低反射膜及其制造方法技術

本發明專利技術涉及一種低反射膜及其制造方法，即通過形成含有可溶性物質的多孔層用涂層，然后使用溶劑對可溶性物質進行溶解和萃取，以形成空隙，制造出多孔層。本發明專利技術可根據其孔隙率調節折射率，從而制造其表面反射在２％以下，具有很好的耐劃傷性能，且制造成本低廉。

Low reflective film and method for manufacturing the same

The invention relates to a low reflection film and its manufacturing method, namely by forming a porous layer containing soluble substances by coating, and then use the solvent dissolution and extraction of soluble substances to form voids, produce porous layer. The invention can adjust the refractive index according to its porosity, so as to make the surface reflection below 2%, have good scratch resistance and low manufacturing cost.

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及到，尤其是涉及一種形成包括可溶性物質的多孔層用涂層后，使用溶劑對可溶性物質進行溶解和萃取，從而在上述多孔層用涂層上設置空隙，形成多孔層的。
技術介紹
當前，顯示技術急速發展，在LCD，CRT、PDP或OLED(有機液晶顯示器)等顯示裝置上，通常為了防止對比度(Contrast)因外部光線的反射及圖像的反射而減少，在顯示裝置的最外層表面配置抗反射膜。具有這種功能的抗反射膜上涂有抗反射(AR，Anti-Reflection)或低反射(LR，Low-Reflection)物質。現有的抗反射膜由一個以上的金屬氧化物構成的透明層層疊而成。由金屬氧化物構成的透明層通過CVD(化學蒸鍍)法或PVD(物理蒸鍍)法等方法形成，其中普遍使用PVD法。該金屬氧化物層作為抗反射膜具有優異的性能，但生產成本很高，故無法適用于大量生產。后來，開發出了將含有無機微粒以及低折射化學物，比如氟類化合物的涂料涂布在膜上，從而制造抗反射膜的方法，來替代蒸鍍工序。比如，有在支撐體上層疊高折射率層，在其上方層疊由無機微粒構成的低折射率層，制造出抗反射膜的方法，以及使用兩種以上的MgF2或SiO2等微粒，根據厚度選定其混合比例來改變折射率，從而制造出抗反射膜的方法。另外，還有形成使用中空微粒的低折射率層，制造出抗反射膜的方法。具體是，使用中空氧化硅的無機粉末和粘合劑制造抗反射膜的方法。但是，上述現有技術中，當使用無機微粒時，涂布成本過高，而使用氟類化合物時，其表面硬度低，易劃傷，使用于顯示裝置容易出現劃痕，目前還需克服此類問題。
技術實現思路
本專利技術旨在解決上述問題，其目的在于提供一種通過引入硬涂層，在其上方形成含有可溶性物質的多孔層用涂層，然后使用溶劑對可溶性物質進行溶解和萃取，以形成空隙，制造出多孔層，并根據其孔隙率調節折射率，從而制造其表面反射在2％以下，具有很好的耐劃傷性能，且制造成本低廉的。為了實現上述目的，本專利技術提供一種低反射膜，所述低反射膜包括形成在透明基膜上面的硬涂層以及形成在上述硬涂層上部的多孔層。另外，上述低反射膜，其特征在于，上述多孔層的孔隙率在10～50％范圍內。另外，上述低反射膜，其特征在于，上述多孔層的折射率小于硬涂層，其折射率在1.25～1.45范圍之內，反射率為2％以下。另外，上述低反射膜，其特征在于，上述硬涂層的表面硬度為2H以上。另外，上述低反射膜，其特征在于，上述多孔層的空隙大小為10～70nm。另外，作為本專利技術的另一實施形式，低反射膜的制造方法，其特征在于，包括在透明基膜的至少一面上涂布含有可溶性物質的涂料，以形成多孔層用涂層的步驟；以及使用溶劑將上述可溶性物質的全部或一部分溶解，從而形成多孔層的步驟。另外，低反射膜的制造方法，其特征在于，上述可溶性物質為，在溶解于水、醇類、酮類溶劑中至少一種溶劑的有機物或無機物中選擇的至少一種。另外，低反射膜的制造方法，其特征在于，上述溶劑為，水、醇類及酮類溶劑中的至少一種。另外，低反射膜的制造方法，其特征在于，上述可溶性物質的含量為，相對于100重量份的包含上述可溶性物質的涂料，含有10～50重量份。本專利技術之，通過添加可溶性物質而形成涂層，并使用溶劑將其溶解萃取，而制造多孔層，從而提供具有優秀的表面硬度，且表面反射為2％以下的抗反射性能。另外，可根據可溶性物質的投入量來控制折射率，因此很容易控制反射率，而且使用低廉的材料，降低了制造成本。附圖說明圖1為本專利技術之一實施例的低反射膜的剖視圖；圖2為本專利技術之另一實施例的低反射膜的制造方法流程圖。附圖符號說明1透明基膜2硬涂層3多孔層具體實施方式下面，參照附圖及實施例，對本專利技術進行詳細說明。圖1為本專利技術之一實施例的低反射膜的剖視圖。如圖所示，包括形成在透明基膜1上面的硬涂層2以及形成在上述硬涂層2上面，且其折射率小于上述硬涂層的折射率的多孔層3。作為上述透明基膜1，只要是透明膜，都可以使用。例如，纖維素衍生物，具體是，雙乙酰纖維素、三乙酰纖維素、丙酰纖維素、丁酰纖維素、乙酰丙酰纖維素，以及聚酯、聚酰胺、聚酰亞胺、聚醚砜、聚砜、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇縮乙醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚氨酯、環氧樹脂等熱可塑性聚合體的未延伸、一軸或二軸延伸薄膜。其中，優選使用具有優秀的透明度和耐熱性的經過一軸或二軸延伸的聚酯薄膜，以及具有透明度且不具有光學上的各向異性的三乙酰纖維素薄膜。雖不限定透明基膜的厚度，通常為8～1000μm左右，優選使用40～100μm的范圍。使用于上述硬涂層2的材料，只要具有優秀的耐劃傷性能即可，并無特別限定。這里所說的硬涂層指的是，在鉛筆硬度試驗中，具有H以上硬度的涂層。優選使用，可使硬涂層的表面硬度為2H以上，最好為4H以上的涂料。優選使用經紫外線或熱而固化的反應性固化樹脂或反應性有機硅化合物。作為一例，可使用有機-無機復合型(反應性氧化硅粒子)的紫外線固化樹脂，其可通過將氧化硅粒子和具有高分子不飽和基的水解性硅烷混合，并通過化學結合而制造。與反應性氧化硅粒子結合的、具有高分子不飽和基的水解性硅烷的量約為0.05～99重量％，優選5～85重量％。上述量如低于0.05重量％，影響經固化的樹脂的透明度以及耐磨性，而如高于99重量％，其耐磨性的提高不明顯。水解性甲硅烷基可使用，醋酸基甲硅烷基等羧酸酯甲硅烷基、甲氧基或乙氧基甲硅烷基等烷氧基甲硅烷基、氯化甲硅烷基等鹵化甲硅烷基、氨基或羥基甲硅烷基，其中優選使用烷氧基甲硅烷基。上述高分子性不飽和基可使用，羧基、羥基、丙烯?；?、異丁烯酸基、乙烯基、丙稀基、丁間二烯基、苯乙烯基、肉桂?；?、馬來酸鹽、丙烯酰胺基等。其中優選使用含有羥基的不飽和脂肪性羧酸和異丁烯酸鹽化合物。反應性氧化硅粒子的平均粒徑優選為0.0001～1μm，使用于固化的透明膜時，優選為0.001～0.01μm。氧化硅粒子的比表面積優選為0.001～2m2/g，更優選0.001～0.1m2/g，最優選0.001～0.01m2/g。氧化硅粒子可使用干燥粉末，或分散在甲醇的硅溶膠等有機溶劑中的硅膠。反應性氧化硅粒子在20～150℃溫度下，5分鐘至24小時時間范圍內制造。為了在紫外線下固化，上述硬涂層2中可添加光敏引發劑(Photoinitiator)，可使用本領域公知的光敏引發劑。具體是，可單獨或混合使用0.1～10重量％的二苯甲酮、苯甲基甲基縮酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基-1-酮、4-羥基環苯酮、二甲氧基-2-苯乙酮、蒽醌、芴、三苯胺、咔唑、3-甲基苯乙酮、4-氯化苯乙酮、4，4-二甲氧基苯乙酮、4，4-二氨基苯甲酮。如低于0.1重量％，固化速度降低，而高于10重量％則不經濟。光刺激劑可與光敏引發劑共用，可使用例如，三乙胺、二乙胺、甲基二乙醇胺、乙醇胺、4-二甲氨基-苯甲酸、異戊基-4-二甲氨基苯甲酸鹽等。除了上述物質以外，還可添加抗氧化劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、熱高分子化抑制劑、勻染劑、表面活性劑、潤滑劑等。上述多孔層3在其表面和內部形成有空隙，對其孔隙率不作特別限定，優選為10～50％，更優選18～40％。當孔隙率小于10％時，有可能出現低折射效果以及抗表面反射效果降低的問題，而當孔隙率大于50％時，則因形成微小空隙而導致耐劃傷性能以及透光本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種低反射膜，其特征在于，包括：形成在透明基膜上部的硬涂層，以及形成在上述硬涂層上部的多孔層。

【技術特征摘要】
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【專利技術屬性】
技術研發人員：梁敏洙，琴同基，李佳妍，林巨山，
申請(專利權)人：東友精細化工有限公司，
類型：發明
國別省市：KR[韓國]