平板玻璃基板減薄蝕刻槽制造技術

本發明專利技術涉及一種平板玻璃基板減薄蝕刻槽，包括一槽體，所述槽體為長方體形罐體，槽體側壁的上部開設有進液口，槽體側壁的下部開設有抽液口，槽體底壁的中心處開設有排液口，槽體底壁上方設置有鼓泡板，所述鼓泡板上開設有均勻分布的圓形鼓泡孔。因此，本發明專利技術通過槽體側壁上開設的進液口與抽液口形成了底部抽液、頂部進液的主動循環模式，能夠將蝕刻液從槽體的底部抽出從槽體的頂部回到槽體中，達到了蝕刻液均勻的目的，從而可以蝕刻出厚度均勻的玻璃基板；另外還通過槽體底壁上方設置的開設有均勻分布的圓形鼓泡孔的鼓泡板，能夠促使蝕刻液更加均勻，而且還能夠及時去除附著在玻璃表面的反應生成物，從而可以蝕刻出表面效果良好的玻璃基板。

Plate glass substrate thinning etching tank

The invention relates to a flat glass substrate thinning etching groove comprises a groove body, wherein the body is a rectangular tank, the upper body side wall is provided with a liquid inlet, the lower side wall of the tank is provided with liquid suction mouth, the wall at the center of the bottom of the tank body is provided with a liquid discharging port, the tank bottom wall. Equipped with bubble plate, the bubbling plate is provided with a circular drum uniform bubble. Therefore, the liquid inlet and drainage opening groove on the side wall of the mouth to form active circulation mode bottom drainage and top liquid, can be pumped from the tank at the bottom of the etching liquid from the tank top to tank, achieves the purpose of uniform etching liquid, which can etch the thickness of the glass substrate uniform; also by opening the tank above the bottom wall is provided with a circular drum uniform bubble bubble plate can make the etching solution more evenly, but also can be attached on the surface of the glass reaction product, which can be etched out of glass substrate surface good effect.

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及終端顯示產品制造領域，尤其是一種平板玻璃基板減薄蝕刻槽。
技術介紹
隨著電子信息產業的高速發展，顯示產品進入一個嶄新的階段。人們對 顯示的追求也更加時尚化，超薄終端顯示產品成為市場發展的一個主流。顯 示面板作為顯示終端的核心部件，其薄型化是終端產品能否實現薄型化的關 鍵。目前，受限于前段制程，玻璃基板廠商所能提供的玻璃基板厚度最薄只能到0. 5mm，而終端顯示產品要求玻璃基板厚度已經達到了 0. 3隱甚至更薄。 因此產生了平板玻璃基板減薄工藝，即將已成盒后的雙面玻璃基板通過物理 或化學方法去除一層而實現減薄。物理方法即機械研磨，其產能底、良品率 低；化學方法即化學蝕刻，該方法蝕刻出來的玻璃基板需要達到厚度均勻、 表面效果良好的要求。但是，上述技術方案中所使用的蝕刻槽的具體結構卻 未見公開。
技術實現思路
本專利技術的目的是提供一種平板玻璃基板減薄蝕刻槽，能夠蝕刻出厚度均 勻、表面效果良好的玻璃基板，從而達到平板玻璃基板減薄的技術要求。為實現上述目的，本專利技術提供了一種平板玻璃基板減薄蝕刻槽，包括一 槽體，所述槽體為長方體形罐體，槽體側壁的上部開設有進液口，槽體側壁 的下部開設有抽液口，槽體底壁的中心處開設有排液口，槽體底壁上方設置有鼓泡板，所述鼓泡板上開設有均勻分布的圓形鼓泡孔。因此，本專利技術通過槽體側壁上開設的進液口與抽液口形成了底部抽液、 頂部進液的主動循環模式，能夠將蝕刻液從槽體的底部抽出從槽體的頂部回到槽體中，達到了蝕刻液均勻的目的，從而可以蝕刻出厚度均勻的玻璃基板； 另外還通過槽體底壁上方設置的開設有均勻分布的圓形鼓泡孔的鼓泡板，能 夠促使蝕刻液更加均勻，而且還能夠及時去除附著在玻璃表面的反應生成物， 從而可以蝕刻出表面效果良好的玻璃基板。附圖說明圖1為本專利技術平板玻璃基板減薄蝕刻槽的實施例的立體結構示意圖 圖2為圖1的主碎見圖； 圖3為圖1的俯視圖。附圖標記說明10—槽體； 20—側壁；40—抽液口； 50—底壁；70—鼓泡板； 71—鼓泡孔；21 —前側壁； 22—后側壁； 24—右側壁。30—進液口； 60—排液口； 80—夾具； 23 —左側壁；具體實施例方式下面通過附圖和實施例，對本專利技術的技術方案做進一步的詳細描述。本專利技術平板玻璃基板減薄蝕刻槽的實施例包括一長方體形罐體的槽體； 槽體側壁的上部開設有進液口，槽體側壁的下部開設有抽液口，以供形成底部抽液、頂部進液的主動循環模式；槽體底壁的中心處開設有排液口，以供 蝕刻完成后排放廢棄的蝕刻液；槽體底壁上方設置有鼓泡板，鼓泡板上開設 有均勻分布的圓形鼓泡孔，可以使得蝕刻液更加均勻，而且還能夠及時去除 附著在玻璃表面的反應生成物。如圖1、圖2和圖3所示，圖1為本專利技術平板玻璃基板減薄蝕刻槽的實施 例的立體結構示意圖，圖2為圖1的主視圖，圖3為圖1的俯3見圖。本實施例 包括一槽體IO，槽體10為長方體形罐體，槽體側壁20的上部開設有進液口 30，槽體側壁20的下部開設有抽液口 40，槽體底壁50向中心傾斜，該傾斜 的中心處開設有排液口 60，槽體底壁5Q上方設置有鼓泡板7Q，鼓泡板70上 開設有均勻分布的圓形鼓泡孔71。進一步地，槽體10中還可以設置有用于固 定玻璃基板的夾具80，該夾具80放入槽體10中具有固定位置，以滿足平板 玻璃基板減薄蝕刻槽的蝕刻流程。本實施例中，通過槽體側壁上開設的進液口與抽液口形成了底部抽液、 頂部進液的主動循環模式，能夠將蝕刻液從槽體的底部抽出從槽體的頂部回 到槽體中，達到了蝕刻液均勻的目的，從而可以蝕刻出厚度均勻的玻璃基板； 另外還通過槽體底壁向中心傾斜，使蝕刻產生的不溶物最大限度進行沉淀， 減少了循環可能抽起的沉淀物重新附著玻璃基板表面而影響其表面效果現象 的發生，從而可以蝕刻出表面效果良好的玻璃基板；另外又通過槽體底壁上 方設置的開設有均勻分布的圓形鼓泡孔的鼓泡板，能夠促使蝕刻液更加均勻， 而且還能夠及時去除附著在玻璃表面的反應生成物，從而可以蝕刻出表面效 果良好的玻璃基板。進一步地，槽體側壁均勻纏繞有制冷盤管，用于吸收蝕刻過程中放熱產 生的熱量，使溫度穩定。本實施例中，還可以釆用過濾器替代上述傾斜的槽體底壁結構，而該過 濾器能夠循環過濾去除反應中生成的沉淀物質。此外，本實施例中，還可以通過其他液體攪拌方式使蝕刻液更加均勻。本實施例中，進液口 30可以分別開設在槽體四個側壁20即前側壁21、 后側壁22、左側壁23和右側壁24的上部，進液口 30的位置與實際蝕刻液的 液位基本保持水平，并距離產品即玻璃基板上沿有一定的垂直距離，大約可 以為30 ~ 100mm;抽液口 40可以分別開設在槽體左側壁23和右側壁24的下 部分，抽液口 40的位置與鼓泡板70基本保持水平，鼓泡板70距離夾具80下沿有一定的垂直距離，大約可以為30~100mm;槽體底部做成兩邊向中間傾 斜呈鈍角，該鈍角大約可以為100 - 160°;排液口 60的直徑大約可以為5~ 20mm;鼓泡孔n的圓心距大約可以為10~50mm。其中進液口 30與抽液口 40 之間蝕刻液的循環流量大約可以為0~150L/min,循環流量由槽體大小決定， 槽體越大，循環量越大，最佳循環量=槽體容積/10;鼓泡板的壓力大約可以 為0~ 0. 5MPa。較佳地，下面更為具體地列舉具體數據說明本專利技術平板玻璃基板減薄蝕 刻槽的上述實施例。LCD基板的最大尺寸可以為370 x 470mm，厚度單面0. 5,; 槽體尺寸500 L x 500Wx 600H隨(根據產能和基板尺寸需求改變大小)；槽 體底壁傾斜鈍角為150度；排液口位于槽體底壁傾斜的中心處；抽液口分別 位于槽體左側壁和右側壁的下部，與鼓泡板基本保持水平；進液口分別位于 槽體前側壁、后側壁、左側壁和右側壁的上部，與實際液位基本持平，距離 鼓泡板的垂直距離約為460mm，距離產品即LCD基板上沿的垂直距離約為 60mm;鼓泡板距離夾具下沿的垂直距離約為50mm;鼓泡孔的直徑約為10mm, 圓心距離約為30mm。經過本專利技術平板玻璃基板減薄蝕刻槽的實施例，采用上述數據驗證之后， 得出如下結論同時放置9片單面厚度0. 5mm的產品即LCD面板，蝕刻減薄 后單面基板可以為0. 4mm、 0. 35mm、 0. 3mm和0. 25mm，均勻度均小于2%,遠 遠好于厚度均勻度技術指標5%;蝕刻后產品沒有嚴重凸起水紋、斑狀霧化、 深劃痕等瑕疵，有輕微霧化瑕疵產品經短時間拋光后全部去除；經過后續工 序如切割、IC綁定(IC Bounding)等，均與蝕刻前產品的表面效果相同， 顯示效果也與蝕刻前產品沒有區別。最后應說明的是以上實施例僅用以說明本專利技術的技術方案，而非對其 限制；盡管參照前述實施例對本專利技術進行了詳細的說明，本領域的普通技術 人員應當理解其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或 者對其中部分技術特征進行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應技術方案的本質脫離本專利技術各實施例技術方案的精神和范圍。權利要求1、一種平板玻璃基板減薄蝕刻槽，其特征在于包括一槽體，所述槽體為長方體形罐體，槽體側壁的上部開設有進液口，槽體側壁的下部開設有抽液口，槽體底壁的中心處開設有排液口，槽體底壁上方設置有鼓泡板，所述鼓泡板本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種平板玻璃基板減薄蝕刻槽，其特征在于包括一槽體，所述槽體為長方體形罐體，槽體側壁的上部開設有進液口，槽體側壁的下部開設有抽液口，槽體底壁的中心處開設有排液口，槽體底壁上方設置有鼓泡板，所述鼓泡板上開設有均勻分布的圓形鼓泡孔。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：王乾旭，王道鵬，朱墨雨，朱斌，
申請(專利權)人：京東方科技集團股份有限公司，京東方河北移動顯示技術有限公司，京東方現代北京顯示技術有限公司，
類型：發明
國別省市：11[中國|北京]