一種折射率連續漸變的光學薄膜制備方法技術

本發明專利技術公開一種折射率連續漸變的光學薄膜制備方法，包括以下步驟：一、樣品臺設置：提供一基底，將基底設置在通過轉動軸實現轉動的樣品臺上，且樣品臺的轉動軸與基底表面平行，二、材料源設置：提供一蒸鍍源或濺射靶材，調整蒸鍍源或濺射靶材位置，使其向基底入射的方向與樣品臺的轉動軸垂直，蒸鍍源或濺射靶材入射方向與基底之間形成可變化的夾角；三、鍍膜控制：蒸鍍源或濺射靶材向樣品臺上的基底送入鍍膜材料，此時不斷轉動樣品臺并控制轉速，使基底與蒸鍍源或濺射靶材之間的夾角在0?90°內連續變化，制得密度連續變化的光學薄膜。本發明專利技術實現蒸鍍光學薄膜的折射率的連續控制，制得光學薄膜產品具有更好的光學性能，可有效增加對光的穿透或反射的控制。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及光學材料
，特別是一種折射率連續漸變的光學薄膜制備方法。
技術介紹
光學材料是用于光學實驗和光學儀器中的具有一定光學性質和功能的材料的統稱，光介質材料是傳輸光線的材料，入射光學材料的光線經過折射、反射會改變光線的方向、位相和偏振態，還可經過吸收或散射改變光線的強度和光譜成分。光學薄膜是由薄的分層介質構成的，通過界面傳播光束的一類光學介質材料，現今光學薄膜已廣泛用于光學和光電子
，制造各種光學儀器。光學薄膜傳統上采用真空鍍膜工藝來制備，主流上是采用單一材料單一的成膜方式，制備只有單一折射率的光學材料，這種材料折射率控制范圍較小，在特定應用中需要制備折射率連續漸變的光學材料，目前已有相關的技術文獻提出了漸變折射率光學材料的制備方法，如中國專利技術專利（公開號：104678461A）所公開的漸變折射率材料制備方法，其基于真空鍍膜工藝進行改進，具體方式為：提供一基底，采用掠入射角鍍膜或者化學腐蝕方式在所述基底表面鍍漸變折射率層，所述漸變折射率層是以傳統光學材料為基礎，通過改變結構中材料與空隙的體積比，從而調節所述漸變折射率層的有效折射率。上述方法是采用傳統的鍍膜或化學腐蝕工藝進行分段成膜的方式，可形成折射率分段漸變的光學材料，在單層膜層內折射率還是沒有變化，所有其折射率實際上是分段變化，而非線性的連續變化，除此之外，還有采用不同折射率的材料進行堆疊以達到不同的光學折射率的目的，此方法與單一材料分段成膜一樣，在單層膜層內折射率沒有變化，漸變缺乏持續性，而且分段蒸鍍膜層工藝難度和成本均較大。有鑒于此，本專利技術人為克服上述缺陷，提出一種折射率連續漸變的光學薄膜制備方法，本案由此產生。
技術實現思路
本專利技術的目的在于提供一種折射率連續漸變的光學薄膜制備方法，通過對蒸鍍光學薄膜的密度進行連續性控制，實現蒸鍍光學薄膜的折射率的連續控制，制得光學薄膜產品具有更好的光學性能，可有效增加對光的穿透或反射的控制。為了實現上述目的，本專利技術的技術方案如下：一種折射率連續漸變的光學薄膜制備方法片，包括以下步驟：一、樣品臺設置：提供一基底，將基底設置在通過轉動軸實現轉動的樣品臺上，且樣品臺的轉動軸與基底表面平行，二、材料源設置：提供一蒸鍍源或濺射靶材，調整蒸鍍源或濺射靶材位置，使其向基底入射的方向與樣品臺的轉動軸垂直，蒸鍍源或濺射靶材入射方向與基底之間形成可變化的夾角；三、鍍膜控制：蒸鍍源或濺射靶材向樣品臺上的基底送入鍍膜材料，此時不斷轉動樣品臺并控制轉速，使基底與蒸鍍源或濺射靶材之間的夾角在0-90°內連續變化，制得密度可連續變化的光學薄膜。所述轉動軸安裝在樣品臺的中線上。采用上述方案后，本專利技術具有以下優點：1、通過不斷變化基底與蒸鍍源或濺射靶材之間的夾角，對所蒸鍍光學薄膜的密度進行連續性控制，實現光學薄膜折射率的連續變化；2、通過控制樣品臺轉速和轉動方向，即可隨意控制所鍍光學薄膜折射率趨勢，可以從由大到小，由小到大，或者周期性變化；3、本專利技術制備的光學薄膜具有連續變化的光學性能，可用于太陽能電池，光電探測器，LED，LD等光學器件中，以增加光的穿透，反射等特性。總之，本專利技術的倒裝LED芯片生產流程更為簡易，成本較低，發光效率高。附圖說明圖1是本專利技術光學薄膜制備過程圖。具體實施方式如圖1所示，本專利技術揭示的一種折射率連續漸變的光學薄膜制備方法，一、樣品臺設置：提供一基底1（即樣品），將基底1設置在通過轉動軸實現轉動的樣品臺2上，且樣品臺2的轉動軸與基底表面平行，二、材料源設置：提供一蒸鍍源或濺射靶材3，調整蒸鍍源或濺射靶材3的位置，使其向基底1入射的方向與樣品臺2的轉動軸垂直，蒸鍍源或濺射靶材3入射方向與基底之間形成可變化的夾角；三、鍍膜控制：蒸鍍源或濺射靶材3向樣品臺上的基底送入鍍膜材料31，此時不斷轉動樣品臺并控制轉速，使基底1與蒸鍍源或濺射靶材3之間的夾角在0-90°內連續變化，制得密度可連續變化的光學薄膜。將轉動軸安裝在樣品臺的中線上，然后將蒸鍍源或濺射靶材3對準基底的中心點，鍍膜材料31可均勻的分布在基低1上。以上僅為本專利技術的具體實施例，并非對本專利技術的保護范圍的限定。凡依本案的設計思路所做的等同變化，均落入本案的保護范圍。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種折射率連續漸變的光學薄膜制備方法，其特征在于：包括以下步驟一、樣品臺設置：提供一基底，將基底設置在通過轉動軸實現轉動的樣品臺上，且樣品臺的轉動軸與基底表面平行，二、材料源設置：提供一蒸鍍源或濺射靶材，調整蒸鍍源或濺射靶材位置，使其向基底入射的方向與樣品臺的轉動軸垂直，蒸鍍源或濺射靶材入射方向與基底之間形成可變化的夾角；三、鍍膜控制：蒸鍍源或濺射靶材向樣品臺上的基底送入鍍膜材料，此時不斷轉動樣品臺并控制轉速，使基底與蒸鍍源或濺射靶材之間的夾角在0?90°內連續變化，制得密度可連續變化的光學薄膜。

【技術特征摘要】
1.一種折射率連續漸變的光學薄膜制備方法，其特征在于：包括以下步驟一、樣品臺設置：提供一基底，將基底設置在通過轉動軸實現轉動的樣品臺上，且樣品臺的轉動軸與基底表面平行，二、材料源設置：提供一蒸鍍源或濺射靶材，調整蒸鍍源或濺射靶材位置，使其向基底入射的方向與樣品臺的轉動軸垂直，蒸鍍源或濺射靶材入射方向與基...

【專利技術屬性】
技術研發人員：陳亮，李俊賢，呂奇孟，吳奇隆，陳凱軒，張永，
申請(專利權)人：廈門乾照光電股份有限公司，
類型：發明
國別省市：福建;35