性層次架構,初始化配置包含所述半導體立式爐設備個模塊下屬的所有承載器信息,以及各承載器內的所有晶圓信息的記錄文件;步驟S2:在工藝過程中,更新信息存儲模塊的所有所述半導體立式爐設備各模塊的屬性信息,同時關聯傳輸并記錄每個模塊下屬的所有晶圓承載器,及其各晶圓承載器內所有晶圓信息的記錄文件;步驟S3:如果所述半導體立式爐設備出現異常現象,所述控制模塊確認所述記錄文件確定的所有晶圓承載器、各晶圓承載器內所有晶圓的狀態信息以及所述半導體立式爐設備各模塊的狀態信息,并根據異常恢復規則啟動異常恢復機制的處理流程;其中,所述處理流程按照先執行晶圓承載器回收操作再執行晶圓正常卸載操作的原則,將散落分布在所述晶圓機械手模塊、內部裝載臺模塊和工藝模塊中的晶圓和晶圓承載器收回到所述緩沖倉儲模塊中。
【技術特征摘要】
1.一種半導體立式爐設備異常恢復的方法,所述半導體立式爐設備包括外部裝載臺模塊、緩沖倉儲模塊、倉儲機械手模塊、晶圓機械手模塊、內部裝載臺模塊和/或工藝模塊,其特征在于,其還包括信息存儲模塊和控制模塊;所述方法包括如下步驟:步驟S1:按照信息存儲模塊中記錄的所述半導體立式爐設備各模塊屬性層次架構,初始化配置包含所述半導體立式爐設備個模塊下屬的所有承載器信息,以及各承載器內的所有晶圓信息的記錄文件;步驟S2:在工藝過程中,更新信息存儲模塊的所有所述半導體立式爐設備各模塊的屬性信息,同時關聯傳輸并記錄每個模塊下屬的所有晶圓承載器,及其各晶圓承載器內所有晶圓信息的記錄文件;步驟S3:如果所述半導體立式爐設備出現異常現象,所述控制模塊確認所述記錄文件確定的所有晶圓承載器、各晶圓承載器內所有晶圓的狀態信息以及所述半導體立式爐設備各模塊的狀態信息,并根據異常恢復規則啟動異常恢復機制的處理流程;其中,所述處理流程按照先執行晶圓承載器回收操作再執行晶圓正常卸載操作的原則,將散落分布在所述晶圓機械手模塊、內部裝載臺模塊和工藝模塊中的晶圓和晶圓承載器收回到所述緩沖倉儲模塊中。2.如權利要求1所述的半導體立式爐設備異常恢復的方法,其特征在于,所述步驟S3具體包括:步驟S31:所述控制模塊確認所述記錄文件確定的所有晶圓承載器、各晶圓承載器內所有晶圓的狀態信息;步驟S32:所述控制模塊確認所述半導體立式爐設備各模塊的狀態信息;如果所述晶圓機械手模塊、內部裝載臺模塊和工藝模塊中的某一個或多個模塊有問題;執行步驟S33;否者,執行步驟S34;步驟S33:根據有問題的所述晶圓機械手模塊、內部裝載臺模塊和/或工藝模塊中冗余部件優先使用原則,配備所述異常恢復機制處理流程所使用的部件;步驟S34:將所述倉儲機械手模塊上的晶圓承載器全部送回到所述緩沖倉儲模塊中;步驟S35:將所述內部裝載臺模塊恢復到初始狀態;步驟S36:將所述內部裝載臺模塊上的晶圓承載器全部送回到所述緩沖倉儲模塊中;步驟S37:按照根據半導體立式爐設備工藝特點確定的所述異常恢復規則,將所述晶圓機械手...
【專利技術屬性】
技術研發人員:黃揚君,周法福,肖托,劉耀琴,
申請(專利權)人:北京七星華創電子股份有限公司,
類型:發明
國別省市:北京;11
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