【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】本專利技術涉及制造具有低發射率(low-e)和/或陽光控制涂層的可熱處理的涂覆玻璃板的方法。本專利技術還涉及通過所述方法生產的涂覆玻璃板。對于大量應用領域(例如對于建筑或機動車窗玻璃)，需要被強化以賦予安全性質和/或被彎曲的經熱處理的玻璃板。已知對于熱強化和/或彎曲的玻璃板，有必要通過如下方式處理該玻璃板：在接近或高于所用玻璃的軟化點的溫度下熱處理，并隨后通過快速冷卻來強化該玻璃板或借助于彎曲裝置彎曲該玻璃板。鈉鈣硅類型的標準浮法玻璃的相關溫度范圍一般是約580-690℃，在開始實際強化和/或彎曲工藝之前，將該玻璃板保持在這一溫度范圍內幾分鐘。在以下說明書及權利要求書中的“熱處理”、“經熱處理的”、“可熱處理的”是指例如上述的熱彎曲和/或強化工藝，以及其它熱工藝，在該其它熱工藝期間，涂覆玻璃板達到在約580-690℃的范圍內的溫度持續幾分鐘的時間，例如持續長達約10分鐘。如果涂覆玻璃板經熱處理后沒有明顯損傷(由熱處理引起的典型損傷是高霧度值、小孔或斑點)，則認為該涂覆玻璃板是可熱處理的。值得注意的是，當表征低發射率和/或陽光控制涂層的可熱處理性時通常提及的參數“霧度”經常不充分，因為其不完全反映在涂覆玻璃板的涂覆、熱處理、加工和/或處置過程中可產生的所有類型的缺陷。一些已知的可熱處理的涂覆玻璃板顯示了在熱處理過程中它們的光學性質并且特別是它們的反射顏色的顯著和清晰可見的改變。在熱處理期間保持該...
【技術保護點】
制造涂覆玻璃板的方法，依次包括以下步驟：a)提供玻璃基材，b)采用四異丙氧基鈦(TTIP)作為前體，通過化學氣相沉積(CVD)在該玻璃基材的表面上沉積至少一個CVD涂層，及c)通過物理氣相沉積(PVD)在所述至少一個CVD涂層上沉積至少一個PVD涂層。
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2013.08.16 GB 1314699.81.制造涂覆玻璃板的方法，依次包括以下步驟：
a)提供玻璃基材，
b)采用四異丙氧基鈦(TTIP)作為前體，通過化學氣相沉積(CVD)
在該玻璃基材的表面上沉積至少一個CVD涂層，及
c)通過物理氣相沉積(PVD)在所述至少一個CVD涂層上沉積至
少一個PVD涂層。
2.根據權利要求1所述的方法，其中該CVD涂層包含至少一個基
于鈦氧化物(TiOx)(摻雜的或未摻雜的)的層。
3.根據權利要求2的方法，其中該至少一個基于鈦氧化物的層具
有至少5nm但至多60nm的厚度。
4.根據權利要求2或權利要求3的方法，其中采用TTIP作為前
體來沉積該至少一個基于鈦氧化物的層。
5.根據權利要求4的方法，其中將采用TTIP作為前體沉積的該
至少一個基于鈦氧化物的層設置為與該PVD涂層直接接觸。
6.根據任一項前述權利要求的方法，其中該CVD涂層還包含至少
一個層，該至少一個層基于硅氧化物(例如氧碳化硅、氧化硅或氧氮
化硅)、錫氧化物(摻雜的或未摻雜的)、鋅氧化物(摻雜的或未摻
雜的)或任何這些材料的混合物。
7.根據權利要求1-5中任一項的方法，其中該CVD涂層包含至少
一個層，其中各個該至少一個層基于鈦氧化物(TiOx)。
8.根據任一項前述權利要求的方法，其中距離該玻璃基材最遠的
CVD涂層的主表面具有至多3nm、優選至多1nm的算術平均表面高度
值Sa。
9.根據任一項前述權利要求的方法，其中當該玻璃基材處于
450℃至800℃范圍、更優選550℃至700℃范圍的溫度時，在該玻璃
基材上沉積該CVD涂層。
10.根據任一項前述權利要求的方法，其中通過濺射沉積來沉積
該PVD涂層。
11.根據任一項前述權利要求的方法，其中該PVD涂層包含至少
一個基于反射性金屬的功能層，優選所述功能層是銀基功能層。
12.根據權利要求11的方法，其中該涂覆板還包含位于該玻璃基
材和該至少一個功能層之間的下減反射層，且其中該PVD涂層還包含
位于該功能層之上的上減反射層。
13.根據權利要求11或權利要求12的方法，其中該PVD涂層還
包含沉積在該CVD涂層和該至少一個功能層之間的至少一個基于介電
材料的層。
14.根據權利要求11至13中任一項的方法，其中該PVD涂層還
包含至少一個層，該至少一個層是基于摻雜的或未摻雜的NiCr、Ti、
Zn、Zr、Sn、Nb、ITO、TiOx、ZnxSnyOz、ZnO、SnOx、ZnxAlxOz、AlNX、
SiNx、SixAlyNz或其混合物。
15.根據權利要求12或者直接或間接從屬于權利要求12時的權
利要求13和14中任一項的方法，其中包含至少一個功能層的涂層的
...
【專利技術屬性】
技術研發人員：C·J·古德溫，K·J·奇塔姆，J·A·里德爾戈，A·N·愛德華茲，
申請(專利權)人：皮爾金頓集團有限公司，
類型：發明
國別省市：英國;GB
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