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    微晶玻璃臺面板及其制備方法與應用技術

    技術編號:1459944 閱讀:279 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
    微晶玻璃臺面板,該臺面板由如下方法制備而獲得:以至少包含有石英砂和石灰石的配合料為原料,將配合料混合均勻后送入玻璃熔窯中進行第一次燒結,熔制的溫度為1300~1600℃,待玻璃溶液成份均勻、氣泡澄清后在水中淬火烘干而得玻璃粒料;    提供一種阻擋層,它確定該玻璃粒料的至少一個表面臨界層,所述的阻擋層表面鋪設有耐火防粘層,和提供一種晶化窯爐;    將玻璃粒料均勻地平攤于阻擋層表面,于晶化窯爐中進行第二次燒結,燒結后的玻璃粒料形成一個固態玻璃晶相構件,并由該阻擋層建立起上述的表面,然后自然冷卻;    將冷卻后的半成品微晶構件于晶化窯爐中進行第三次燒結,燒結時的微晶化處理溫度為1110℃-1140℃,而且單次晶化溫度的變化應控制在0℃-10℃之間,處理時間為50-70分鐘,燒結后形成致密的微晶構件;    最后用石材切削機械拋光、研磨、整形而得成品。(*該技術在2024年保護過期,可自由使用*)

    Microcrystal glass table panel, preparation method and application thereof

    Microcrystalline glass panel, the panel by the preparation method is as follows: to have obtained at least with quartz sand and limestone containing material will mix evenly mixed into the glass melting furnace for the first time sintering, melting temperature is 1300 to 1600 DEG C, the glass composition is uniform, clear bubble solution after quenching in water and dried glass pellets; provide a barrier layer, it is determined that the glass pellets at least one critical surface layer, the surface of the barrier layer is paved with a fireproof anti sticking layer, and a crystallization furnace; the glass particle material uniformly spread on the surface of the barrier layer, second in the sintering crystallization kiln, the sintered glass aggregates to form a solid glass phase component, and the barrier layer set up above the surface, and natural cooling The semi-finished component; after cooling crystallization in microcrystalline kiln third sintering, sintering the crystallization temperature of 1110 DEG to 1140 DEG C, and a single crystallization temperature should be controlled between 0 to 10 DEG C., the processing time for 50 - 70 minutes after the formation of dense ceramics sintered components finally; mechanical polishing, grinding, stone cutting and plastic products.

    【技術實現步驟摘要】

    本專利技術涉及一種用混凝土或其它石類材料制作的建造房屋部件用的較薄形建筑構件及其制作方法,特別涉及一種微晶玻璃臺面板及其制備方法與應用。
    技術介紹
    微晶玻璃亦稱玻璃陶瓷,為由晶相和殘余玻璃相組成的熔結體,是將具有一定原料組成的玻璃配合料在可控制條件下晶化而制成的材料?,F有技術中的微晶玻璃一般具有如下的制作工藝首先將原料經玻璃熔窯高溫熔融后淬火而得粒料,此為第一次燒結;然后將粒料填充進四周分布有阻擋層的模具中,經陶瓷窯爐微晶化燒結(第二次燒結),最后用石材切削機械拋光、研磨、整形而得微晶玻璃建筑構件,例如微晶玻璃板材。這種經二次燒結而獲得的板材因為晶化的溫度難以控制導致微晶玻璃板材具有如下缺陷內部具有氣泡,經拋光1-2mm后的板材表面會出現該氣泡,直徑在1mm左右,很不美觀。基于上述缺點,現有技術制作而成的具有多項優質性能的微晶玻璃板材通常只能作為地磚使用,而無法制成微晶玻璃臺面板,這一直是本行業急待解決的問題。究其原因,主要是因為將微晶玻璃板材作為地磚,一般只需研磨其表面,對研磨厚度要求比較小,不會出現氣泡,而如果作臺面板,需要對其側面及側緣進行倒圓磨邊,則由該氣泡而產生的毛細孔顯露無疑,致使臺面板不美觀也不耐用。
    技術實現思路
    本專利技術的目的在于克服現有技術中的缺點而提供一種美觀、表面及側緣無毛細孔的微晶玻璃臺面板,及生產這種微晶玻璃臺面板的制備方法,進一步還提供該微晶玻璃臺面板的應用。本專利技術的目的可以經如下方案實現。微晶玻璃臺面板,其要點在于,該臺面板由如下方法制備而獲得以至少包含有石英砂和石灰石的配合料為原料,將配合料混合均勻后送入玻璃熔窯中進行第一次燒結,熔制的溫度為1300~1600℃,待玻璃溶液成份均勻、氣泡澄清后在水中淬火烘干而得玻璃粒料;提供一種阻擋層,它至少確定該玻璃粒料的至少一個表面臨界層,所述的阻擋層表面鋪設有耐火防粘層,和提供一種晶化窯爐;將玻璃粒料均勻地平攤于阻擋層表面,于晶化窯爐中進行第二次燒結,燒結后的玻璃粒料形成一個固態玻璃晶相構件,并由該阻擋層建立起上述的表面,然后自然冷卻;將冷卻后的半成品微晶構件于晶化窯爐中進行第三次燒結,燒結時的微晶化處理溫度為1110℃-1140℃,而且單次晶化溫度的變化應控制在0℃-10℃之間,處理時間為50-70分鐘,燒結后形成致密的微晶構件;最后用石材切削機械拋光、研磨、整形而得成品。微晶玻璃又稱玻璃陶瓷。其由晶相和殘余玻璃相組成的質地致密、均勻的熔結體。它是由某些玻璃加入一定量的成核劑(有時也不加),再經加熱(稱熱敏)或(和)光照(稱光敏)處理,使玻璃體內均勻地析出大量細小的晶體而制成的透明或不透明材料。晶體尺寸一般小于0.1μm,晶體含量可達50%~90%(體積)。這類玻璃的機械強度、化學穩定性、電性能均優于普通玻璃,而生產工藝和使用原料卻與普通玻璃相似,還可大量利用工業廢料。制備玻璃的原料通常有玻璃形成體,如石英砂、硼砂;玻璃調整物或熔劑,如芒硝、石灰石;同時可能還包含有玻璃中間體、澄清劑、著色劑、脫色劑、助熔劑、乳濁劑等,這些原料的提供為常規技術。上述的表面臨界層為微晶臺面板的表面層,該阻擋層可以是模具上的一個面。耐火防粘層主要是要防止晶塊與阻擋層粘結,例如一種硅酸鋁紙。該方法中的第一次燒結至第二次燒結的過程及條件控制完全可以與現有技術相同。通常該第二次燒結后的產品即為成品,但該成品仍有上文所述諸多缺點,因此才有了本專利技術人經長期的鉆研實驗而得出的增加第三次燒結過程來克服這些缺點的技術方案。本專利技術解決了人們一直渴望解決、但始終未能獲得成功的技術難題,因為長期以來本領域的技術人員均知道二次燒結的溫度難以控制才導致板材具有氣泡,卻一直想通過改變二次燒結的工藝條件來克服該不足,但是至今仍然沒法采用該方式克服技術問題。而本專利技術則克服了該技術問題,通過三次燒結使微晶玻璃板材的晶粒結合更致密而可以作為臺面板使用,使其達到了如下效果(1)板材內部致密,無氣泡,表面無凹坑,平面度強,耐磨,易于修整;(2)具有良好的美感和質感,外觀玉脂感強,具有玉石的通透性,不像其它作為臺面板的材料(如大理石、花崗巖和瓷質拋光磚)花紋浮于表面,缺乏立體感;(3)光澤度好,經拋磨后的臺面板的光澤度達100光澤單位,遠遠大于瓷質拋光磚和大理石等; (4)高強度、高硬度,該臺面板在晶化過程中析出大量的石灰石晶體,它與基體玻璃相互交織成一體,使其相比瓷質拋光磚具有很高的強度和硬度;(5)耐腐蝕,化學穩定性好,不吸水,不吸油污,抗凍性抗熱性好;(6)具有很好的環保性能,不含對人體有害的放射性物質。下表1具微晶玻璃臺面板與天然大理石及花崗巖的性能指標參數對比 如上表所示,微晶玻璃板只要克服了氣泡的問題,作為臺面板使用其具有比大理石或花崗巖石更優異的性能。本專利技術還在于可以增加如下的步驟以提高微晶玻璃作為臺面板的性價比將冷卻后的半成品微晶構件切割成條塊狀,然后將該至少一塊的條塊鋪設于阻擋層一側面而被阻擋層包圍在內,接著將第一次燒結的玻璃粒料均勻地平攤于由阻擋層及條塊所圍合而成的空間內,于晶化窯爐中進行第三次燒結。通過上述的工藝可以對需要進行深度研磨的臺面板的邊界,如側面、上表面的微晶體進行第三次的燒結,而研磨不到的臺面板其它部分則不采用三次燒結的工藝,這樣可以節省成本而同樣可以達到本專利技術的獲得美觀微晶玻璃臺面板的目的。一種微晶玻璃臺面板的制備方法,其具有如下依序進行的步驟1、提供一種至少包含有石英砂和石灰石的配合料,2、玻璃粒料的第一次燒結,1)提供一種玻璃熔窯, 2)將配合料混合均勻后送入玻璃熔窯中熔制,熔制的溫度為1300~1600℃,待玻璃溶液成份均勻、氣泡澄清后在水中淬火烘干而得玻璃粒料,3、提供一種阻擋層,它至少確定該玻璃粒料的至少一個表面臨界層,所述的阻擋層表面鋪設有耐火防粘層,和提供一種晶化窯爐,4、將玻璃粒料均勻地平攤于阻擋層表面,于晶化窯爐中進行第二次燒結,燒結后的玻璃粒料形成一個固態玻璃晶相構件,并由該阻擋層建立起上述的表面,然后自然冷卻,5、將冷卻后的半成品微晶構件于晶化窯爐中進行第三次燒結,燒結時的微晶化處理溫度為1110℃-1140℃,而且單次晶化溫度的變化應控制在0℃-10℃之間,處理時間為50-70分鐘,燒結后形成致密的微晶構件,6、最后用石材切削機械拋光、研磨、整形而得成品。微晶玻璃通常按玻璃基質的組成,分為硅酸鹽、鋁硅酸鹽、硼硅酸鹽、硼酸鹽、磷酸鹽微晶玻璃五大類。它們的性能指標取決于晶體的種類、含量、大小及玻璃相的種類等,種類不同所采用的原料不同,但這些均是現有技術可以確定的。微晶玻璃的生產流程通常與普通玻璃類似(只是熔制溫度略高),不同的是添加成核劑和進行微晶化熱處理。成核劑有金、銀、銅、二氧化鈦、氧化鋯及氟化鈣、氟化鈉等。光敏類配方中還需另加增感劑,如氧化硒、氧化錫等,目的在于促進成核,降低微晶化熱處理溫度。不管是第二次燒結還是第三次燒結,微晶化過程對溫度要求都是比較嚴格的,雖然在燒結時的微晶化處理溫度為1110℃-1140℃,而每批處理時的微晶化溫度的變化應控制在0℃-10℃之間為好,即如果處理溫度為1125℃,則上下溫度變化范圍為1115℃-1135℃之間。而且晶化時間應能滿足析晶的要求。同時需要說明的是,本專利技術所述本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    【技術特征摘要】

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:許步晶
    申請(專利權)人:許步晶,
    類型:發明
    國別省市:

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