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    封裝方法及封裝體技術(shù)

    技術(shù)編號(hào):14636612 閱讀:188 留言:0更新日期:2017-02-15 10:45
    本發(fā)明專利技術(shù)提供一種封裝方法及封裝體,所述封裝方法包括如下步驟:提供一載體;在所述載體上形成一個(gè)或多個(gè)焊墊;在所述載體需要設(shè)置芯片的表面覆蓋預(yù)填充層;在所述預(yù)填充層上放置至少一個(gè)芯片;將所述芯片與所述焊墊進(jìn)行引線連接;塑封并去除所述載體,形成封裝結(jié)構(gòu)。本發(fā)明專利技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)在于:可以解決焊線打在芯片懸空基島的問(wèn)題,使焊線得到良好的作業(yè)性;可以提高排布密度,也可以提高切割刀子的使用壽命,進(jìn)而節(jié)省成本;可以得到較薄的封裝體;解決超薄基板在生產(chǎn)過(guò)程中由于強(qiáng)度太低造成的一系列作業(yè)困難。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域,尤其涉及一種封裝方法及封裝體
    技術(shù)介紹
    現(xiàn)有的一些封裝產(chǎn)品,例如QFN產(chǎn)品,會(huì)存在一些沒(méi)有裸露的芯片焊盤(pán)(exposedpad)或者芯片焊盤(pán)(exposedpad)很小的產(chǎn)品。參見(jiàn)圖1,框架包括引腳101及基島102,所述引腳101與預(yù)貼膜103貼合,所述預(yù)貼膜103起到支撐的作用,而由于無(wú)暴露的散熱片,框架在放芯片的區(qū)域?yàn)榘胛g刻設(shè)計(jì),即基島102為半蝕刻,芯片104放置在基島102上,如此一來(lái),芯片104上的打線區(qū)域就處于懸空狀態(tài),導(dǎo)致無(wú)法打線或者打線困難、焊線的作業(yè)性不好。現(xiàn)有技術(shù)中,解決這一問(wèn)題的方法是在框架上進(jìn)行預(yù)注膠制程,預(yù)先形成一預(yù)制填充層,以支撐所述基島,避免打線區(qū)域處于懸空狀態(tài)。參見(jiàn)圖2所示,在所述框架底部半蝕刻區(qū)域填充一支撐層105,所述支撐層105支撐所述基島102,形成支撐層105后再進(jìn)行打線,從而避免打線區(qū)域處于懸空狀態(tài),焊線得到良好的作業(yè)性。但是,上述方法存在一定的局限性,在框架厚度很薄時(shí),容納膠水的空間較小,框架會(huì)變形,膠水會(huì)溢出,且進(jìn)行預(yù)注膠制程的良率損失很大,框架變形很難管控,框架越薄,制程中產(chǎn)生的變形越多,溢膠情況很嚴(yán)重。溢出的膠可能會(huì)蔓延到引腳,從而影響產(chǎn)品的性能。
    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
    本專利技術(shù)所要解決的技術(shù)問(wèn)題是,提供一種封裝方法及封裝體,其能夠使焊線得到良好的作業(yè)性,且能夠解決超薄基板在生產(chǎn)過(guò)程中由于強(qiáng)度太低造成的的一系列作業(yè)困難。為了解決上述問(wèn)題,本專利技術(shù)提供了一種封裝方法,包括如下步驟:提供一載體;在所述載體上形成一個(gè)或多個(gè)焊墊;在所述載體需要設(shè)置芯片的表面覆蓋預(yù)填充層;在所述預(yù)填充層上放置至少一個(gè)芯片;將所述芯片與所述焊墊進(jìn)行引線連接;塑封并去除所述載體,形成封裝結(jié)構(gòu)。進(jìn)一步,在所述載體上形成一個(gè)或多個(gè)焊墊的方法包括如下步驟:在所述載體表面形成掩膜;圖形化所述掩膜;沉積金屬;去除所述掩膜,形成一個(gè)或多個(gè)焊墊。進(jìn)一步,所述預(yù)填充層的材料與所述塑封步驟中采用的塑封材料相同。進(jìn)一步,所述預(yù)填充層的材料為液態(tài)光致阻焊劑。進(jìn)一步,所述預(yù)填充層上表面與所述焊墊上表面齊平。進(jìn)一步,所述預(yù)填充層上表面高于所述焊墊上表面,且覆蓋所述焊墊的上表面的一部分。進(jìn)一步,所述載體的裸露表面均覆蓋預(yù)填充層。本專利技術(shù)還提供一種封裝體,包括一個(gè)或多個(gè)焊墊及至少一個(gè)芯片,在所述芯片的設(shè)置區(qū)域具有一預(yù)填充層,所述芯片設(shè)置在所述預(yù)填充層上。進(jìn)一步,所述預(yù)填充層的材料與所述封裝體的塑封材料相同。進(jìn)一步,所述預(yù)填充層的材料為液態(tài)光致阻焊劑。進(jìn)一步,所述預(yù)填充層上表面與所述焊墊上表面齊平。進(jìn)一步,所述預(yù)填充層上表面高于所述焊墊上表面,且覆蓋所述焊墊的上表面的一部分。進(jìn)一步,所述焊墊上下表面形狀相同。本專利技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)在于:(1)QFN的設(shè)計(jì)不再被暴露散熱片所限制。(2)可以解決焊線打在芯片懸空基島的問(wèn)題,使焊線得到良好的作業(yè)性。(3)本專利技術(shù)的封裝方法可以得到在切割道上無(wú)金屬的設(shè)計(jì),從而可以提高排布密度,也可以提高切割刀子的使用壽命,進(jìn)而節(jié)省成本。(4)由于這個(gè)設(shè)計(jì)并沒(méi)有傳統(tǒng)意義上的較厚的框架,因而可以得到較薄的封裝體。(5)由于采用了載體作業(yè),可以對(duì)超薄基板產(chǎn)品的基板進(jìn)行替代,解決超薄基板在生產(chǎn)過(guò)程中由于強(qiáng)度太低造成的的一系列作業(yè)困難。附圖說(shuō)明圖1是現(xiàn)有的QFN封裝體的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2是現(xiàn)有的解決基島懸空的方法的示意圖;圖3是本專利技術(shù)封裝方法第一具體實(shí)施方式的步驟示意圖;圖4A~圖4G是本專利技術(shù)封裝方法第一具體實(shí)施方式的工藝流程圖;圖5A~圖5D是焊墊的制作方法的工藝流程圖;圖6是本專利技術(shù)封裝方法第二具體實(shí)施方式的步驟示意圖;圖7A~圖7F是本專利技術(shù)封裝方法第二具體實(shí)施方式的工藝流程圖。具體實(shí)施方式下面結(jié)合附圖對(duì)本專利技術(shù)提供的封裝方法及封裝體的具體實(shí)施方式做詳細(xì)說(shuō)明。參見(jiàn)圖3,本專利技術(shù)封裝方法第一具體實(shí)施方式包括如下步驟:步驟S30:提供一載體;步驟S31:在所述載體上形成一個(gè)或多個(gè)焊墊;步驟S32:在所述載體需要設(shè)置芯片的表面覆蓋預(yù)填充層;步驟S33:在所述預(yù)填充層上放置至少一個(gè)芯片;步驟S34:將所述芯片與所述焊墊進(jìn)行引線連接;步驟S35:塑封;步驟S36:去除所述載體,形成封裝結(jié)構(gòu)。圖4A~圖4G所示為本專利技術(shù)封裝方法第一具體實(shí)施方式的工藝流程圖。參見(jiàn)步驟S30及圖4A,提供一載體400。在本具體實(shí)施方式中,所述載體400為碳素鋼。本領(lǐng)域技術(shù)人員可從現(xiàn)有技術(shù)中獲得所述載體400的材料組成,本專利技術(shù)并不限于碳素鋼。參見(jiàn)步驟S31及圖4B,在所述載體400上形成一個(gè)或多個(gè)焊墊401。在本具體實(shí)施方式中,多個(gè)所述焊墊401間隔設(shè)置,在至少兩個(gè)焊墊401之間,可設(shè)置芯片。在本專利技術(shù)其他具體實(shí)施方式中,多個(gè)所述焊墊401均設(shè)置在芯片的一側(cè)。本專利技術(shù)形成所述焊墊401的方法可以采用掩膜法形成,所述掩膜法包括如下步驟:參見(jiàn)圖5A,在所述載體400的表面涂覆掩膜500。參見(jiàn)圖5B,圖形化所述掩膜層500,使得所述載體400需要制作焊墊的區(qū)域暴露。參見(jiàn)圖5C,沉積金屬501。參見(jiàn)圖5D,去除所述掩膜500及掩膜500表面的金屬,形成一個(gè)或多個(gè)焊墊401。參見(jiàn)步驟S32及圖4C,在所述載體400需要設(shè)置芯片的表面覆蓋預(yù)填充層402。在本具體實(shí)施方式中,所述預(yù)填充層402的材料與后續(xù)塑封步驟中采用的塑封材料相同,則在后續(xù)塑封步驟后,所述塑封材料與所述預(yù)填充層402可成為一體。在本具體實(shí)施方式中,所述載體400的裸露表面均覆蓋所述預(yù)填充層402。所述預(yù)填充層402的上表面與所述焊墊401的上表面齊平。在本專利技術(shù)其他具體實(shí)施方式中,所述預(yù)填充層402僅覆蓋載體400需要設(shè)置芯片的表面,載體400不需要設(shè)置芯片的表面并不覆蓋預(yù)填充層402。參見(jiàn)步驟S33及圖4D,在所述預(yù)填充層402上放置至少一個(gè)芯片403。所述芯片403可以設(shè)置在多個(gè)焊墊401之間,例如兩個(gè)相鄰的焊墊401之間,也可以設(shè)置在多個(gè)所述焊墊401的同一側(cè),本文對(duì)此不進(jìn)行限制。在該步驟中,由于芯片403放置區(qū)域有預(yù)填充層402支撐,并非處于懸空狀態(tài),所以在后續(xù)制程中不會(huì)出現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中的問(wèn)題。參見(jiàn)步驟S34及圖4E,將所述芯片403與所述焊墊401采用引線404連接,引線連接工藝為常規(guī)打線工藝,本文不再贅述。參見(jiàn)步驟S35圖4F,塑封。在該步驟中,采用塑封材料塑封芯片403、焊墊401、引線403及預(yù)填充層402,塑封的方法為常規(guī)方法,本文不再贅述。參見(jiàn)步驟S36圖4G,去除所述載體400,形成封裝結(jié)構(gòu)。去除載體400的方法為常規(guī)方法,本文不再贅述。本專利技術(shù)封裝方法還提供一第二具體實(shí)施方式,所述第二具體實(shí)施方式與第一具體實(shí)施方式的區(qū)別在于,形成預(yù)填充層的材料不同。在第二具體實(shí)施方式中,形成預(yù)填充層的材料為液態(tài)光致阻焊劑。第二具體實(shí)施方式的步驟如下。第二具體實(shí)施方式形成焊墊的方法與第一具體實(shí)施方式相同,請(qǐng)參見(jiàn)上述描述及附圖4A~4B。形成預(yù)填充層的方法請(qǐng)參見(jiàn)如下步驟。參見(jiàn)步驟S60及圖7A,在所述載體400及焊墊401表面涂覆預(yù)填充層702,所述預(yù)填充層702的材料為液態(tài)光致阻焊劑,所述液態(tài)光致阻焊劑俗稱綠漆。在本具體實(shí)施方式中,所述預(yù)填充層702覆蓋所述載體400及焊墊401表面,在其他具體實(shí)施方式中,所述預(yù)填充層702覆蓋所述載體400裸露的表面或者需要設(shè)置芯片本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...
    封裝方法及封裝體

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
    一種封裝方法,其特征在于,包括如下步驟:提供一載體;在所述載體上形成一個(gè)或多個(gè)焊墊;在所述載體需要設(shè)置芯片的表面覆蓋預(yù)填充層;在所述預(yù)填充層上放置至少一個(gè)芯片;將所述芯片與所述焊墊進(jìn)行引線連接;塑封并去除所述載體,形成封裝結(jié)構(gòu)。

    【技術(shù)特征摘要】
    1.一種封裝方法,其特征在于,包括如下步驟:提供一載體;在所述載體上形成一個(gè)或多個(gè)焊墊;在所述載體需要設(shè)置芯片的表面覆蓋預(yù)填充層;在所述預(yù)填充層上放置至少一個(gè)芯片;將所述芯片與所述焊墊進(jìn)行引線連接;塑封并去除所述載體,形成封裝結(jié)構(gòu)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的封裝方法,其特征在于,進(jìn)一步,在所述載體上形成一個(gè)或多個(gè)焊墊的方法包括如下步驟:在所述載體表面形成掩膜;圖形化所述掩膜;沉積金屬;去除所述掩膜,形成一個(gè)或多個(gè)焊墊。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的封裝方法,其特征在于,所述預(yù)填充層的材料與所述塑封步驟中采用的塑封材料相同。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的封裝方法,其特征在于,所述預(yù)填充層的材料為液態(tài)光致阻焊劑。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的封裝方法,其特征在于,所述預(yù)填充層上表面與所述焊墊上表面齊平。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的封裝方法,其特征...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:陽(yáng)小芮劉道健
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:上海凱虹科技電子有限公司上海凱虹電子有限公司達(dá)邇科技成都有限公司
    類型:發(fā)明
    國(guó)別省市:上海;31

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