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    氫氣生成裝置制造方法及圖紙

    技術編號:14757706 閱讀:352 留言:0更新日期:2017-03-03 02:43
    本發(fā)明專利技術提供一種氫氣生成裝置,具備:包含箱體(20)、第1室(21)、第2室(22)、隔膜(25)以及一對電極板(23、24)的電解槽(2);貯存被電解水(W)的容器(6);向所述一對電極板施加直流電壓的電源(3);向設置了成為陰極的電極板的所述第1室或所述第2室導入對生成的氫氣進行稀釋的稀釋氣體的稀釋器(4);檢測賦予成為所述陰極的電極板的電量的電量檢測器(51);檢測基于所述稀釋器的稀釋氣體的流量的流量檢測器(52);根據由所述電量檢測器檢測出的電量以及由所述流量檢測器檢測出的流量,對所述稀釋后的氫氣的濃度進行運算的運算器(5);和提示由所述運算器運算得到的氫氣的濃度的提示器(54)。

    【技術實現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術涉及氫氣生成裝置
    技術介紹
    作為氫氣的體內吸入裝置,已知一種裝置,通過在從氫氣產生裝置向鼻孔套管的導管的一部分安裝空氣混合器,從而調整所供給的氫氣的濃度(專利文獻1)。在該氫氣的體內吸入裝置中,在混合器與鼻孔套管之間的氣體流路上設置氫氣濃度檢測傳感器,根據由氫氣濃度檢測傳感器所檢測的氫氣的濃度,從而使用電解電流值控制裝置對施加給氫氣產生裝置的電流值進行反饋。在先技術文獻專利文獻專利文獻1:JP特開2009-5881號公報
    技術實現(xiàn)思路
    專利技術要解決的課題另外,在使用這種氫氣生成裝置使患者吸入氫氣的情況下,為了確認氫氣濃度是否為適當的值,期望在裝置中顯示氫氣濃度。作為一般的氫氣濃度檢測傳感器,已知:使用了選擇性地吸收氫氣而電阻值發(fā)生可逆性變化的吸氫合金等的傳感器設備(JP特開2005-256028號公報)、使用了與利用光催化劑作用由光催化劑層氧化分解得到的試樣氣體接觸而電阻值發(fā)生可逆性變化的薄膜層的傳感器設備(JP特開2005-214933號公報)等。但是,若在上述現(xiàn)有技術的氫氣濃度檢測傳感器使用這種傳感器設備,則由于包含氫氣的水分,存在傳感器設備的壽命縮短這樣的問題。本專利技術要解決的課題在于,提供一種無需使用對水分脆弱的氫氣濃度檢測傳感器便能夠準確地提示所生成的氫氣的濃度的氫氣生成裝置。用于解決課題的手段本專利技術在使用電解槽來生成氫氣的方式中,通過根據賦予陰極的電量以及此時的氫氣的流量對氫氣濃度進行運算,從而解決上述課題。專利技術效果根據本專利技術,無需使用對水分脆弱的氫氣濃度檢測傳感器,便能夠準確地提示所生成的氫氣的濃度。附圖說明圖1是表示本專利技術所涉及的氫氣生成裝置的一實施方式的整體構成圖。圖2是表示本專利技術所涉及的氫氣生成裝置的另一實施方式的主要部分構成圖。圖3是表示本專利技術所涉及的氫氣生成裝置的又一實施方式的主要部分構成圖。圖4是表示本專利技術所涉及的氫氣生成裝置的又一實施方式的主要部分構成圖。圖5是表示本專利技術所涉及的氫氣生成裝置的又一實施方式的主要部分構成圖。圖6是表示本專利技術所涉及的氫氣生成裝置的又一實施方式的主要部分構成圖。圖7是表示本專利技術所涉及的氫氣生成裝置的又一實施方式的主要部分構成圖。圖8是表示本專利技術所涉及的氫氣生成裝置的又一實施方式的主要部分構成圖。具體實施方式以下所說明的本專利技術所涉及的氫氣生成裝置1例如是以包含細胞、臟器的生物體(人以及動物)的健康維持、功能維持、疾病改善、功能改善、健康診斷或功能測量為目的,能夠用于向生物體供給所生成的氫氣的氫氣生成裝置。作為所生成的氫氣向生物體的供給手段,包含:基于從鼻腔、口腔吸入氫氣的方式的供給、基于向皮膚、臟器曝露氫氣的方式的供給、基于向皮膚、臟器吹入氫氣的方式的供給、基于向如液狀藥劑、臟器保存液等那樣的以應用于生物體為前提的生物體應用液曝露氫氣的方式的供給、基于向生物體應用液吹入氫氣的方式的供給、基于從保存生物體的容器或電路的外側使氫氣進行擴散的方式的供給等。但是,本專利技術的目的在于提供一種如上所述無需使用對水分脆弱的氫氣濃度檢測傳感器,便能夠準確地提示所生成的氫氣的濃度的氫氣生成裝置,因此關于所生成的氫氣的用途并無任何限定。圖1是表示本專利技術所涉及的氫氣生成裝置1的一實施方式的整體構成圖。本實施方式的氫氣生成裝置1具備:電解槽2、貯存被電解水W的容器6、向設置于電解槽2的一對電極板23、24施加直流電壓的電源3、導入用于稀釋所生成的氫氣的稀釋氣體的稀釋器4、檢測賦予成為陰極的電極板23或24的電量的電量檢測器51、檢測基于稀釋器4的稀釋氣體的流量的流量檢測器52、檢測稀釋后的氫氣的溫度的溫度檢測器53、對稀釋后的氫氣的濃度c進行運算的運算器5、提示由運算器5進行運算而得到的氫氣的濃度c的提示器54、和檢測貯存在容器中的被電解水的電阻值的電阻檢測器55。電解槽2構成為包含:箱體20、形成在該箱體20內且導入被電解水W的第1室21、在箱體20內與第1室21分開設置的第2室22、被設置于箱體20內的第1室21與第2室22之間的隔膜25、以及分別被設置于第1室21以及第2室22的一對電極板23、24。箱體20由塑料等電絕緣性材料形成,除了后述的被電解水入口201、氣體出口202、稀釋氣體入口203以及混合氣體出口204以外,構成為維持水密以及氣密的狀態(tài)。箱體20的內部被隔膜25隔開為第1室21和第2室22。此外本實施方式的一對電極板23、24均與隔膜25接觸設置。而且,被設置于導入被電解水W的第1室21的電極板23與直流電源的陽極(+)連接,被設置于第2室22的電極板24與直流電源的陰極(-)連接。以下,也將與陽極連接的電極板稱為陽極板,將與陰極連接的電極板稱為陰極板。在圖1所示的例子中,在第1室21中設置了陽極板23,在第2室22中設置了陰極板24。作為本實施方式的隔膜25,期望使用使氫離子透過而不使氫氧離子透過的陽離子交換膜。此外,若考慮離子傳導性、物理強度、阻氣性、化學穩(wěn)定性、電化學穩(wěn)定性、熱穩(wěn)定性等諸因素,則能夠適當地使用作為電解質基而具備磺酸基的全氟系磺酸膜。作為這樣的膜,可以列舉作為具有磺酸基的全氟乙烯基醚與四氟乙烯的共聚物膜的全氟磺酸膜(注冊商標,杜邦公司制)、Flemio膜(注冊商標,旭硝子公司制)、Aciplex膜(注冊商標,旭化成公司制)等。此外,本實施方式的一對電極板23、24例如能夠使用以鈦板為基材,并包覆了從鉑、銥、鈀等的群中選擇的1種或2種以上的貴金屬膜的電極板。但是,并不僅限定于此,例如也可以使用無垢的不銹鋼板。另外,設置于第1室21的陽極板23不一定需要與隔膜25接觸設置,也可以與隔膜25空開規(guī)定距離而設置。此外,設置于第2室22的陰極板24與隔膜25接觸設置,但在隔膜25與陰極板24之間形成水膜的程度地接觸即可,因此不必一定進行壓接。電源3構成為包含:與商用交流電源等連接的插座31、和將該商用交流電流變換為直流電流的AC/DC轉換器32。但是,為了提供便攜式的(可隨身攜帶到各處的)氫氣生成裝置1,作為電源3,也能夠取代插座31以及AC/DC轉換器32而使用一次電池或二次電池等直流電源。在本實施方式的氫氣生成裝置1中,在將AC/DC轉換器32與陰極板24進行連接的電線上設置了作為電量檢測器51的電流表。投入被電解水W的容器6被設置于比電解槽2更靠近鉛垂方向的上側的位置處,設置于容器6的底面的被電解水出口61和設置于第1室21的下部的被電解水入口201通過軟管62連接,設置于第1室21的上部的氣體出口202和設置于容器6的氣體入口63通過軟管64連接。并且,氣體入口63與在容器6的內部相比于容器6的底面向鉛垂上方立起延伸的氣體排出塔65連通,氣體排出塔65的前端開口。此外,在連接被電解水出口61與被電解水入口201的軟管62的中途設置有三向閥66,在其中之一連接了排放管67。排放管67用于廢棄導入到第1室21中的被電解水W。另外,不必一定通過軟管64將設置于第1室21的上部的氣體出口202與設置于容器6的氣體入口63進行連接,也可以將能夠投入到容器6中的被電解水W的容積設為第1室21的容積以下,將第1室21的氣體出口202形成在該第1室21的頂面。本實施本文檔來自技高網...
    氫氣生成裝置

    【技術保護點】
    一種氫氣生成裝置,具備:電解槽,其包含:箱體、形成在所述箱體內且被導入被電解水的電解室、設置于所述電解室的至少一對電極板、以及導出包含在所述電解室生成的氫的氣體的氣體出口;電源,其向所述一對電極板施加直流電壓;檢測賦予所述電極板的電量的電量檢測器或檢測對包含所述氫的氣體進行稀釋的稀釋氣體的流量的流量檢測器的至少一方;運算器,其根據由所述電量檢測器檢測出的電量或由所述流量檢測器檢測出的流量的至少一方,對所述稀釋后的氫氣的濃度進行運算;和提示器,其提示由所述運算器運算得到的氫氣的濃度。

    【技術特征摘要】
    2015.08.11 JP 2015-158735;2016.03.31 JP 2016-072951.一種氫氣生成裝置,具備:電解槽,其包含:箱體、形成在所述箱體內且被導入被電解水的電解室、設置于所述電解室的至少一對電極板、以及導出包含在所述電解室生成的氫的氣體的氣體出口;電源,其向所述一對電極板施加直流電壓;檢測賦予所述電極板的電量的電量檢測器或檢測對包含所述氫的氣體進行稀釋的稀釋氣體的流量的流量檢測器的至少一方;運算器,其根據由所述電量檢測器檢測出的電量或由所述流量檢測器檢測出的流量的至少一方,對所述稀釋后的氫氣的濃度進行運算;和提示器,其提示由所述運算器運算得到的氫氣的濃度。2.一種氫氣生成裝置,具備:電解槽,其包含:箱體、形成在所述箱體內且被導入被電解水的電解室、設置于所述電解室的至少一對電極板、以及向所述電解室導入稀釋氫氣的稀釋氣體的稀釋氣體入口;電源,其向所述一對電極板施加直流電壓;檢測賦予所述電極板的電量的電量檢測器或檢測所述稀釋氣體的流量的流量檢測器的至少一方;運算器,其根據由所述電量檢測器檢測出的電量或由所述流量檢測器檢測出的流量的至少一方,對所述稀釋后的氫氣的濃度進行運算;和提示器,其提示由所述運算器運算得到的氫氣的濃度。3.一種氫氣生成裝置,具備:電解槽,其包含:箱體、形成在所述箱體內且被導入被電解水的第1室、在所述箱體內與所述第1室分開設置的第2室、被設置在所述箱體內的所述第1室與所述第2室之間的隔膜、以及分別被設置于所述第1室以及所述第2室的一對電極板;容器,其貯存所述被電解水;電源,其向所述一對電極板施加直流電壓;稀釋器,其向設置了成為陰極的電極板的所述第1室或所述第2室導
    \t入對生成的氫氣進行稀釋的稀釋氣體;檢測賦予成為所述陰極的電極板的電量的電量檢測器或檢測基于所述稀釋器的稀釋氣體的流量的流量檢測器的至少一方;運算器,其根據由所述電量檢測器檢測出的電量或由所述流量檢測器檢測出的流量的至少一方,對所述稀釋后的氫氣的濃度進行運算;和提示器,其提示由所述運算器運算得到的氫氣的濃度。4.根據權利要求1~3中任一項所述的氫氣生成裝置,其中,還具備檢測稀釋后的氫氣的溫度的溫度檢測器,所述運算器根據由所述電量檢測器檢測出的電量、由所述流量檢測器檢測出的流量以及由所述溫度檢測器檢測出的溫度,對所述稀釋后的氫氣的濃度進行運算。5.根據權利要求3所述的氫氣生成裝置,其中,還具備檢測貯存在所述容器中的被電解水的電阻值的電阻檢測器,所述運算器在由所述電阻檢測器檢測出的電阻值不在規(guī)定范圍內的情況下,禁止從所述電源向所述一對電極板的直流電壓的施加。6.根據權利要求3...

    【專利技術屬性】
    技術研發(fā)人員:黑川亮介田中賢治佐藤文武佐藤文平
    申請(專利權)人:水株式會社
    類型:發(fā)明
    國別省市:日本;JP

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